越有钱越抠？ASML微影技术未付专利费被尼康起诉

根据 EETimes 的报导，日本光学大厂尼康 （Nikon） 于 24 日表示，已对荷兰半导体设备大厂阿斯麦 （ASML Holding NV） 和合作伙伴卡尔蔡司 （Carl Zeiss AG） 提起法律诉讼，并表示 ASML 及 Carl Zeiss 两家公司在未经 Nikon 的许可下将其微影 （lithography） 技术专利用于光刻机上，并运用在半导体制造业中。

报导进一步表示，世界第 8 大芯片设备制造商 Nikon 在 24 日指出，已经在荷兰、德国和日本针对生产半导体光刻机的荷兰厂商 ASML 和旗下光电供应商 Carl Zeiss 提起了专利侵权案件。Nikon 在一份声明中指出，ASML 和 Carl Zeiss 在没有得到许可的情况之下，采用了 Nikon 的11项欧洲专利技术，运用在 ASML 的光刻机中。

光刻机是用在全球的半导体制造业中先进工艺不可缺少的设备，如此以进一步侵犯了 Nikon 的专利。Nikon 表示，正在寻求损害赔偿，并防止 ASML 和 Carl Zeiss 出售该技术。Nikon还举了德国曼海姆（Mannheim）的例子，其中涉及两项欧洲专利。

目前在全球的半导体设备市场中，ASML 主导半导体光刻机的产品。根据惠誉评级 （Fitch Ratings） 在 2017 年 1 月份的一份研究报告中指出，这家荷兰公司在这样的高端的半导体设备中，占有 90% 的市场占有率。而根据 ASML 在 19 日所公布的 2017 年第 1 季财报显示，第 1 季营收净利达 19.4 亿欧元，毛利率为 47.6%，EUV 极紫外光微影系统的未出货订单则累积到 21 台，价值高达 23 亿欧元。而且预估 ASML 在 2017 第 2 季营收净利将落在 19 到 20 亿欧元之间，毛利率约为 43% 到 44%。

ASML 的总裁兼CEO彼得·温尼克（Peter Wennink） 对于 Nikon 所发起的诉讼表示，Nikon 所提起的诉讼不但不必要，还毫无根据。而且，这还将对于全球半导体产业造成不确定性。他进一步指出表示，ASML 已多次尝试与 Nikon 协商延长交叉许可协议。

Nikon 则表示，法律诉讼是在由美国退休法官于 2016 年底进行的调解未成之后所决定发起的。两家公司之间的纠纷可追溯到2001年12月，当时尼康在美国提起侵权诉讼，根据 Nikon 的说法，诉讼提及的3 项微影技术专利，ASML 和 Carl Zeiss 两家公司分别在 2004 年支付 Nikon 8,700万 美元和 5,800 万美元的授权金。授权期限在 2009 年到期，尼康宣称在2010年开始尝试与ASML和卡尔蔡司重新谈判新协议，而 2014 年底其专利权的过渡期也到期之后，双方在 2016 年底经过调解协商延长交叉许可协议未成。

卡尔蔡司方面尚未发表评论。

市场调研公司VLSI总裁G. Dan Hutcheson表示：“奇怪的是这家公司怎么会糊涂到忘记签授权协议？我很惊讶ASML居然让事情进展到这一步，因为它们一点也不缺现金。”

“尼康是上世纪90年代初光刻系统的领导者，其份额超过60％。它是第一个公开研究今天浸没工艺的公司之一。然而，尼康选择继续在日本做研发，而ASML则通过与晶圆厂、芯片制造商合作方式获得了成功。今天，ASML在光刻市场上有84％的份额，浸没式步进工艺上更是占到93％。根据VLSI研究公司的数据，尼康现在只属于市场中的第二梯队，占整个国际市场份额的9％。“

Hutcheson说：“所以发生这起诉讼并不奇怪，尼康正在努力拿到他们投入浸没工艺研发的资金回报。”

案件中引用的欧洲专利号为1,598,855; 1,652,003; 1,881,521; 2,157,480; 2,264,531; 2,624,282; 2,717,098; 2,752,714; 2,765,595; 2,808,737;和2,937,734。日本专利号为4,604,452和5,708,546。

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