碳化硅(SiC)技术正在彻底改变电力电子行业,使各种应用实现更高的效率、更紧凑的设计和更好的热性能。意法半导体(ST)、安森美(onsemi)、Wolfspeed、罗姆半导体(ROHM)和英飞凌(Infineon)等领先制造商均提供SiC解决方案,可根据特定用例提供分立器件、功率模块或裸片形式的产品。
英飞凌
英飞凌在SiC开发领域拥有超过20年的专业经验,公司采用基于沟槽的设计,以充分利用SiC MOSFET的低RDS(on)特性,同时确保安全的氧化物场强操作。
与硅基器件不同,SiC MOSFET在阻断模式下的漏极感应电场要高得多,这可能会在导通和关断工作期间加速氧化层的退化。为了应对这一挑战,英飞凌采用了深p区来实现关断状态应力保护,并采用厚氧化层来最大限度地降低通态工作期间的缺陷脆弱性。

CoolSiC MOSFET沟槽概念是专为增强体二极管性能而设计的,它通过将沟槽底部嵌入p+区域来增加有效二极管面积。这种沟槽单元设计(图1)还可在通态和断态工作期间降低栅极氧化物中的电场强度,从而确保长期可靠性。
图1:英飞凌CoolSiC MOSFET单元结构。(来源:英飞凌)
意法半导体
意法半导体的SiC器件产品组合基于STPOWER系列SiC MOSFET,额定电压为650V至2200V,具有业界最高的200℃结温额定值。这些MOSFET符合汽车级(AG)标准,可承受极高温度,确保了在要求苛刻的应用中的可靠性和性能。
第四代STPOWER SiC MOSFET技术在电源效率、功率密度和鲁棒性方面树立了新的标杆,满足了电动汽车(EV)牵引逆变器的需求。意法半导体即将推出的750V和1200V级别的SiC MOSFET器件旨在提高400V和800V电动客车牵引逆变器的能效和性能,为中型和紧凑型电动汽车带来SiC技术的优势。
虽然意法半导体在其第一代至第四代SiC MOSFET中采用了平面技术,但该公司目前正在探索沟槽结构作为下一代技术。此外,该公司已成功通过了其第四代SiC技术平台750V级的认证,并预计在2025年第一季度完成1200V级的认证。
罗姆
2010年,罗姆成为全球第一家实现平面结构SiC MOSFET量产的公司。此后,作为SiC领域的领导者,该公司不断推动技术进步,包括在2015年推出沟槽结构,标志着其SiC MOSFET已发展到第三代,并显著缩小了其尺寸。罗姆进一步完善了其沟槽结构,并开始量产其第四代SiC MOSFET。
罗姆的第四代SiC MOSFET设计具有低导通电阻,同时保持了短路耐受能力。它们降低了开关损耗,并兼容15V栅源电压,从而提高了电源效率。这些器件适用于电动汽车牵引逆变器和开关电源等应用,在这些应用中,系统尺寸和功耗是关键考虑因素。
安森美
安森美的SiC MOSFET设计兼具快速运行和耐用性。这些器件具有高效率、系统尺寸紧凑和成本效益高的优势。与硅MOSFET相比,SiC MOSFET具有更高的阻断电压、更强的热传导性、更低的导通电阻和高得多的击穿强度。
采用SiC MOSFET的系统通常能实现更高的性能和效率,包括以更高的开关频率工作。它们还能够在高温下保持高效运行,因此适用于高温应用。此外,由于电感器和滤波器等辅助元件的尺寸较小,使用SiC MOSFET可以使系统更加紧凑。
Wolfspeed
作为SiC技术的先驱,Wolfspeed通过推出第三代650V SiC MOSFET,巩固了其在SiC技术领域的领先地位。这些先进的器件可在更广泛的电源系统中实现更紧凑、更轻便、更高效的电源转换。
650V SiC MOSFET特别适合高性能工业电源、服务器和电信电源解决方案、电动汽车充电站、储能系统、不间断电源(UPS)和电池管理系统等应用。
Wolfspeed的650V SiC MOSFET采用晶体管外形无引线(TOLL)封装,具有紧凑的占用空间、更低的损耗和高功率耗散能力(图2),可实现高功率密度设计。
图2:采用TOLL封装的Wolfspeed C3M SiC MOSFET可实现更高的热性能。(来源:Wolfspeed)
比较不同器件
现在让我们对不同制造商的一些650V等级SiC功率MOSFET进行粗略比较。我们将重点关注针对通用工业应用的器件,例如:
- 开关电源(SMPS)
- UPS
- DC/DC转换器
- 电动汽车充电
- 太阳能光伏逆变器
比较中考虑了以下分立式SiC MOSFET:
- 英飞凌IMBG65R010M2H:这款第二代CoolSiC MOSFET 650V采用PG TO263 7封装,完全符合JEDEC工业应用标准。
- ST 650V SiC功率MOSFET SCT014TO65G3:这款第三代SiC功率器件采用TOLL封装,在整个温度范围内具有低RDS(on)、低电容和高开关操作性能。
- ROHM 650V N沟道SiC功率MOSFET SCT3017AL:这款SiC MOSFET采用罗姆的第三代沟槽结构,采用TO-247N封装,适用于工业应用。
- Wolfspeed C3M0015065D:这款650V N沟道增强型器件采用TO-247-3封装,基于Wolfspeed第三代SiC MOSFET技术制造,实现了高效率和高功率密度,同时降低了冷却要求。
- 安森美NTBG015N065SC1:这款EliteSiC功率MOSFET采用D2PAK-7L封装,具有低导通电阻、低有效输出电容和超低栅极电荷的特性。
表1列出了所考虑器件的关键参数。
表1:从相应数据手册获得的关键参数。
关于前面数据分析的一些注意事项:
- 热阻(结到外壳或结到环境的热阻)越小,说明热性能越高,因此散热效果越好。
- 最高工作温度(表示器件可安全工作的最高温度)越高越好。
- 反向恢复电荷和反向恢复时间越短,表明体二极管的性能越好。
- 上升/下降时间和导通/关断时间与开关特性直接相关。需要注意的是,开关速度越快,动态损耗越小,但会增加电磁干扰(EMI)。
- 总栅极电荷表示MOSFET开关所需的总电荷。栅极电荷越低,开关速度越快,栅极驱动功耗也越低。
- 较低的RDS(on)可减少传导损耗,提高效率。
- 短路耐受时间(SWCT)代表MOSFET在短路条件下发生故障前的耐受时间,在所检查的数据手册中没有报告。
(原文刊登于EE Times姊妹网站Power Electronics News,参考链接:A Quick Comparison of Silicon Carbide (SiC) Solutions Across Leading Manufacturers,由Franklin Zhao编译。)
本文为《电子工程专辑》2025年3月刊杂志文章,版权所有,禁止转载。免费杂志订阅申请点击这里。
