AI驱动的时代，高度集成的高速光互连和光学IO自动化设计解决方案变得极为关键，PIC Studio应运而生，PIC Studio整合了PhotoCAD、pSim、pSim Plus、Advanced SDL 和 pMaxwell 等工具，为光电元件、链路、系统、异质集成及光电共封装（CPO）设计提供全面且具有开放接口的工具链，并实现数据库的互联互通，为用户提供了极大的灵活性和便利，已经在光通信、高速光连接、微波光子、光电子计算以及传感技术等多个尖端领域展现了其重要价值。
与竞争对手相比，PIC Studio有诸多优势：
1. 集成解决方案：与竞争对手可能提供不同阶段的独立工具不同，PIC Studio提供了一个从组件到系统级别的统一环境。
2. 综合仿真：集成电路和系统级仿真，减少了对外部工具的需求，降低对个别工具，如Lumerical, VPI Photonics、Spice或MATLAB的需求。
3. PDK支持：支持各种工艺厂PDK，流程比一些竞争对手更精简。
4. 自动化：用于自动化布局和设计任务的高级功能，比竞争工具更智能、版图产出速度快10倍以上。
5. 协同仿真：强调电子光子协同设计和协同仿真，相较于其他纯光子设计工具，PIC Studio能解决更广泛的问题。