光刻胶 - 电子工程专辑

光刻胶

EUVL组件技术1——光刻胶

2023年，英伟达会成为全球收入最高的公司吗？芝能智芯出品EUV光相互作用的EUVL扫描仪组件的两个部分：1）光刻胶2）反射镜（收集镜）高产量制造（HVM）需求的总体主题，集中在增加使用EUVL制造芯片的产量和良率上。FET，需要缩小单元宽度和单元高度●光刻胶：聚合物特性光刻胶处理对半导体工业至关重要，所有器件元素和相关结构，从场效应晶体管（FET）中的通道到器件之间的电连接，都需要通过光刻制造出

汽车电子设计 2023-09-28 455浏览
EUVL的光刻胶有什么奥秘？

芝能智芯出品全球智能化设备的需求不断增长，推动了半导体行业的创新。极紫外光刻（EUVL）技术是半导体制造的核心技术之一，能够实现更小的特征尺寸，从而实现器件的小型化。全球的研究人员和公司正在专注于开发新型极紫外（EUV）光刻胶材料，以支持纳米级分辨率的EUVL图案化并提高半导体器件的性能。光刻是半导体制造中的关键步骤，传统光刻使用深紫外光，但随着器件尺寸的减小，EUV光刻变得必不可少。EUV光的工

汽车电子设计 2023-09-09 458浏览
陶氏化学工厂爆炸恐冲击光刻胶供给

美国时间7月14日晚9点30分左右，光刻胶供应商陶氏化学（Dows Chemical）位于路易斯安那州的普拉克明工厂发生爆炸。据台媒钜亨网报道，由于陶氏化学为全球半导体光刻胶、抛光垫/液大厂，且路易斯安那州更是其主要生产基地，爆炸恐冲击全球产能供给，连带导致半导体化学材料市场供需失衡，台厂永光可望受惠转单。该报道指出，永光电子化学品中，光电营收比重约4成、半导体6成，产品涵盖前端成熟制程、后端封装

PCBworld 2023-07-18 752浏览
光刻胶巨头工厂爆炸，台企有望受惠转单

美东时间7月14日晚上9点30分左右，位于美国路易斯安那州伊贝维尔教区(WAFB)、密西西比河沿岸的陶氏化学（Dows Chemical）Plaquemine工厂发生一系列爆炸。由于陶氏化学是半导体关键化学材料光阻剂与抛光垫/液的重要供应商，使得该件爆炸事件备受市场关注。报导指出，Plaquemine工厂当时被侦测到共发生六起爆炸，居住在附近的目击者拍到了巨大火焰的影片，并表示几英里外都可以感受到

半导体前沿 2023-07-17 628浏览
63.5亿美元！光刻胶龙头将被日本“国有化”

6月26日，全球最大ArF光刻胶供应商日本JSR宣布，已同意由日本政府支持的基金以约9,093亿日元（约63.5亿美元）的价格收购，该交易意味着这家半导体材料巨头将被日本国有化。图：JSR芯片大师曾发文分析：对华出口管制有哪些“重大漏洞”可以利用，此前理论上国内半导体业向先进工艺迈进可以利用的时间窗口：一是部分未受管控的ArF及以上成熟光刻设备，二是以光刻胶为代表的电子化学品。据日经新闻报道，主导

ittbank 2023-06-28 913浏览
64亿美元！日本光刻胶龙头同意被国家收购

▲ 更多精彩内容请点击上方蓝字关注我们吧！据外媒报道，日本政府支持的投资公司JIC（产业革新投资机构）计划斥资约9093亿日元（约合64 亿美元），收购日本光刻胶龙头JSR。JIC计划12月底发起要约收购以将JSR私有化，报价为每股4350日元，较其上周五收盘价溢价35%。瑞穗银行和日本开发银行（DBJ）将提供融资。JSR成立于1957年，是世界领先的光刻胶供应商，自1979年开始涉足电子材料市

电子工程世界 2023-06-28 739浏览
重磅！日本正式宣布收购光刻胶巨头JSR

Display之家27日消息，据日本共同社26日晚间报道，日本半导体材料巨头JSR于26日宣布，将被日本政府出资的“产业革新投资机构”(JIC）收购，收购金额约9093亿日元(约合64 亿美元)。日本政府目标在于，重新夺回日本在先进芯片生产中的领先地位，并保有材料及设备供应商的优势。JIC计划12月底发起要约收购以将JSR私有化，报价为每股4350日元，较其上周五收盘价溢价35%。瑞穗银行和日本开

Display之家 2023-06-27 1305浏览
作价近万亿日元，日本光刻胶巨头被收购

欢迎关注EETOP半导体资讯公众号据日媒报道，JSR 周一表示，国家支持基金日本投资公司 (Japan Investment Corp.) 将以约 9000 亿日元（合 63 亿美元）收购半导体材料制造商 JSR Corp.，作为加强日本芯片供应链努力的一部分。EUV光刻当前是半导体工艺中最先进的技术，7nm以下工艺都离不开，日本近年来也希望重新掌握先进工艺，不仅成立了Rapidus公司研发2nm

