林本坚 - 电子工程专辑

林本坚

林本坚：中国大陆或催生半导体界的“DeepSeek”

在美中科技博弈不断升级的大背景下，半导体领域的竞争愈发激烈。美国政府持续扩大对中国半导体、AI的禁令范围，试图从技术与市场层面双重限制中国半导体产业的发展。但中国并未在重重压力下退缩。例如，华为推出搭载7纳米制程芯片的手机，中芯国际更是利用深紫外光刻（DUV）持续推进制程技术，近日又出现被称为“先进制程救星”的设备厂新凯来，为中国大陆半导体设备领域注入新的活力。（延伸阅读>深圳的“北方华创”！新凯

芯极速 2025-03-28 970浏览
林本坚-半导体人才紧缺

林本坚，男，1942年出生在越南，中国台湾人，祖籍广东潮汕[1]，美国国家工程院院士，台湾“中央研究院”院士，台湾清华大学、台湾交通大学、台湾大学特聘讲座教授，清大—台积电联合研发中心主任。[2][3]林本坚1963年获得台湾大学电机工程学系学士；1970年获得美国俄亥俄州立大学电机工程学系博士；2000年—2015年在台湾积体电路制造股份有限公司任资深处长、杰出科技院士和副总经理；2008年当选

滤波器 2024-08-03 794浏览
林本坚：半导体技术已经进化，无法由单一国家垄断

击这里👇关注我，记得标星哦～台积电前副总裁林本坚，昨日（4月2日）在日本东京进行专题演讲时提到，浸润式微影和极紫外光微影技术，是量产个位数纳米半导体的关键。林本坚表示，当制程从5微米到5纳米，走了21个技术世代，不仅把集成电路的周距缩小到千分之一以下，也把线路面积缩小到百万分之一。在微影制程微缩的过程当中，搭配使用的曝光光源波长也越来越短，从汞灯光源（436纳米）一路缩小到极紫外光EUV（13.5

EETOP 2024-04-03 616浏览
用DUV制造5纳米芯片？浸润式光刻之父林本坚：可行！

华为Mate 60 Pro 搭载海思麒麟9000S突破美国制裁而在业界造成不小轰动，业界普遍认为麒麟9000S是采用DUV光刻机多次曝光制造出来的。根据最新报道，台积电前副总裁、被称为浸润式光刻之父的林本坚（Burn J. Lin）认为，在现有DUV 设备制造不仅能制造7纳米，甚至5 纳米芯片也是可行的，不过将非常昂贵。据悉，华为为2024 年开发P70、P70 和P70 Art，有望成为明年第一

EETOP 2023-11-28 1176浏览
“浸没式光刻之父”林本坚：美国无法阻止中国大陆取得进步

10月27日，据彭博社报道，“浸没式光刻之父”、台积电前研发副总林本坚（Burn J.Lin）本周在新竹国立清华大学接受采访时说，美国无法阻止中国大陆公司在芯片技术方面取得的进步，并表示中国应该能够利用现有设备推进到下一代5纳米工艺。林本坚表示，除了努力达到5纳米的里程碑，中国很可能还会试验新材料或先进的芯片封装，以制造更强大的半导体。彭博社称，林本坚的看法与Arm CEO Rene Haas言论

52RD 2023-10-27 1295浏览
林本坚：“效能”才是摩尔定律新战场

来源：半导体产业纵横，谢谢攸关半导体技术推进的“摩尔定律”已死？编辑：感知芯视界“现在叫Moore's Law of Economy（经济的摩尔定律），不是Moore's Law of Scaling（尺寸的摩尔定律），前者可以一直发展下去。”台积电研发处前副总、现任中国台湾清华大学半导体研究学院院长林本坚，在接受专访时，针对摩尔定律提出观点，指出将来的战场已不在尺寸，而是效能。林本坚是台积电壮大

