在晶圆代工市场,台积电仍居于主导地位。这也是众多厂商,特别是苹果与台积电深度绑定合作的原因。但“代工双雄”台积电与三星如何在先进芯片上展开竞争与较量,也值得我们关注。

今年6月,三星率先宣布量产3nm工艺芯片,但尽管工艺节点更先进,但似乎一直没有大客户支持。据悉,三星首发的3nm芯片订单来自一家国内的矿机芯片厂商,产量不可能很大,双方的合作更多地是象征意义。

之前有消息称三星已经接洽到了一个大客户,且是手机芯片行业的。原本以为是高通,但近日韩媒报道,三星与谷歌达成了合作,将使用3nm工艺为谷歌生产下一代智能手机Pixel 8系列的移动处理器。这应该是三星3nm芯片的首个大单。

代工Pixel 8系列手机芯片

据了解,三星3纳米芯片建立在Gate-All-Around(GAA)技术之上。与现有的FinFET工艺相比,该技术将使芯片面积减少45%,性能提高30%,功耗降低50%。三星3纳米量产时间早于台积电量。

那么,为什么三星要提前3纳米芯片量产计划呢?主要原因有两点:

一是提前量产,有利于抢先占据高端芯片代工市场份额。三星与台积电的市场份额差距加大,台积电在2021年第二季度占全球代工市场的58%,三星的份额为14%。根据市场研究公司 Counterpoint Research 的数据,第一季度,台积电的市场份额为55%,而三星为17%。

二是有利于开拓半导体制造新型技术战争,争夺技术优势主动权。三星电子和台积电都在生产基于 FinFet 技术的5纳米芯片。然而现阶段从市场反映来看,台积电在良率和性能方面占据上风。

因此,三星希望通过利用先进芯片工艺GAA技术拔得头筹,实现“不对称”竞争。但缘于一直以来相对较低的良率,三星花了近3个月才终得大单。

不过,由于Pixel 8系列手机发布要到2023年,三星的3nm手机芯片出货时间将拉长,今年内提升产能的希望不大。

据悉,除了手机芯片之外,谷歌早已跟三星联合开发新一代Tensor张量处理器, 且在2021年的Pixel 6手机上首次使用,现在已经是第三代。目前,Tensor处理器主要用于谷歌手机中,但谷歌计划扩展自己的芯片战略,未来平板、笔记本及服务器中都有可能会采用Tensor处理器。

三星3nm芯片真的领先?

尽管三星在芯片工艺“成功超越”,但事实上三星的GAA技术,即第一代3纳米芯片,跟台积电的5纳米技术差不多。

从技术角度来看,三星称,与前几代工艺使用FinFET技术不同,三星使用的全环绕栅极(gate-all-around,GAA)晶体管技术,使新开发的第一代3纳米工艺可以降低45%的功耗,性能提高23%,并减少16%的面积。而三星第二代3纳米(nm)工艺则使功耗降低50%,性能提升30%,芯片面积减少35%。”但显然,芯片面积减少35%并不能代表一个晶体管密度翻倍的数据。

有专业人士分析,与三星不同的是,台积电将采用较为成熟的FinFET(Fin Field Effect Transistor,FinFET)工艺,一直到2025年量产2纳米芯片时,才会采用GAA技术。这也意味着,三星、台积电将用不同架构设计的3纳米制程进行对决。在台积电的官方宣传中提到“相较于N5制程技术,N3制程技术的逻辑密度将增加约70%,在相同功耗下速度提升10-15%,或者在相同速度下功耗降低25-30%。”

实际上,从晶体管密度的角度来看,台积电5nm工艺明显强于三星第一代3nm工艺(GAE),第二代3nm工艺(GAP)才真正意义上超越台积电5nm工艺。据了解,第二代的3nm GAP工艺可以降低50%的功耗,提升30%的性能,同时面积减少35%,效果更好,但预计2024年才能量产。

另外,对于半导体芯片来说,晶体管密度是衡量性能的重要指标,但并非全部。事实上,从传统的MOS晶体管到FinFET晶体管、再到最新的GAA架构,除了提升晶体管密度外,降低内部漏电率、提升处理器运行频率同样重要。作为全新的晶体管结构,GAA可带来性能、功耗方面的优势,但使用新结构会在一定程度上影响到部分工艺参数。而台积电若在3nm工艺以及2nm工艺实现量产的话,无疑会给三星先进芯片工艺带来更大的压力。

由此可见,在晶圆代工市场,台积电仍居于主导地位。这也是众多厂商,特别是苹果与台积电深度绑定合作的原因。但“代工双雄”台积电与三星如何在先进芯片上展开竞争与较量,也值得我们关注。

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