光刻胶 - 电子工程专辑

光刻胶

EUVL组件技术1——光刻胶

2023年，英伟达会成为全球收入最高的公司吗？芝能智芯出品EUV光相互作用的EUVL扫描仪组件的两个部分：1）光刻胶2）反射镜（收集镜）高产量制造（HVM）需求的总体主题，集中在增加使用EUVL制造芯片的产量和良率上。FET，需要缩小单元宽度和单元高度●光刻胶：聚合物特性光刻胶处理对半导体工业至关重要，所有器件元素和相关结构，从场效应晶体管（FET）中的通道到器件之间的电连接，都需要通过光刻制造出

汽车电子设计 2023-09-28 468浏览
EUVL的光刻胶有什么奥秘？

芝能智芯出品全球智能化设备的需求不断增长，推动了半导体行业的创新。极紫外光刻（EUVL）技术是半导体制造的核心技术之一，能够实现更小的特征尺寸，从而实现器件的小型化。全球的研究人员和公司正在专注于开发新型极紫外（EUV）光刻胶材料，以支持纳米级分辨率的EUVL图案化并提高半导体器件的性能。光刻是半导体制造中的关键步骤，传统光刻使用深紫外光，但随着器件尺寸的减小，EUV光刻变得必不可少。EUV光的工

汽车电子设计 2023-09-09 473浏览
陶氏化学工厂爆炸恐冲击光刻胶供给

美国时间7月14日晚9点30分左右，光刻胶供应商陶氏化学（Dows Chemical）位于路易斯安那州的普拉克明工厂发生爆炸。据台媒钜亨网报道，由于陶氏化学为全球半导体光刻胶、抛光垫/液大厂，且路易斯安那州更是其主要生产基地，爆炸恐冲击全球产能供给，连带导致半导体化学材料市场供需失衡，台厂永光可望受惠转单。该报道指出，永光电子化学品中，光电营收比重约4成、半导体6成，产品涵盖前端成熟制程、后端封装

PCBworld 2023-07-18 753浏览
光刻胶巨头工厂爆炸，台企有望受惠转单

美东时间7月14日晚上9点30分左右，位于美国路易斯安那州伊贝维尔教区(WAFB)、密西西比河沿岸的陶氏化学（Dows Chemical）Plaquemine工厂发生一系列爆炸。由于陶氏化学是半导体关键化学材料光阻剂与抛光垫/液的重要供应商，使得该件爆炸事件备受市场关注。报导指出，Plaquemine工厂当时被侦测到共发生六起爆炸，居住在附近的目击者拍到了巨大火焰的影片，并表示几英里外都可以感受到

半导体前沿 2023-07-17 630浏览
63.5亿美元！光刻胶龙头将被日本“国有化”

6月26日，全球最大ArF光刻胶供应商日本JSR宣布，已同意由日本政府支持的基金以约9,093亿日元（约63.5亿美元）的价格收购，该交易意味着这家半导体材料巨头将被日本国有化。图：JSR芯片大师曾发文分析：对华出口管制有哪些“重大漏洞”可以利用，此前理论上国内半导体业向先进工艺迈进可以利用的时间窗口：一是部分未受管控的ArF及以上成熟光刻设备，二是以光刻胶为代表的电子化学品。据日经新闻报道，主导

ittbank 2023-06-28 919浏览
64亿美元！日本光刻胶龙头同意被国家收购

▲ 更多精彩内容请点击上方蓝字关注我们吧！据外媒报道，日本政府支持的投资公司JIC（产业革新投资机构）计划斥资约9093亿日元（约合64 亿美元），收购日本光刻胶龙头JSR。JIC计划12月底发起要约收购以将JSR私有化，报价为每股4350日元，较其上周五收盘价溢价35%。瑞穗银行和日本开发银行（DBJ）将提供融资。JSR成立于1957年，是世界领先的光刻胶供应商，自1979年开始涉足电子材料市

