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光罩护膜
曝光技术大进展!三星关键材料EUV光罩护膜透光率达90%
来源 :科技新报12月5日,三星电子在 EUV 曝光技术取得重大进展,韩媒 Business Korea 报导,三星电子 DS 部门研究员 Kang Young-seok 表示,三星使用的 EUV 光罩护膜(EUV pellicles)透光率(transmission rate)已达 90%,计划再提高至 94-96%。EUV 光罩护膜(Pellicle)是光罩上的薄膜,保护光罩免于微尘或挥发性气
CINNOResearch
2023-12-05
940浏览
韩国开发出石墨烯EUV光罩护膜!瞄准台积电、三星潜在客户
来源:科技新报韩国媒体报导,一家韩国小公司开发出新材料,有望显著提高荷兰半导体设备公企业艾司摩尔 (ASML) 极紫外光微影曝光设备 (EUV) 良率。BusinessKorea 报导,半导体和显示材料开发商石墨烯实验室 (Graphene Lab) 日前宣布,开发出使用石墨烯制造、小于 5 纳米的 EUV 光罩护膜 (Pellicle) 技术,并准备好量产。Graphene Lab 执行长 Kw
CINNOResearch
2022-12-16
1196浏览
韩国企业开发出石墨烯EUV光罩护膜
中国半导体论坛 振兴国产半导体产业! 据韩国媒体报导,一家韩国小公司开发出一种新材料,有望显著提高荷兰半导体设备公企业艾司摩尔 (ASML ) 的极紫外光微影曝光设备 (EUV) 的良率。根据 BusinessKorea 的报导,半导体和显示材料开发商石墨烯实验室 (Graphene Lab) 日前宣布,其已开发出使用石墨烯制造、小于 5 奈米的 EUV 光罩护膜 (Pellicle) 技术,并
中国半导体论坛
2022-12-15
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