EETOP 2023-06-27 947浏览
500亿！光刻胶巨头将被收购

来源：集微网、芯榜，谢谢编辑：感知芯视界6月25日消息，据日媒报道，日本半导体设备制造商 JSR 昨日表示，该公司正在考虑一项由国家支持的日本产业革新投资机构（JIC）提出的收购提议，此举对 JSR 和日本的半导体战略都将产生重大影响。报道称，JIC 正在就以约 1 万亿日元（约502亿元人民币）的价格收

感知芯视界 2023-06-25 797浏览
500亿！光刻胶巨头将被收购

6月25日消息，据日媒报道，日本半导体设备制造商 JSR 昨日表示，该公司正在考虑一项由国家支持的日本产业革新投资机构（JIC）提出的收购提议，此举对 JSR 和日本的半导体战略都将产生重大影响。报道称，JIC 正在就以约 1 万亿日元（约502亿元人民币）的价格收购 JSR 进行谈判，而 JSR 表示尚未作出任何决定，但董事会将在周一讨论此事。JIC 计划最早在今年与国内外反垄断机构达成协议后提

半导体前沿 2023-06-25 869浏览
500亿！收购光刻胶巨头JSR！

中国半导体论坛振兴国产半导体产业！不拘中国、放眼世界！关注世界半导体论坛↓↓↓6月25日消息，据日媒报道，日本半导体设备制造商 JSR 昨日表示，该公司正在考虑一项由国家支持的日本产业革新投资机构（JIC）提出的收购提议，此举对 JSR 和日本的半导体战略都将产生重大影响。报道称，JIC 正在就以约 1 万亿日元（约502亿元人民币）的价格收购 JSR 进行谈判，而 JSR 表示尚未作出任

中国半导体论坛 2023-06-25 1505浏览
约500亿元！日本投资公司商谈收购光刻胶巨头JSR

来源：日本经济新闻网6月24日讯，据日经新闻，日本政府支持的日本投资公司（JIC）正商谈以1万亿日元收购用于半导体生产的光刻胶生产公司JSR。日本投资公司计划最早今年提出初步收购意向。如果进展顺利，JSR可能会在2024年被东京证交所摘牌。日本政府与民间合资的产业革新投资机构计划收购半导体材料巨头JSR。预计投资金额将达到1万亿日元（约人民币500亿元）规模，通过取消上市，集中投资半导体业务和进行

CINNOResearch 2023-06-25 1479浏览
东进世美肯正在开发2nm半导体工艺核心材料HighNA光刻胶

CINNO Research产业资讯，东进世美肯（Dongjin Semichem）投身于“High NA极紫外线(EUV)”用光刻胶(Photoresist，PR)的开发中。High NA EUV是被称为新一代半导体曝光设备的设备，被誉为2纳米以下超细微工艺必备的设备。继国内首次量产全部依赖于进口的半导体EUV PR后，将挑战新一代PR材料的国产化。根据韩媒ETNews报道，东进世美肯最近制定了

CINNOResearch 2023-06-20 943浏览
“光刻胶全干法转印”工艺赋能柔性电子器件可靠制造

近日，湖南大学段辉高教授团队通过开发基于“光刻胶全干法转印”技术的新型光刻工艺，用于柔性及不规则（曲面、悬空）衬底上柔性电子器件的原位和高保形制造，为高精度、高可靠性和高稳定性柔性电子器件的制造提供新思路。相关论文以题为Dry-Transferrable Photoresist Enabled Reliable Conformal Patterning for Ultrathin Flexible

MEMS 2023-06-17 1321浏览
ADEKA扩大光刻胶方向光氧化发生剂产能！8月新产线开始稼动

CINNO Research产业资讯，根据日本艾迪科株式会社（以下简称为：“ADEKA”）官网近日披露消息称，千叶新工厂内已引进EUV（极紫外光刻）光刻胶材料一一光氧化发生剂(PAGs)的生产设备，并为新厂房举办了完工仪式。为满足尖端材料的旺盛需求，新产线计划2023年8月开始稼动。5G通信的扩大，以及AI、元宇宙等ICT社会（Information Communications Technolo

CINNOResearch 2023-06-06 1106浏览
韩国自研EUV光刻胶新进展：灵敏度提高，可加快芯片生产速度！

据韩媒TheElec报道，韩国企业Dongjin Semichem东进世美肯在EUV光刻胶的研发上取得了新突破，其光学灵敏度得到了提升，有助于加快芯片生产的速度。这一消息是在5月19日举办的SEMI SMC Korea 2023芯片行业峰会上公布的。东进世美肯改进了其光刻胶的分辨率、线宽粗糙度、灵敏度。在灵敏度方面，其EUV光刻胶曝光所需要的能量从2020年的80mj/cm2，降低到了如今的40m

