计算光刻 - 电子工程专辑

计算光刻

GTC24|TSMC和Synopsys将NVIDIA开创性计算光刻平台投入生产

NVIDIA cuLitho 可将半导体制造中高度计算密集型的工作负载加快 40-60 倍，并为业界带来全新的生成式 AI 算法NVIDIA 于今日宣布，为加快下一代先进半导体芯片的制造速度并克服物理限制，TSMC 和 Synopsys 将在生产中使用 NVIDIA 计算光刻平台。全球领先的晶圆厂 TSMC 与硅片到系统设计解决方案领域的领先企业 Synopsys 已将 NVIDIA cuLith

英伟达NVIDIA中国 2024-03-19 720浏览
台积电、新思科技将英伟达计算光刻平台投入生产，加快芯片制造！

英伟达3月18日宣布，台积电、新思科技已将英伟达的计算光刻平台投入生产，以加速下一代先进半导体芯片的制造，并突破物理极限。台积电、新思科技已将英伟达cuLitho技术与其软件、制造工业和系统集成，以加快芯片制造速度，并帮助制造最新一代英伟达Blackwell架构GPU。英伟达CEO黄仁勋表示：“计算光刻技术是芯片制造的基石，我们与台积电和新思科技合作开发的cuLitho技术，应用了计算加速和生成式

飙叔科技洞察 2024-03-19 997浏览
国产计算光刻再传好消息！

在现代芯片制造工艺中，光刻是非常重要的一个步骤，其过程采用类似照相机的原理，光刻机发出的光通过具有图形的掩模版在晶圆上进行曝光成像，从而实现将电路图转印到晶圆上。在理想情况下，晶圆上的成像图形会与掩模版上的布局设计完全一样。但是，当掩模版图形的关键尺寸小于曝光波长的时候，由于衍射效应晶圆上的成像会失真，从而与掩模版的布局图形不是很吻合，此时就需要计算光刻OPC（Optical Proximity

深圳飙叔 2024-01-10 827浏览
计算光刻独角兽启动上市辅导，曾与ASML陷入侵权纠纷

计算光刻技术之于光刻机，相当于工匠的一双手之于刻刀，是保证硅片量产图像不失真、决定芯片制造良率的必需环节。东方晶源三款电子束检测、量测设备，已经过产线验证并进入量产，其中CD-SEM设备此前已向中芯国际、燕东微完成交付。记者 | 郭辉国产半导体芯片制造的又一核心环节正在迎头赶上。国内计算光刻技术领域“独角兽”企业东方晶源微电子科技（北京）股份有限公司（下称“东方晶源”），日前在北京证监局进行上市辅

科创板日报 2023-09-07 914浏览
【ISPD2023】挑战物理极限，计算光刻提速

第32届国际物理设计研讨会（ISPD2023）于2023年3月26日至29日在线举行，来自世界各地的顶尖研究人员和下一代设计师每年都会聚集在一起，进行未来芯片的物理设计。半导体制造工艺技术的进步继续将工艺光刻的极限推向深纳米领域，以获得更好的性能、功率和面积，遵循摩尔定律。各种器件都采用了异构集成，以实现更好的系统级电源性能成本权衡和更高的性能。2023年3月29日，加州理工学院和NVIDIA的A

芯思想 2023-05-03 1469浏览
NVIDIAH100GPU为2nm芯片加速计算光刻！

点击蓝字关注我们使用尖端工艺技术生产芯片需要比以往更强大的计算能力。为了满足2nm及更先进制程的需求，NVIDIA正在推出其cuLitho软件库，该软件库使用了基于NVIDIA H100 GPU的DGX H100系统，可以在合理的功耗范围内将掩模速度提高40倍。现代工艺技术将晶圆厂设备要求推向极限，需要实现突破其物理极限的高分辨率，这正是计算光刻技术发挥作用的地方。计算光刻就是为芯片生产制作光掩模

SSDFans 2023-04-23 926浏览
什么是计算光刻？

近期，英伟达推出的一款计算光刻软件引起了广泛关注，这使得计算光刻这个领域受到了更多人的关注。计算光刻这个领域已经存在了30年之久，但现在为什么备受关注呢？因为这关乎摩尔定律的继续演进，芯片的继续微缩。什么是计算光刻？在讲计算光刻之前，让我们先从一个简单的相机开始谈起。数码相机我们都不陌生，一般而言，相机的光圈越大越好。那么如何分辨光圈的大小呢？在相机镜头周围的标记的看起来像比例的数字就是光圈的大小

集成电路IC 2023-03-31 1282浏览
新思科技携手英伟达，加速计算光刻进入“iPhone时刻”

数十年来，为制造工艺制作掩模一直是半导体制造中的重要环节。随着我们转向采用5nm、3nm甚至2nm等更先进的工艺节点，缩短计算光刻耗时可帮助半导体制造公司高效地制造芯片。作为该领域的先锋企业，新思科技拥有先进的技术，能够在超级计算机等领域加快分布式处理速度。例如，新思科技最近与NVIDIA（英伟达）合作，在NVIDIA cuLitho软件库上运行新思科技的Proteus光学邻近效应修正（OPC）软

新思科技 2023-03-23 1203浏览
我国首款！华中科技大学团队成功研发计算光刻EDA软件

近日，华中科技大学机械学院刘世元教授团队成功研发出我国首款完全自主可控的OPC软件，并已在相关企业实现成果转化和产业化，填补了国内空白。光刻成像原理图“OPC是芯片设计工具EDA工业软件的一种，没有这种软件，即使有光刻机，也造不出芯片。从基础研究到产业化应用，我们团队整整走了十年。十年磨一剑，就是要解决芯片从设计到制造的卡脖子问题。”据刘世元介绍，光刻是芯片制造中最为关键的一种工艺，就是通过光刻成

传感器技术 2022-11-30 972浏览
国内首款！华中科技大学团队成功研发全自主计算光刻EDA软件！

近日，华中科技大学（华中大）披露，华中大机械学院刘世元教授团队成功研发我国首款完全自主可控的OPC软件。光刻是芯片制造中最为关键的一种工艺，通过光刻成像系统，将设计好的图形转移到硅片上。随着芯片尺寸不断缩小，硅片上的曝光图形会产生畸变。在90nm甚至180nm以下芯片的光刻制造前，都必须采用一类名为OPC（光学临近校正）的算法软件进行优化。没有OPC，所有IC制造厂商将失去将芯片设计转化为芯片产品

半导体前沿 2022-11-29 2264浏览
华中科技大学团队成功研发国内首款全自主计算光刻EDA之OPC软件

11 月 26 日消息，据中国光谷、湖北卫视等报道，华中科技大学教授刘世元创立的宇微光学软件有限公司（简称“宇微光学”），已成功研发全国产、自主可控的计算光刻 OPC 软件，填补国内空白。目前正在做集成与测试，并到芯片生产厂商做验证，孵化企业的武汉光电工研院也将提供技术转化服务。OPC 软件，即“光学邻近校正软件”，是芯片设计工具 EDA 的一种，没有它，即使用了光刻机，也造不出芯片。据刘世元介绍

52RD 2022-11-27 1682浏览

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