FPGA开发圈专栏-面包芯语-电子工程专辑

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下午2点见！通快霍廷格电子等离子体电源解决方案大揭秘

FPGA开发圈 2025-03-26 238浏览
全球首款开源FPGA，正式发布

来源：内容编译自design-reuse，谢谢。近日，美国半导体初创公司 Zero ASIC 宣布推出世界上第一款开放标准 eFPGA IP 产品Platypus。据他们所说，Platypus 是第一个也是唯一一个具有以下特点的商业 eFPGA IP 产品，是一个100%开放和标准化的FPGA架构、100% 开源 FPGA 比特流格式、100% 开源 FPGA 开发工具。资料显示，Zero ASI

FPGA开发圈 2025-03-25 422浏览
【直播预约】通快霍廷格电子等离子体电源解决方案大揭秘

在半导体制造流程中，有一种极其重要的设备，这就是等离子体电源，它是半导体制造中不可或缺的核心设备，广泛应用于刻蚀、薄膜沉积、离子注入和清洗等关键工艺。其性能直接影响半导体制造的质量、效率和先进性。随着半导体技术的不断发展，等离子体电源的重要性将进一步凸显，其技术创新也将成为推动半导体行业进步的关键因素。例如，等离子体刻蚀是半导体制造中最关键的工艺之一，用于将掩膜图形精确地转移到硅片表面。等离子体

FPGA开发圈 2025-03-25 64浏览
【直播预约】通快霍廷格电子等离子体电源解决方案大揭秘

在半导体制造流程中，有一种极其重要的设备，这就是等离子体电源，它是半导体制造中不可或缺的核心设备，广泛应用于刻蚀、薄膜沉积、离子注入和清洗等关键工艺。其性能直接影响半导体制造的质量、效率和先进性。随着半导体技术的不断发展，等离子体电源的重要性将进一步凸显，其技术创新也将成为推动半导体行业进步的关键因素。例如，等离子体刻蚀是半导体制造中最关键的工艺之一，用于将掩膜图形精确地转移到硅片表面。等离子体

FPGA开发圈 2025-03-24 84浏览
【直播预约】通快霍廷格电子等离子体电源解决方案大揭秘

在半导体制造流程中，有一种极其重要的设备，这就是等离子体电源，它是半导体制造中不可或缺的核心设备，广泛应用于刻蚀、薄膜沉积、离子注入和清洗等关键工艺。其性能直接影响半导体制造的质量、效率和先进性。随着半导体技术的不断发展，等离子体电源的重要性将进一步凸显，其技术创新也将成为推动半导体行业进步的关键因素。例如，等离子体刻蚀是半导体制造中最关键的工艺之一，用于将掩膜图形精确地转移到硅片表面。等离子体

FPGA开发圈 2025-03-22 75浏览
加快开发速度｜适用于AMDVersal™自适应SoC的Vivado™DesignSuite

AMD Vivado™ Design Suite 实现突破性优化，可显著加快 Versal™ 自适应 SoC 硬件设计工作，与此同时大大简化了从旧架构到新架构的迁移。全新 Vivado Design Suite 带来更全面的性能优化、更快的编译速度和灵活的 RTL 设计流程，助您以更快速度实现设计成果。 Vivado Design Suite 优化改进更快实现 FMAX 目标，更加智能的布线和时钟

FPGA开发圈 2025-03-21 75浏览
【直播预约】通快霍廷格电子等离子体电源解决方案大揭秘

在半导体制造流程中，有一种极其重要的设备，这就是等离子体电源，它是半导体制造中不可或缺的核心设备，广泛应用于刻蚀、薄膜沉积、离子注入和清洗等关键工艺。其性能直接影响半导体制造的质量、效率和先进性。随着半导体技术的不断发展，等离子体电源的重要性将进一步凸显，其技术创新也将成为推动半导体行业进步的关键因素。例如，等离子体刻蚀是半导体制造中最关键的工艺之一，用于将掩膜图形精确地转移到硅片表面。等离子体

FPGA开发圈 2025-03-21 67浏览
【直播预约】通快霍廷格电子等离子体电源解决方案大揭秘

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FPGA开发圈 2025-03-20 116浏览
一文读懂智多晶FIRIP