电子工程世界 2023-06-28 742浏览
重磅！日本正式宣布收购光刻胶巨头JSR

Display之家27日消息，据日本共同社26日晚间报道，日本半导体材料巨头JSR于26日宣布，将被日本政府出资的“产业革新投资机构”(JIC）收购，收购金额约9093亿日元(约合64 亿美元)。日本政府目标在于，重新夺回日本在先进芯片生产中的领先地位，并保有材料及设备供应商的优势。JIC计划12月底发起要约收购以将JSR私有化，报价为每股4350日元，较其上周五收盘价溢价35%。瑞穗银行和日本开

Display之家 2023-06-27 1318浏览
作价近万亿日元，日本光刻胶巨头被收购

欢迎关注EETOP半导体资讯公众号据日媒报道，JSR 周一表示，国家支持基金日本投资公司 (Japan Investment Corp.) 将以约 9000 亿日元（合 63 亿美元）收购半导体材料制造商 JSR Corp.，作为加强日本芯片供应链努力的一部分。EUV光刻当前是半导体工艺中最先进的技术，7nm以下工艺都离不开，日本近年来也希望重新掌握先进工艺，不仅成立了Rapidus公司研发2nm

EETOP 2023-06-27 948浏览
500亿！光刻胶巨头将被收购

来源：集微网、芯榜，谢谢编辑：感知芯视界6月25日消息，据日媒报道，日本半导体设备制造商 JSR 昨日表示，该公司正在考虑一项由国家支持的日本产业革新投资机构（JIC）提出的收购提议，此举对 JSR 和日本的半导体战略都将产生重大影响。报道称，JIC 正在就以约 1 万亿日元（约502亿元人民币）的价格收

感知芯视界 2023-06-25 800浏览
500亿！光刻胶巨头将被收购

6月25日消息，据日媒报道，日本半导体设备制造商 JSR 昨日表示，该公司正在考虑一项由国家支持的日本产业革新投资机构（JIC）提出的收购提议，此举对 JSR 和日本的半导体战略都将产生重大影响。报道称，JIC 正在就以约 1 万亿日元（约502亿元人民币）的价格收购 JSR 进行谈判，而 JSR 表示尚未作出任何决定，但董事会将在周一讨论此事。JIC 计划最早在今年与国内外反垄断机构达成协议后提

半导体前沿 2023-06-25 870浏览
500亿！收购光刻胶巨头JSR！

中国半导体论坛振兴国产半导体产业！不拘中国、放眼世界！关注世界半导体论坛↓↓↓6月25日消息，据日媒报道，日本半导体设备制造商 JSR 昨日表示，该公司正在考虑一项由国家支持的日本产业革新投资机构（JIC）提出的收购提议，此举对 JSR 和日本的半导体战略都将产生重大影响。报道称，JIC 正在就以约 1 万亿日元（约502亿元人民币）的价格收购 JSR 进行谈判，而 JSR 表示尚未作出任

中国半导体论坛 2023-06-25 1512浏览
约500亿元！日本投资公司商谈收购光刻胶巨头JSR

来源：日本经济新闻网6月24日讯，据日经新闻，日本政府支持的日本投资公司（JIC）正商谈以1万亿日元收购用于半导体生产的光刻胶生产公司JSR。日本投资公司计划最早今年提出初步收购意向。如果进展顺利，JSR可能会在2024年被东京证交所摘牌。日本政府与民间合资的产业革新投资机构计划收购半导体材料巨头JSR。预计投资金额将达到1万亿日元（约人民币500亿元）规模，通过取消上市，集中投资半导体业务和进行

