ASML估计2018年将出货20套极紫外光(EUV)微影系统，并预期出货量在2019年将增加到30套以上...
荷兰半导体设备大厂ASML日前表示，该公司2018年将出货20套极紫外光(EUV)微影系统，该数量预期在2019年将增加到30套以上。
ASML是在最近发布的第二季财报中做出以上预估数字，该公司也透露其整体EUV工具销售业绩优于预期，达到约32亿美元；ASML首席执行官Peter Wennink表示，“毛利率比我们的预期略高，反映了我们的深紫外光(DUV)与应用业务的强劲表现，以及EUV获利进展。”
Peter Wennink
ASML在第二季出货4套EUV系统，比先前预测的多了1套；Wennink表示这是因为逻辑组件客户准备要在今年稍晚量产下一代产品。
被视为5纳米以下先进半导体制程重要推手的EUV微影技术终于在迟到数年后迈入量产阶段，包括三星(Samsung)、英特尔(Intel)与台积电(TSMC)都打算在明年采用EUV进行量产；不过EUV技术仍存在与光源、良率等方面的挑战。
而ASML表示，该公司现在已经证实能在NXE:3400B系列EUV系统的出货上，达到超过85%的4周交货期，并正在执行数个项目以期在2019年达到超过90%的如期交货。
Wennik还指出，ASML的DUV微影业务持续发展蓬勃，主要来自于内存市场需求；他表示该市场至少在今年与2019年仍然需要大量的微影系统。而ASML在2018上半年业绩表现亮眼，预期下半年也将维持成长力道，获利方面的成长可望延续至第三季、第四季。
展望第三季，ASML预期销售额在27亿至28亿欧元之间(约为31.5亿美元~32.6亿美元)。
编译：Judith Cheng
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