感知芯视界 2023-04-12 928浏览
浸润式光刻之父林本坚详解IC缩小术！（超详细！建议收藏）

自光学微影技术出现，集成电路（Integrated circuit，IC）体积跟随着摩尔定律不断缩小，到踏入3纳米量产的今日，IC 可说足足缩小了百万倍！这成果并非一蹴可几，而是多年来半导体研发人员和工程师的心血累积。在不久前的台湾地区中研究院111年知识飨宴科普讲座上，被誉为浸润式光刻之父的林本坚林本坚院士以「光学微影缩IC 百万倍」为题，分享光学微影一路走来，如何将半导体元件尺寸越缩越小、推向

半导体工艺与设备 2022-10-07 1377浏览
“浸润光刻之父”林本坚科普光刻技术

▲ 更多精彩内容请点击上方蓝字关注我们吧！自光刻技术技术出现，集成电路（Integrated circuit，IC）体积跟随着摩尔定律不断缩小，到踏入5 纳米量产的今日，IC 可说足足缩小了百万倍！这成果并非一蹴可几，而是多年来半导体研发人员和工程师的心血累积。近日，在中央研究院2022年知识飨宴科普讲座上，林本坚院士以「光刻技术缩IC 百万倍」为题，分享光刻技术一路走来，如何将半导体元件尺寸愈

电子工程世界 2022-08-31 1505浏览
台积电大将林本坚亲笔讲述：浸没式光刻研发的台前幕后

来源：内容来自财讯，作者林本坚，谢谢林本坚院士是台积电前研发大将，他在2000年加入台积电。2002年时全球投入波长157纳米干式微影技术遇到瓶颈，他发表浸润式微影技术引起轰动，却遭干式微影技术的大公司针锋相对，因干式微影技术的投资已远超过10亿美元。在台积电支持下，林本坚和组内的同仁写好几篇论文，从理论的观点证明浸润式微影的可行性及优势，后来说服ASML放弃原先157纳米干式微影曝光机的研发，转

感知芯视界 2022-06-17 1168浏览
林本坚亲笔讲述：浸没式光刻研发的台前幕后

免责声明：内容如有侵权，请联系本部删除！（手机微信同号15800497114）编者按林本坚院士是台积电前研发大将，他在2000年加入台积电。2002年时全球投入波长157纳米干式微影技术遇到瓶颈，他发表浸润式微影技术引起轰动，却遭干式微影技术的大公司针锋相对，因干式微影技术的投资已远超过10亿美元。在台积电支持下，林本坚和组内的同仁写好几篇论文，从理论的观点证明浸润式微影的可行性及优势，后来说服A

今日半导体 2022-06-13 1612浏览
“他们觉得我在搅局，想说服老板阻止我”林本坚回顾浸润式光刻机研发芯酸历程

恭喜部分学员成功转岗IC验证！《芯片验证从入门到精通》更新完毕！1750补贴仅存最后几个名额！编按：林本坚是台积电前研发大将，他在2000年加入台积电。2002年时全球投入波长157纳米干式微影技术遇到瓶颈，他发表浸润式微影技术引起轰动，却遭干式微影技术的大公司针锋相对，因干式微影技术的投资已远超过10亿美元。在台积电支持下，林本坚和组内的同仁写好几篇论文，从理论的观点证明浸润式微影的可行性及优势

EETOP 2022-06-13 2216浏览
关注 | 浸润式微影之父：林本坚的最后战役！

圣经中，有两个角色80岁后才开始新事业，一位名气很大的先知摩西，另一位则是85岁仍雄心万丈，主动请缨出战亚衲族人的「迦勒」。10年前，「浸润式微影之父」、前台积研发副总林本坚，在张忠谋80岁生日时，曾写一段祝福的话送给上司，引用摩西的故事，强调：世界上有名的人，都是80岁之后，事业才开始。对《天下》说到这里，林本坚笑得腼腆，他认为，张忠谋就像摩西，是开路者；而自己像迦勒，是战士、是打仗的人，「我体

半导体工艺与设备 2021-09-26 5072浏览

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listen 评论文章 2025-04-09

221亿、13.9万台-2024年度中国移动机器人产业发展研究报告发布！
正好做这个热释电相关的课题，很有用

用户3871759 评论文章 2025-04-08

一文读懂热释电传感器的原理与应用

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