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延续摩尔定律
延续摩尔定律的CFET技术源自北京大学20年前提出的堆叠互补晶体管技术
延续摩尔定律的三维堆叠晶体管概念,其背后有北京大学的原创贡献。早在2000年前后北京大学就已经提出了三维堆叠互补晶体管(3D Stacked CMOS)的概念,并在2004年研发完成堆叠互补晶体管的雏形,发表了论文和申请了专利,只是概念太过超前,没有引起太多关注。当下摩尔定律放缓,堆叠晶体管概念重获关注,imec于2018年提出了堆叠互补晶体管的微缩版CFET,英特尔(Intel)和台积电(TSM
芯思想
2023-11-23
2329浏览
Chiplet新技术,延续摩尔定律
Chiplet 又称芯粒或者小芯片,它是将一类满足特定功能的 die(裸片),通过 die-to-die 内部互联技术实现多个模块芯片与底层基础芯片封装在一起,形成一个系统芯片,以实现一种新形式的 IP 复用。目前,主流系统级单芯片(SoC)都是将多个负责不同类型计算任务的计算单元,通过光刻的形式制作到同一块晶圆上。下载链接:UCIe白皮书(终版)Chiplet:延续摩尔定律的新技术,芯片测试与先
智能计算芯世界
2022-10-18
1224浏览
IBM与东京电子宣布新突破以延续摩尔定律
3D芯片堆叠的潜力多大?IBM和日本半导体公司东京电子宣布在3D芯片堆叠方面取得新突破,成功实施了一种新工艺,用于生产用于3D芯片堆叠技术的300毫米硅芯片晶圆。芯片堆叠目前仅用于高端操作,如高带宽存储器的生产,具有扩大给定体积内晶体管数量的潜力。 何为3D堆叠?与摩尔定律放缓的斗争仍在继续。3D芯片堆叠是业界最前沿的技术之一,多家公司都在努力将“每单位面积的晶体管”转变为“每单位体积的晶体管”。
DT半导体材料
2022-07-11
1105浏览
魏少军:微纳系统集成将延续摩尔定律
3月15日,中国半导体行业协会集成电路设计分会理事长、清华大学教授魏少军在2021 第十九届中国半导体封装测试技术与市场年会(CSPT 2021)上指出,中国半导体产业处于一个重要的转折点,之前中国的半导体产业是以加工为主要特征,无论是晶圆制造业,还是封测业,都是在为别人加工,甚至设计业也是在为别人加工,自身的产品很少。但是经过这些年的努力,特别是从2021年开始,整个产业正在从以往的以加工为主要
MEMS
2022-03-16
860浏览
创新高端纳米装备!延续摩尔定律!厦门韫茂亮相CarbonSemi2022
随着芯片尺寸不断缩小,这就要求器件和材料的尺寸不断减小,而器件的长宽比不断增大,减低了使用材料的厚度,使之至几个纳米数量级。特别是当芯片制造工艺水平进入5纳米节点以后,如何延续摩尔定律已成为半导体行业的一大难题。2007年底,美国Intel公司推出了基于45纳米节点技术的酷睿处理器,首次将ALD技术沉积的高介电常数材料(high-ĸ)和金属栅组合引入到集成电路芯片制造中,顺利将摩尔定律延续至当下最
DT半导体材料
2022-03-14
2445浏览
用2D半导体替代硅?科学家找到延续摩尔定律新方法
▲ 更多精彩内容 请点击上方蓝字关注我们吧!早在 1965 年,计算机科学家戈登 · 摩尔(Gordon Moore)首先提出假设:集成电路上可以容纳的晶体管数目在大约每经过 18 个月便会增加一倍,同时计算机的运行速度和存储容量也翻一番。这就是半导体领域著名的摩尔定律。现在,一个指甲大小的芯片可以承载数百亿个晶体管,与此同时,可以塞进单个芯片的晶体管数量几乎达到了极限。为了让摩尔定律继续下去,你
电子工程世界
2021-12-21
902浏览
不可阻挡!台积电2nm工艺重大突破:延续摩尔定律 朝着1nm挺进
如今5nm才刚刚起步,台积电的技术储备就已经紧张到了2nm,并朝着1nm迈进。根据最新报道,台积电已经在2nm工艺上取得一项重大的内部突破,虽未披露细节,但是据此乐观预计,2nm工艺有望在2023年下半年进行风险性试产,2024年就能步入量产阶段。 台积电2nm工艺重大突破
皇华电子元器件IC供应商
2020-11-18
865浏览
3D FPGA技术:延续摩尔定律的黑科技,下篇
点击蓝字 关注我们 目 录 Intel 3D系统封装和EMIB技术 EMIB技术
SSDFans
2020-07-03
2245浏览
3D FPGA技术:延续摩尔定律的黑科技,上篇
点击蓝字 关注我们 目 录 写作背景 前言 Xilinx 堆叠硅片互联SSI技术 - 产生背
SSDFans
2020-07-02
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james1982...
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