清洗设备 - 电子工程专辑

清洗设备

国内首台完全自主研发的电子级硅芯清洗设备即将交付客户

近日，公司子公司常州捷佳创精密机械有限公司国内首台完全自主研发的电子级硅芯清洗设备成功下线，将于近日部署至某合作客户处。此款硅芯清洗设备是一款用于硅料端制程的硅芯的腐蚀清洗设备，用于清洗硅芯表面有机物、氧化物和金属离子，采用碱洗、酸洗、超声、机能水等工艺，产品可用于高纯光伏硅片和半导体硅片的生产制程，清洗后总表金属≤0.2ppbm。主要技术特点：1：材料升级与德国Rochling合力开发耐氧化，

CINNOResearch 2023-09-11 681浏览
湿法清洗设备：半导体制造中的精密净化之道

点击蓝字关注我们关注公众号，点击公众号主页右上角“ · · · ”，设置星标，实时关注半导体材料与工艺设备最新资讯来源：网络引言随着信息技术的飞速发展，半导体产业成为现代社会中不可或缺的支柱之一。从手机到计算机、从智能家居到人工智能，几乎所有的科技领域都离不开半导体芯片的应用。然而，半导体芯片的制造需要极其精密和洁净的工艺，以确保芯片的性能、可靠性和稳定性。在这个高度竞争的市场中，芯片制造商不断

半导体工艺与设备 2023-09-09 2370浏览
设备|盛美上海18腔300mmUltraCVI单晶圆清洗设备投入量产

来源：快科技4月22日消息，盛美半导体设备（上海）股份有限公司(以下简称“盛美上海”)，作为一家为半导体前道和先进晶圆级封装（WLP）应用提供晶圆工艺解决方案的供应商，今天宣布，其18腔300mm Ultra C VI单晶圆清洗设备已成功投入量产。该设备于2020年第二季度首次推出，目前已在中国一家主流存储芯片制造商的生产线上获得验证并进入量产。据盛美上海董事长王晖博士介绍：“随着技术节点逐渐缩小

CINNOResearch 2022-04-23 1011浏览
国产化进步有多大？2021年清洗设备中标对比(附项目地图)

点击上方图片参会清洗步骤占比逐年提升，市场扩大清洗步骤持续增加清洗步骤在晶圆制造过程中越来越多。随着制程的推进，晶圆制造的良率也开始下降。为了应对这一问题，有效的解决方法之一就是增加清洗工艺，在80-60nm制程中，清洗工艺大约100多个步骤，而到了20-10nm制程，清洗工艺上升到200多个步骤以上。来源：半导体设备年会晶圆厂扩产中国近期新建或扩产的12寸晶圆厂厂商地点主要工艺制程目标月产能(万

中国半导体论坛 2021-09-22 1951浏览
国产化半导体装备关键推动者，清洗设备加速化

近几年，半导体行业市场发展火热！很多人都有看到国内投资项目不断，其实，国外市场亦是如此！加上国外有心制约中国半导体产业发展等多种因素，目前国外设备交期大部分在15个月左右，所以有钱不一定能买到设备！当下中国半导体行业发展应当加快实现国产化进程！可喜的是，近几年，在政府引导，企业对国产意识提高，市场紧迫需求以及国产装备技术不断提升，涌现出一批高质量国产半导体装备企业，以半导体清洗设备为例，国内有昆山

今日半导体 2021-09-12 2252浏览

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一般喜欢标榜“打破垄断”“国x领先”的都死的比较快。嘴比手厉害

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砺芯慧感：量产薄膜铂电阻传感器，打破国外30年垄断
我这，原先V10.5跑的好好的代码，更新V11后，单片机初始化时就不断重启

vaov_3734... 评论文章 2025-01-06

FreeRTOSV11.0升级了多项重要功能，兼容V10版本

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