在数字信号处理领域，FIR 滤波器凭借其稳定性强、线性相位等优势，被广泛应用于各类信号处理场景。今天，就带大家深入解读西安智多晶微电子有限公司推出的FIR IP。算法简介：FIR滤波器的数学原理FIR 滤波器，即有限长单位冲激响应滤波器，其计算公式如下：其中，hn为脉冲响应，xn为输入数据，yn为输出数据，N为滤波器的阶数。该算法通过对输入信号与滤波系数进行卷积运算，实现对信号的滤波处理。FIR

FPGA开发圈 2025-03-20 177浏览
【直播预约】通快霍廷格电子等离子体电源解决方案大揭秘

在半导体制造流程中，有一种极其重要的设备，这就是等离子体电源，它是半导体制造中不可或缺的核心设备，广泛应用于刻蚀、薄膜沉积、离子注入和清洗等关键工艺。其性能直接影响半导体制造的质量、效率和先进性。随着半导体技术的不断发展，等离子体电源的重要性将进一步凸显，其技术创新也将成为推动半导体行业进步的关键因素。例如，等离子体刻蚀是半导体制造中最关键的工艺之一，用于将掩膜图形精确地转移到硅片表面。等离子体

FPGA开发圈 2025-03-19 50浏览
【直播预约】通快霍廷格电子等离子体电源解决方案大揭秘

在半导体制造流程中，有一种极其重要的设备，这就是等离子体电源，它是半导体制造中不可或缺的核心设备，广泛应用于刻蚀、薄膜沉积、离子注入和清洗等关键工艺。其性能直接影响半导体制造的质量、效率和先进性。随着半导体技术的不断发展，等离子体电源的重要性将进一步凸显，其技术创新也将成为推动半导体行业进步的关键因素。例如，等离子体刻蚀是半导体制造中最关键的工艺之一，用于将掩膜图形精确地转移到硅片表面。等离子体

FPGA开发圈 2025-03-18 62浏览
今晚7点见！射频集成无源芯片设计及AI在集成无源芯片设计中的应用

射频集成无源芯片设计（Radio Frequency Integrated Passive Device, RF IPD）是一种将电感、电容、电阻、滤波器、巴伦等无源元件直接集成到芯片或封装基板中的技术，广泛应用于5G通信、物联网、汽车雷达等领域。射频集成无源芯片在集成电路（IC）设计中具有极其重要的地位，尤其是在射频前端模块（RFFE）和高频通信系统中，它不仅实现了射频无源器件的小型化和高集成

FPGA开发圈 2025-03-18 129浏览
直播倒计时1天！射频集成无源芯片设计及AI在集成无源芯片设计中的应用

射频集成无源芯片设计（Radio Frequency Integrated Passive Device, RF IPD）是一种将电感、电容、电阻、滤波器、巴伦等无源元件直接集成到芯片或封装基板中的技术，广泛应用于5G通信、物联网、汽车雷达等领域。射频集成无源芯片在集成电路（IC）设计中具有极其重要的地位，尤其是在射频前端模块（RFFE）和高频通信系统中，它不仅实现了射频无源器件的小型化和高集成

FPGA开发圈 2025-03-17 203浏览
【直播预约】通快霍廷格电子等离子体电源解决方案大揭秘

在半导体制造流程中，有一种极其重要的设备，这就是等离子体电源，它是半导体制造中不可或缺的核心设备，广泛应用于刻蚀、薄膜沉积、离子注入和清洗等关键工艺。其性能直接影响半导体制造的质量、效率和先进性。随着半导体技术的不断发展，等离子体电源的重要性将进一步凸显，其技术创新也将成为推动半导体行业进步的关键因素。例如，等离子体刻蚀是半导体制造中最关键的工艺之一，用于将掩膜图形精确地转移到硅片表面。等离子体

FPGA开发圈 2025-03-17 109浏览
智多晶SerdesIP

1智多晶Serdes IP的应用领域‌SerDes（Serializer/Deserializer）是一种高速串行通信技术，主要用于将多路低速并行信号转换为高速串行信号，并通过传输媒体（如光缆或铜线）传输，然后在接收端再将串行信号转换回并行信号。随着高速集成电路技术的发展，市场对高带宽、低延迟的协议需求越来越大。目前多种高速协议都可以以Serdes 为基础进行进一步的开发，用以完成高速通讯的目的。

FPGA开发圈 2025-03-17 113浏览

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