CINNOResearch 2023-06-25 1500浏览
东进世美肯正在开发2nm半导体工艺核心材料HighNA光刻胶

CINNO Research产业资讯，东进世美肯（Dongjin Semichem）投身于“High NA极紫外线(EUV)”用光刻胶(Photoresist，PR)的开发中。High NA EUV是被称为新一代半导体曝光设备的设备，被誉为2纳米以下超细微工艺必备的设备。继国内首次量产全部依赖于进口的半导体EUV PR后，将挑战新一代PR材料的国产化。根据韩媒ETNews报道，东进世美肯最近制定了

CINNOResearch 2023-06-20 958浏览
“光刻胶全干法转印”工艺赋能柔性电子器件可靠制造

近日，湖南大学段辉高教授团队通过开发基于“光刻胶全干法转印”技术的新型光刻工艺，用于柔性及不规则（曲面、悬空）衬底上柔性电子器件的原位和高保形制造，为高精度、高可靠性和高稳定性柔性电子器件的制造提供新思路。相关论文以题为Dry-Transferrable Photoresist Enabled Reliable Conformal Patterning for Ultrathin Flexible

MEMS 2023-06-17 1368浏览
ADEKA扩大光刻胶方向光氧化发生剂产能！8月新产线开始稼动

CINNO Research产业资讯，根据日本艾迪科株式会社（以下简称为：“ADEKA”）官网近日披露消息称，千叶新工厂内已引进EUV（极紫外光刻）光刻胶材料一一光氧化发生剂(PAGs)的生产设备，并为新厂房举办了完工仪式。为满足尖端材料的旺盛需求，新产线计划2023年8月开始稼动。5G通信的扩大，以及AI、元宇宙等ICT社会（Information Communications Technolo

CINNOResearch 2023-06-06 1114浏览
韩国自研EUV光刻胶新进展：灵敏度提高，可加快芯片生产速度！

据韩媒TheElec报道，韩国企业Dongjin Semichem东进世美肯在EUV光刻胶的研发上取得了新突破，其光学灵敏度得到了提升，有助于加快芯片生产的速度。这一消息是在5月19日举办的SEMI SMC Korea 2023芯片行业峰会上公布的。东进世美肯改进了其光刻胶的分辨率、线宽粗糙度、灵敏度。在灵敏度方面，其EUV光刻胶曝光所需要的能量从2020年的80mj/cm2，降低到了如今的40m

半导体前沿 2023-05-24 1407浏览
一文讲透光刻胶（芯片制造过程中的关键材料）

光刻胶是芯片制造过程中的关键材料,芯片制造要根据具体的版图(物理设计,layout)设计出掩模板,然后通过光刻(光线通过掩模板,利用光刻胶对裸片衬底等产生影响)形成一层层的结构,最后形成3D立体电路结构,从而产生Die(裸片)。光刻胶又称光致抗蚀剂，是一种对光敏感的混合液体。其组成部分包括：光引发剂（包括光增感剂、光致产酸剂）、光刻胶树脂、单体、溶剂和其他助剂。光刻胶可以通过光化学反应，经曝光、显

滤波器 2023-05-13 5497浏览
常用芯片用光刻胶大全，列齐全了

来源：芯片制造

滤波器 2023-02-02 1073浏览
突破：韩国自主研发的EUV光刻胶已用于生产！

点击蓝字关注我们近日，据ETNews消息，三星已经将韩国本土公司研发的EUV光刻胶（EUV PR），用于一条半导体工艺线生产。图：东进半导体的化学品产线据悉，在2019年日本限制对韩国出口EUV光刻胶后，韩国东进半导体就开始研发EUV光刻胶，并在2021年通过了三星电子的可靠性认证，随后在不到一年的时间里，就将其应用到生产线。据悉，东进半导体于2020年聘任ASML Korea前CEO Young

