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来看Intel博物馆：有386/奔腾II，还有手工刻的掩膜...

时间：2024-03-06 来源：

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70年代之前，掩膜（mask）制造流程是首先把电路设计手工刻在图中名为rubylith的材料上——这是一种两层材料。之后通过photoreduction的流程，将图案缩小到真正的掩膜上。

70年代之前，掩膜（mask）制造流程是首先把电路设计手工刻在图中名为rubylith的材料上——这是一种两层材料。之后通过photoreduction的流程，将图案缩小到真正的掩膜上。

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制造/封装处理器/DSP

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