EDA在提高对可制造性设计(DFM)问题的认识方面起了很大的作用，但是集成化的DFM解决方案仍然鲜见，特许半导体制造公司平台联盟高级总监Walter Ng表示。Ng在SPIE先进光刻大会上发表演讲时向供应商详细说明了由特许和三星发起的公共平台联盟是为DFM所用，并列举了经常被重复的抱怨：EDA供应商还不能将DFM完全集成到流程内。
“已经有一些好的点工具，”Ng说，“但这些点工具的价值有限，除非我们能将它们集成到流程内。”Ng表示，公共平台联盟如今除IBM和特许之外包含三星电子、英飞凌科技和飞思卡尔半导体公司，已与Cadence Design Systems、Synopsys和Magma Design Automation合作在布局布线工具内集成了DFM功能。迄今为止，合作已使布线器产生了“少许改变”，Ng说道，并补充说他认为三大供应商已几乎要采取一些大的举措，“真正为布线增添一些灵巧型的东西。”
Ng表示，该联盟正推动供应商在工具流内纳入化学机械抛光(CMP)、光刻和关键区域分析(CAA)。他承认，“但是我们可能还要一年或更久才能获得包含这些功能的集成流程。”
Ng指出，对DFM的定义仍然没有一致看法。他表示，设计师解决问题方法的差异经常很大。“业内对DFM定义的讨论很多，”Ng说，“不同的客户有不同的理解，期望拥有不同的方法。”
尽管业内专家建议，DFM意味着采取较保守的方法进行设计来改进良品率，一些设计师将此视为进行较大胆设计的机会。Ng呼吁对DRM的成果进行标准化，声称此举将减少DFM实现成本，“令EDA供应商专注于工具，而不是就接口和模型格式争斗不休。”
被问到继CMP和CAA之后工艺变化性的下一个领域是什么时，Ng拒绝回答，称有太多可以列出的可能性。他补充说，任何一种可能性的重要性还有待时日观察。“如果不能明确这些因素可能产生的总体影响，那么就不会吸引设计师的关注。”
在演示中，Ng罗列了公共平台联盟DFM合作伙伴的名单。名单如下：
Simulated yield optimization and leakage reduction: Blaze DFM
DFM校验：Mentor Graphics Corp.
DFM布线器增强： Cadence、Synopsys和Magma
CMP仿真： Cadence
Shape仿真：Clearshape Technologies Inc.、Mentor
仿真良品率优化和泄漏减少：Blaze DFM
