2024年度全球电子成就奖 / TDK / 智能多层氮化铝 (AlN) 基板
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智能多层氮化铝 (AlN) 基板
成功入围,正在参加评选 2024年度全球电子成就奖 - 年度高性能无源/分立器件
由碳化硅 (SiC) 和氮化镓 (GaN) 制成的宽带隙 (WBG) 功率半导体越来越多地应用于风力涡轮机、光伏 (PV) 逆变器、电动汽车 (EV) 牵引逆变器和 EV 快速充电器等应用。虽然这些新半导体提高了这些应用的功率密度,但它们在散热方面存在困难,因为功率损耗密度也在增加,而芯片尺寸却在减小。
TDK的新型智能氮化铝 (AlN) 多层基板在功率密度、可靠性和紧凑尺寸方面突破了这些宽带隙半导体的界限。它是实现更高效的电动汽车、更轻更紧凑的 PV 逆变器或在现有占地面积内显着提高输出功率的关键。TDK为所有高功率应用开发和定制特定的 AlN 封装和基板。它是智能多层基板的解决方案提供商,将设计带入批量生产。一切都来自单一来源,在欧洲制造。按照最高行业标准进行测试、验证和批准。
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