近期,三星电子在 DRAM 领域的动态备受关注。据韩媒 ETNews 报道,三星电子为应对其 12nm 级 DRAM 内存产品在良率和性能方面的双重挑战,已决定在改进现有 1b nm 工艺的同时,从头设计新版 1b nm DRAM,该项目被命名为 D1B-P。同时他们还调整了第六代10纳米级(1C)DRAM的开发计划。
重新设计1b nm DRAM以应对良率和性能困局
三星在 2022 年和 2023 年先后宣布其 12nm 级 DDR5 DRAM 完成开发与批量生产。然而,此工艺在 LPDDR5x 等关键领域未能取得预期成功,致使三星 DS 部门失去了 Galaxy S25 系列手机初期内存一供的地位。
目前,现有 12nm 级 DRAM 工艺的良率仅为 60% 左右,远低于业界大规模量产所需的 80%~90%。为加速 D1B-P 项目的进展,三星电子已于 2024 年底紧急订购了必需设备,预计该制程将于 2025 年内量产,最早可能在今年 2 至 3 季度推出。
1C DRAM制程开发进度出现延迟
另一方面,三星电子的第六代 10 纳米级 1c DRAM 制程开发进度出现延迟。原本计划在 2024 年 12 月将 1c nm 制程 DRAM 的良率提升至 70%,达到结束开发工作、进入量产阶段所需的水平,但实际情况是,尽管三星在 2023 年末成功制得 1c nm DRAM 的良品晶粒,整体良率却无法满足要求。据市场人士透露,三星计划在未来六个月内将良率提升至约 70%。
三星上代 1b nm 内存于 2022 年 10 月完成开发、2023 年 5 月量产,若按新计划,1c DRAM 开发结束时间定于 2025 年中,量产则可能延后到 2025 年底,两代 DRAM 工艺间的间隔会来到约 2.5 年,这明显长于 1.5 年的业界一般开发周期。
在三星电子的竞争对手中,SK 海力士已于 2024 年 8 月底宣布完成 1c DRAM 开发,并计划在 2025 年 2 月开始量产 1c nm DRAM 芯片,成为全球首家运用 1c nm 工艺生产 DRAM 芯片的存储器供应商;美光则计划在 2025 年 4 月达成开发目标。这意味着三星很可能成为最后一家官宣 1c nm DRAM 的三大原厂。
1c nm DRAM 本身的推迟不仅影响了其核心产品 DDR5 内存的量产时间,也波及了高带宽存储器(HBM)的开发,因为HBM4的开发高度依赖1c nm DRAM技术。三星此前计划在 2025 年内量产基于 1c nm DRAM 和 4nm 逻辑芯片的 HBM4,以领先制程赢得竞争优势,此次延迟无疑将影响 HBM4 的整个市场布局。
应对策略和技术调整
为应对这一挑战,三星电子正在对 1c nm DRAM 的设计进行调整,并尽可能地加快开发时间。业内消息人士表示,能否在预定时间内实现量产仍存在不确定性。
在这场 DRAM 工艺的竞赛中,三星电子面临着良率和性能提升的双重压力,以及竞争对手的挑战。其后续的发展动态将受到业界的密切关注,而三星如何在竞争中把握机遇,将直接影响其未来的市场表现。