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纳米级别尺寸光探测器可与CMOS芯片整合了

时间:2016-08-02 14:28:00 作者:Christoph Hammerschmidt 阅读:
德国卡尔斯鲁厄理工学院 (KIT)研究人员成功开发了一种用以探测光学数据路径的创新光探测器,占位面积不到100平方微米…
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玻璃纤维(glass fibers)有可能成为信息时代的传输高速公路──德国卡尔斯鲁厄理工学院 (Karlsruhe Institute of Technology,KIT)研究人员成功开发了一种用以探测光学数据路径的创新光探测器(photo detector),是玻璃纤维接收端的核心零组件;此成果为该类组件的尺寸设立了新标准,研究人员声称其占位面积不到100平方微米 (micrometer),是整合到IC中的理想方案,而更令人印象深刻的则是其数据传输速率。

KIT 研究人员Sascha Mühlbrandt声称,新的光探测器是目前全球最小的光学数据传输组件,能为光通讯系统带来显著的性能提升,因为该组件能被整合到大量的光学半导体零 组件中;在该团队的实验中,研究人员达到了40Gbps的最高传输速率,足以在不到一秒的时间内传输一片DVD内的完整视频内容。Mühlbrandt坚 信其吞吐量仍有进一步增加的潜力:“此电浆内光电发射探测器(plasmonic internal photoemission detector,PIPED )是有史以来达到这么高数据传输速率的最小尺寸探测器;”他表示,该组件比传统光探测器小100倍。
20160801 KIT NT01P1
*KIT开发了一种电浆光电探测器,能直接与硅晶光波导耦合,而且尺寸不到1微米
(来源:KIT)*

这 种光探测器的超小尺寸,优势在于可与单一CMOS芯片上的下游预处理(downstream preprocessing)电路整合;KIT旗下的微结构技术研究所(Institute for Microstructure Technology)项目协调人Manfred Kohl表示,此创新电浆组件能支持计算机内芯片之间的高速数据传输,开启了结合电子与光学零件优势的可能性,实现比纯电子零件更高的数据吞吐量。

为 了在非常小的空间内结合光学与电子,KIT开发的光探测器利用了表面电浆极化子(surface plasmon polariton),能将金属介电边界(metallic-dielectric boundary)表面的电磁波高度集中。此新种类电浆转换器是以金属表面光波长的直接信号转换为基础,又称为光发射(photo emission);要有效控制光线吸收以及其转换成电子信号的状况,研究人员在钛-硅接面(titanium-silicon junction)产生载流子(charge carriers),并在另一个金-硅接面将之重组,而探测器的高速度就是透过其特殊几何尺寸所达成──在两个金属-硅接面之间的距离不到100纳米。

研 究人员认为,PIPED的概念不只是未来光学数据传输硅统的基础,也是无线数据传输系统的关键零组件;KIT旗下负责研究用以支持超高速信号处理之光-电 融合技术的HIRST (Helmholtz International Research School of Teratronics)研究所教授Christian Koos表示:“电浆零组件能被应用于无线高速数据通讯,并实现每秒1 terabit的数据传输速率。”

编译:Judith Cheng

本文授权编译自EE Times,版权所有,谢绝转载

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