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纳米压印光刻
纳米压印光刻及超构表面量产工艺
据麦姆斯咨询报道,2024年11月1日至3日,杭州欧光芯科技有限公司创始人兼CEO张琬皎将参加《第65期“见微知著”培训课程:光学超构表面及应用》并进行授课,具体信息如下:授课主题:纳米压印光刻及超构表面量产工艺授课老师简介:张琬皎,博士,浙江省海外高层人才、教授级高级工程师、杭州欧光芯科技有限公司创始人兼CEO、国科大杭州高等研究院物理与光电工程学院研究生导师。她毕业于德国亚琛工业大学,获得博士
MEMS
2024-10-23
1070浏览
基于紫外纳米压印光刻的生物纳米孔测序MEMS芯片
纳米孔测序是一种新兴测序技术,具有超长读长和可进行实时数据采集的优势,能在短时间内有效地对各类临床标本进行宏基因组测序和病原体鉴定,具有良好的临床应用前景。MEMS结构阵列作为纳米孔测序芯片中最重要的一环,每个微支架可支撑磷脂(DPhPC)双分子层膜和嵌入膜内的纳米孔蛋白。MEMS结构决定了纳米孔芯片在运输和使用过程中的稳定性。每个微支架与自身电极相对应,该电极连接至MEMS阵列芯片的通道上,传感
MEMS
2024-10-17
1103浏览
纳米压印光刻(NIL)技术及应用
据麦姆斯咨询报道,2024年10月18日至20日,苏州光舵微纳科技股份有限公司创始人兼董事长史晓华将参加《第66期“见微知著”培训课程:MEMS制造工艺》并进行授课,具体信息如下:授课主题:纳米压印光刻(NIL)技术及应用授课老师简介:史晓华,博士,苏州光舵微纳科技股份有限公司创始人、董事长。他获得西安交通大学电气工程及金融学双学士学位,英国巴斯大学光电子专业博士学位,英国格拉斯哥大学博士后。他曾
MEMS
2024-10-13
1587浏览
基于纳米压印光刻的超构表面制造方法为纳米光学打开大门
半导体芯片的小型化使电子设备的尺寸和成本稳步下降,同样也使设计也不断改进。在透镜等光学元器件中,要实现像半导体芯片的类似进展则更为困难。理论上,用于构成纳米级光学元器件的超构表面可以在制造硅芯片的同一半导体工厂中生产制造。然而,实际上,由于超构表面结构的复杂性,制造过程耗时且成本较高。据麦姆斯咨询报道,近期,由亚利桑那州立大学(Arizona State University,ASU)Chao W
MEMS
2024-08-27
1185浏览
比EUV节省90%的功耗!佳能将交付第一批纳米压印光刻工具
点击这里👇关注我,记得标星哦~去年,佳能推出了首款纳米压印光刻(NIL)设备,该设备可以与ASML的极紫外(EUV)和先进的深紫外(DUV)光刻系统竞争。据英国《金融时报》报道,本周佳能司表示,首批客户将于今年或明年收到第一台 NIL 机器,不过这将用于试运行 。这些新机器的工作原理是在晶圆上压印印记,而不是使用典型的光刻技术进行光学刻录,据称与行业巨头 ASML 的竞争 EUV 机器相比,其能耗
EETOP
2024-02-01
834浏览
纳米压印光刻,能让国产绕过ASML吗?
付斌 | 作者李拓 | 编辑果壳硬科技 | 策划自从国产替代概念兴起,很少关注半导体行业的人都对光刻机有所耳闻。目前,全世界最先进的芯片,几乎都绕不开ASML(阿斯麦)的DUV(深紫外)和EUV(极紫外)光刻机,但它又贵又难造,除了全力研发光刻机,国产有没有其它的路可以走?事实上,光刻技术本身存在多种路线,离产业最近的,当属纳米压印光刻(Nano-Imprint Lithography,简称NIL
传感器技术
2023-03-22
1544浏览
纳米压印光刻,能让国产绕过ASML吗?
★欢迎星标 果壳硬科技★自从国产替代概念兴起,很少关注半导体行业的人都对光刻机有所耳闻。目前,全世界最先进的芯片,几乎都绕不开ASML(阿斯麦)的DUV(深紫外)和EUV(极紫外)光刻机,但它又贵又难造,除了全力研发光刻机,国产有没有其它的路可以走?事实上,光刻技术本身存在多种路线,离产业最近的,当属纳米压印光刻(Nano-Imprint Lithography,简称NIL)。日本最寄望于纳米压印
果壳硬科技
2023-03-20
1594浏览
DELO&天仁微纳研讨会|纳米压印光刻:高折射率聚合物促成AR衍射光波导的大规模生产
随着增强现实(AR)眼镜的应用场景逐渐增多,AR眼镜的佩戴舒适性和功能要求也越来越高。在众多AR光波导方案中,表面浮雕光栅(SRG)可以将镜片做到最轻薄,而且有成熟的量产工艺。表面浮雕光栅的原理是在玻璃片上制作一层纳米级的光栅结构,用来实现所需的光波导效果。如果使用光刻刻蚀或者机加工的方法来加工这些纳米级光栅,成本高,耗时长。纳米压印光刻是唯一可以实现低成本,高效率量产的加工技术。青岛天仁微纳科技
MEMS
2023-03-13
1836浏览
纳米压印光刻,一种新型纳米图案制造技术
知识酷 👆显示技术 | 显示资讯 | 知识管理第1166篇推文1995年,华裔科学家周郁(Stephen Chou)教授首次提出纳米压印概念,从此揭开了纳米压印制造技术的研究序幕。纳米压印技术是当今最具前景的纳米制造技术之一,很可能成为未来微纳电子与光电子产业的基础技术。目前,纳米压印技术在国际半导体蓝图(ITRS)中被列为下一代32nm、22nm和16nm节点光刻技术的代表之一。国内外半导体设备
BOE知识酷
2021-12-14
3193浏览
纳米压印光刻领头羊天仁微纳获得华为哈勃投资
根据天眼查显示,近日,青岛天仁微纳科技有限责任公司(简称“天仁微纳”)获华为哈勃投资,认缴出资额11.58万,持股比例约为5%。天仁微纳成立之初的几年内一直致力于研发与积累,直到2019年下半年,纳米压印在智能手机3D传感、增强现实与虚拟现实(AR/VR)等领域的应用越来越多,市场开始爆发。天仁微纳迎来了东风,拿下了大笔订单,打入行业供应链。通过不断改进产品技术、工艺成为了行业中的“佼佼者”。据麦
MEMS
2021-08-03
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