IIC Shanghai - 2025国际集成电路展览会暨研讨会
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时间:2025年3月27-28日
地址:上海金茂君悦大酒店
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2025中国IC设计成就奖
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深圳市虹美功率半导体有限公司
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储能 SGT MOS–HMS330N10/D/LL(TO-220/TO-263/TOLL-8L)
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SHENZHEN HONGMEI POWER SEMICONDUCTOR CO.,LTD
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储能 SGT MOS–HMS330N10/D/LL(TO-220/TO-263/TOLL-8L)
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2025中国IC设计成就奖 - 功率器件/宽禁带器件
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虹美功率:HMS330N10/D/LL(TO-220/TO-263/TOLL-8L)
技术特点:N沟道,330A,耐100V,超级沟槽工艺,内阻更低,结电容低,开关损耗低,响应速度快
设计特色:有做VTH分档测试
应用优势:可以用于储能/户外电源等产品并联应用
销量业绩:500-1000万元/年
2025中国IC设计成就奖
时间:2025年3月27-28日
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储能 SGT MOS–HMS330N10/D/LL(TO-220/TO-263/TOLL-8L)
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