根据电子材料市场研究的TECHCET发布最新统计和预测数据:2021年半导体行业将所需的光刻市场规模同比增长11%,价值达到19亿美元。对于制造工艺中不可缺少的EUV,其应用范围正在从逻辑芯片扩展到DRAM。ASML在2020年生产了35台大型NXE:3400系列光刻机,由于不断的提高了组装效率,预计到2021年可以出货50台。与此同时,到2021年,EUV光刻胶市场将比上一年翻一番,超过2000万美元,并且此后还将继续增长,预计到2025年,市场规模将超过2亿美元。未来市场的占有率将会更大。
半导体光刻胶的价值
根据应用领域分类,光刻胶技术主要包括印刷PCB、光刻机专用化学品、液晶显示器、半导体光刻胶等。本文主要讨论半导体光刻胶技术的发展。光刻工艺约占整个芯片制造成本的35%,耗时占整个芯片工艺的40%~60%,是半导体制造中最核心的工艺。在光刻工艺中,光刻胶被涂抹在衬底上,经过多种工艺,将掩膜版上的图形转移到衬底上,形成完全对应的几何图形。
光刻技术随着IC设计不断地发展,为了满足对集成电路工艺要求的水平,半导体用光刻胶通过不断缩短曝光波长以提高极限分辨率,世界芯片工艺水平目前已跨入微纳米级别,光刻胶的波长由紫外宽谱逐步至g线(436nm)、i线(365nm)、KrF(248nm)、 ArF(193nm)、F2(157nm),以及最先进的EUV(<13.5nm)线水平。目前,市场主要使用的包括g线、i线、KrF、ArF四类光刻胶,其中g线和i线光刻胶是市场上使用量最大的。KrF和ArF光刻胶核心技术基本被日本和美国企业所垄断。这也是国产半导体发展的关键问题。光刻胶不仅需要对工艺复杂等特征,还需要相应的设备与之匹配。通常来说,一个芯片在制造过程中需要10-50道过程,由于需求的芯片,不同的芯片厂商也会有不同的要求,因此满足多种化应用需求,也是制造商的核心问题。
光刻胶的曝光波长由宽谱紫外向g线→i线→KrF→ArF→EUV(13.5nm)的方向移动。随着曝光波长的缩短,光刻胶所能达到的极限分辨率不断提高,光刻得到的线路图案精密度更佳,而对应的光刻胶的价格也更高。为了实现7nm、5nm制程,传统光刻技术遇到瓶颈,EUV(13.5nm)光刻技术呼之欲出,台积电、三星等企业也在相关领域进行布局。EUV光刻光路基于反射设计,不同于上一代的折射,其所需光刻胶主要以无机光刻胶为主,如金属氧化物光刻胶。
市场布局
目前,全球的半导体光刻胶技术市场被日本和美国企业所垄断,光刻胶技术属于高端行业,生产过程比较复杂,需要长期的技术累计。在g/i线光刻胶领域,日本和美国企业合计市占率超过85%。根据2019年的数据,前五大厂商就占据了全球光刻胶市场 87%的份额,这5家企业中,日本占有四家,分别是JSR、东京应化(TOK)、日本信越与富士电子材料,这四家的市场份额就达到了72%,全部日本企业份额总和超过75%。
中国国内光刻胶整体技术水平与国际先进水平存在很大差距,自给率仅约10%,且主要集中在技术含量较低的PCB光刻胶领域,半导体光刻胶和LCD光刻胶自给率较低。目前国内光刻胶主要上市企业有晶瑞股份、南大光电和上海新阳、北京科华微等。
中国半导体市场
随着中国企业在半导体行业关键技术取得重大突破,以及半导体行业快速发展和供应链自主可控带来的发展机遇,给国内的的企业发展也带来了足够的动力。
另外,政府在政策扶持方面也给国内相关企业发展提供了保障,例如,在2020年9月,国家发改委等四部门联合印发《关于扩大战略性新兴产业投资 壮大新增长点增长极的指导意见》提出,加快在光刻胶、高纯靶材、高温合金、高性能纤维材料、高强高导耐热材料、耐腐蚀材料、大尺寸硅片、电子封装材料等领域实现突破,以保障大飞机、微电子制造、深海采矿等重点领域产业链供应链稳定。
在政府和全社会的共同努力下,近两年中国主要企业不断地努力突破封锁,取得了很大的成绩,例如,晶瑞股份2020年度净利润约为0.69亿~0.83亿元,同比增长120.02%~164.08%,增幅居首。晶瑞股份是国内半导体行业的龙头,包括了生产多种技术发明。其产品包含紫外负型光刻胶和宽谱正胶及部分g线,i线正胶等高端产品。瑞红拥有达到国际先进水平的光刻胶生产线,实行符合现代微电子化学品要求的净化管理,配备了一流的光刻胶检测评价装置,并承担了国家重大科技项目02专项“i线光刻胶产品开发及产业化”项目,在国内率先实现了IC制造商大量使用的核心光刻胶,即i线光刻胶的量产,产品采用步进重复投影曝光技术,可实现高分辨率。
总结
当前,全球的半导体行业都在增大生产,无论是先进工艺、还是成熟时期,都进入了一段黄金发展时期,这带来了很多的挑战和机遇,具有很大的提升空间。
根据十四五规划,要实现半导体行业供应链本土化,就要大力的发展科技行业,重点面向一些领域,主要包含材料和辅助材料等,这使得这一市场值得人们关注。
(图源:千家网,侵删)
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