压印光刻技术 - 电子工程专辑

压印光刻技术

纳米压印光刻技术旨在与极紫外光刻（EUV）竞争

点击蓝字关注我们SUBSCRIBE to USCANON9月，佳能交付了一种技术的首个商业版本，该技术有朝一日可能颠覆最先进硅芯片的制造方式。这种技术被称为纳米压印光刻技术（NIL，nanoimprint lithography），它能够绘制出小至14纳米的电路特征——使逻辑芯片达到与英特尔、超微半导体（AMD）和英伟达现正大量生产的处理器相当的水平。纳米压印光刻系统具有的优势可能对当今主导先进

IEEE电气电子工程师学会 2025-01-08 1502浏览
Toppan与EVG合作推进纳米压印光刻技术在光电制造领域的应用

两家市场领导者开展推广和技术合作，通过结合各自优势，提供纳米压印光刻技术开发工具包，并实现大批量生产。据麦姆斯咨询报道，近日全球首屈一指的光掩模供应商Toppan Photomask与为MEMS、纳米技术和半导体市场提供晶圆键合及光刻设备的领先供应商EV Group（简称：EVG）宣布，两家公司已达成协议，共同推广赋能光电产业的大批量制造（HVM）工艺—纳米压印光刻技术（NIL）。此次合作结合NI

MEMS 2022-09-22 1311浏览
天仁微纳总部项目奠基，聚焦纳米压印光刻技术

5月24日，青岛天仁微纳科技有限责任公司（简称：天仁微纳）的总部项目奠基仪式举行。从2015年成立至今，天仁微纳已经成为国际领先的纳米压印设备与解决方案供应商，应用包括3D传感（DOE、Diffuser等）、增强现实与虚拟现实（AR/VR）、生物芯片、集成电路、平板显示、太阳能电池、LED等领域。依靠着全球领先的创新技术和设备性能，完善的售后服务，快速的产品迭代，天仁微纳厚积薄发，打败诸多国际竞争

MEMS 2022-05-30 1907浏览

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感谢分享，让我学到了很多理论知识

笨小孩cj 评论文章 2025-04-03

天天挂在嘴边的级联噪声系数公式，是怎么推导来的？
AES11

用户17433... 评论文章 2025-03-31

欧阳明高最新百人会报告PPT（附下载）：《电动乘用车发展的新阶段、新挑战与新路径》

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