EUV微影技术投入生产将从7nm开始

荷兰微影业者ASML NV的高层主管在日前表示，随着业界持续朝着量产部署经常被延迟的下一代微影技术目标迈进，该公司预计明年将出货20至24套极紫外光(EUV)微影工具。

ASML总裁兼首席执行官Peter Wennink在发布该公司第一季财报后告诉分析师，该公司持续朝向其每小时生产125片晶圆、90%光源可用性的EUV目标进展。Wennink提到英特尔(Intel)、三星(Samsung)和台积电(TSMC)在近期举行的SPIE先进微影会议(SPIE Advanced Lithography Conference)上所进行的简报，展示其使用EUV系统的最新成果以及EUV基础设施现况。

Wennink说：“虽然目前仍在诸如光罩护膜(pellicle)等方面仍待完善，但依客户所指出的时间表来看，导入EUV似乎没有太大的障碍。”

经过多年来经常令人沮丧和痛苦的缓慢进展后，EUV如今已准备好在未来几年内投入生产了，预计将从7nm节点开始，由英特尔、台积电和三星等公司部署于其生产中；这三家公司都在ASML进行投资，作为客户投资计划的一部份，协助该公司开发相关技术。

ASML在日前表示，该公司目前未交货的订单有21台——其最先进的EUV工具NXE：3400B EUV系统，预计将在今年开始交货，总价值达23亿欧元(约24.6亿美元)。ASML还有14套较旧型的3300和3350系统仍在使用中，其中大部分预计将会进行升级。

半导体产业市场观察机构VLSI Research首席执行官G. Dan Hutecheson指出，ASML的报告并未提供有关EUV微影技术的新消息。“基本上一切依照计划进行，”Hutecheson说，“当然，现在的大问题是是否能真的把它放到系统可靠的地方，并使其完全融入生产？这正是现在大家都在做的。”

Wennink表示，尚未出货的21套系统来自五家独立客户的订单，估计大概就是英特尔、三星、台积电和Globalfoundries。Wennink表示，ASML目前还有两家EUV客户即将接单，显示示其他顶级芯片制造商正紧随英特尔、台积电和三星之后部署EUV。

“当然，很明显地，以导入EUV方面来看，英特尔、台积电和三星是‘前三大’，而其他公司则明显紧随其后，”Wennink说。

ASML在EUV方面的进展是其整体看来强劲成长的季报重点，在销售和利润上都超过了分析师的预期。

Wennink在电话会议上说：“今年一开始就是强劲成长的一季，我们预计这一动能将持续全年。”

ASML第一季的销售净额为19.4亿欧元(约20.8亿美元)，较上一季成长2%，并较去年同期成长46%。ASML报告其第一季净利为4.52亿欧元(约4.84亿美元)，较上一季下滑14%，但较去年同期增加了128%。

ASML预计第二季的销售额可望达到19亿欧元到20亿欧元之间，略低于分析师预期。

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