半导体前沿 2023-05-24 1374浏览
一文讲透光刻胶（芯片制造过程中的关键材料）

光刻胶是芯片制造过程中的关键材料,芯片制造要根据具体的版图(物理设计,layout)设计出掩模板,然后通过光刻(光线通过掩模板,利用光刻胶对裸片衬底等产生影响)形成一层层的结构,最后形成3D立体电路结构,从而产生Die(裸片)。光刻胶又称光致抗蚀剂，是一种对光敏感的混合液体。其组成部分包括：光引发剂（包括光增感剂、光致产酸剂）、光刻胶树脂、单体、溶剂和其他助剂。光刻胶可以通过光化学反应，经曝光、显

滤波器 2023-05-13 5073浏览
常用芯片用光刻胶大全，列齐全了

来源：芯片制造

滤波器 2023-02-02 1060浏览
突破：韩国自主研发的EUV光刻胶已用于生产！

点击蓝字关注我们近日，据ETNews消息，三星已经将韩国本土公司研发的EUV光刻胶（EUV PR），用于一条半导体工艺线生产。图：东进半导体的化学品产线据悉，在2019年日本限制对韩国出口EUV光刻胶后，韩国东进半导体就开始研发EUV光刻胶，并在2021年通过了三星电子的可靠性认证，随后在不到一年的时间里，就将其应用到生产线。据悉，东进半导体于2020年聘任ASML Korea前CEO Young

皇华电子元器件IC供应商 2022-12-08 1254浏览
光刻胶|YOUNGCHANG化学、SK材料正在研发EUV光刻胶

来源：TechWeb12 月 7 日消息，据国外媒体报道，本周早些时候，有外媒在报道中称，多年前就已在尝试重构 EUV 光刻胶供应链的三星电子，已经首次将韩国本土厂商东进世美肯的 EUV 光刻胶，用于他们的一条量产工艺线。而从外媒的报道来看，除了已经用于三星电子一条量产工艺线的东进世美肯，韩国还有两家公司在进行 EUV 光刻胶的研发。外媒在报道中提到的两家公司，分别是YOUNGCHANG化学和Sk

CINNOResearch 2022-12-08 887浏览
被日本“卡脖”3年后，韩国突破了EUV光刻胶

导读：12月2日，据ETNews消息，三星已经将韩国本土公司研发的EUV光刻胶（EUV PR），用于一条半导体工艺线生产。图：东进半导体的化学品产线据悉，在2019年日本限制对韩国出口EUV光刻胶后，韩国东进半导体就开始研发EUV光刻胶，并在2021年通过了三星电子的可靠性认证，随后在不到一年的时间里，就将其应用到生产线。据悉，东进半导体于2020年聘任ASML Korea前CEO Young-s

滤波器 2022-12-07 1372浏览
三星首次引进本土生产光刻胶，三年前遭日本限供

据ETNews消息，三星电子首次引入东进世美肯半导体的光刻胶进入其量产线，这也是三星进行光刻胶本土量产的首次尝试。不过考虑到三星与海外光刻胶供应商的关系，目前具体产量尚不清楚，且三星是否会额外引进其他品种的光刻胶也并没有得到回应。报道称，三星电子已将韩国公司开发的用于高科技工艺的极紫外光刻胶（PR）引入其大规模生产线。2019 年 7 月，日本方面宣布限制向韩国出口包括含氟聚酰亚胺、光刻胶以及高纯

全芯时代 2022-12-05 1584浏览
三星首次引进本土生产光刻胶，日本称霸该市场

12月4日，据 ETNews 消息，三星电子首次引入东进世美肯半导体的光刻胶进入其量产线，这也是三星进行光刻胶本土量产的首次尝试。不过考虑到三星与海外光刻胶供应商的关系，目前具体产量尚不清楚，且三星是否会额外引进其他品种的光刻胶也并没有得到回应。报道称，三星电子已将韩国公司开发的用于高科技工艺的极紫外光刻胶（PR）引入其大规模生产线。2019 年 7 月，日本方面宣布限制向韩国出口包括含氟聚酰亚胺

52RD 2022-12-04 815浏览
如何选择光刻胶剥离液

光刻作为IC制造的关键一环常常被人重视，但是光刻胶最后都是作为牺牲层被去掉的，如何快速、干净的去除工艺后的光刻胶是一个经常被疏忽的问题，但是很重要，直接影响了产品质量。如何快速有效的去除光刻胶。笔者最近就碰到一些去胶的问题，比如正胶和负胶去除需要的工艺有差别。去胶工艺还和光刻胶受过什么样的工艺处理有关，比如ICPRIE之后的光刻胶、还有湿法腐蚀后的光刻胶。市面上针对光刻胶去除的特殊配方的去胶液有很

芯片工艺技术 2022-09-14 3744浏览
光刻胶｜JSR、SK海力士联合研制DRAMEUV光刻胶

CINNO Research产业资讯，SK海力士继美国Lam Research之后，将与日本JSR在下一代DRAM领域展开合作。这是确保内存技术领先地位的一个维度。近日，JSR宣布旗下子公司Inpria和SK海力士为了实现EUV用金属氧化物PR的应用，开展联合研究Inpria 是一家公关公司，成立于 2007 年，是从俄勒冈州立大学化学研究中心分拆出来的。在 2017 年收购 21% 的股份后，J

CINNOResearch 2022-09-01 1028浏览

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