皇华电子元器件IC供应商 2022-12-08 1262浏览
光刻胶|YOUNGCHANG化学、SK材料正在研发EUV光刻胶

来源：TechWeb12 月 7 日消息，据国外媒体报道，本周早些时候，有外媒在报道中称，多年前就已在尝试重构 EUV 光刻胶供应链的三星电子，已经首次将韩国本土厂商东进世美肯的 EUV 光刻胶，用于他们的一条量产工艺线。而从外媒的报道来看，除了已经用于三星电子一条量产工艺线的东进世美肯，韩国还有两家公司在进行 EUV 光刻胶的研发。外媒在报道中提到的两家公司，分别是YOUNGCHANG化学和Sk

CINNOResearch 2022-12-08 890浏览
被日本“卡脖”3年后，韩国突破了EUV光刻胶

导读：12月2日，据ETNews消息，三星已经将韩国本土公司研发的EUV光刻胶（EUV PR），用于一条半导体工艺线生产。图：东进半导体的化学品产线据悉，在2019年日本限制对韩国出口EUV光刻胶后，韩国东进半导体就开始研发EUV光刻胶，并在2021年通过了三星电子的可靠性认证，随后在不到一年的时间里，就将其应用到生产线。据悉，东进半导体于2020年聘任ASML Korea前CEO Young-s

滤波器 2022-12-07 1399浏览
三星首次引进本土生产光刻胶，三年前遭日本限供

据ETNews消息，三星电子首次引入东进世美肯半导体的光刻胶进入其量产线，这也是三星进行光刻胶本土量产的首次尝试。不过考虑到三星与海外光刻胶供应商的关系，目前具体产量尚不清楚，且三星是否会额外引进其他品种的光刻胶也并没有得到回应。报道称，三星电子已将韩国公司开发的用于高科技工艺的极紫外光刻胶（PR）引入其大规模生产线。2019 年 7 月，日本方面宣布限制向韩国出口包括含氟聚酰亚胺、光刻胶以及高纯

全芯时代 2022-12-05 1596浏览
三星首次引进本土生产光刻胶，日本称霸该市场

12月4日，据 ETNews 消息，三星电子首次引入东进世美肯半导体的光刻胶进入其量产线，这也是三星进行光刻胶本土量产的首次尝试。不过考虑到三星与海外光刻胶供应商的关系，目前具体产量尚不清楚，且三星是否会额外引进其他品种的光刻胶也并没有得到回应。报道称，三星电子已将韩国公司开发的用于高科技工艺的极紫外光刻胶（PR）引入其大规模生产线。2019 年 7 月，日本方面宣布限制向韩国出口包括含氟聚酰亚胺

52RD 2022-12-04 820浏览
如何选择光刻胶剥离液

光刻作为IC制造的关键一环常常被人重视，但是光刻胶最后都是作为牺牲层被去掉的，如何快速、干净的去除工艺后的光刻胶是一个经常被疏忽的问题，但是很重要，直接影响了产品质量。如何快速有效的去除光刻胶。笔者最近就碰到一些去胶的问题，比如正胶和负胶去除需要的工艺有差别。去胶工艺还和光刻胶受过什么样的工艺处理有关，比如ICPRIE之后的光刻胶、还有湿法腐蚀后的光刻胶。市面上针对光刻胶去除的特殊配方的去胶液有很

芯片工艺技术 2022-09-14 3896浏览
光刻胶｜JSR、SK海力士联合研制DRAMEUV光刻胶

CINNO Research产业资讯，SK海力士继美国Lam Research之后，将与日本JSR在下一代DRAM领域展开合作。这是确保内存技术领先地位的一个维度。近日，JSR宣布旗下子公司Inpria和SK海力士为了实现EUV用金属氧化物PR的应用，开展联合研究Inpria 是一家公关公司，成立于 2007 年，是从俄勒冈州立大学化学研究中心分拆出来的。在 2017 年收购 21% 的股份后，J

CINNOResearch 2022-09-01 1032浏览

正在努力加载更多...

广告

今日新闻

热门文章排行

广告

最新评论更多>>

我这，原先V10.5跑的好好的代码，更新V11后，单片机初始化时就不断重启

vaov_3734... 评论文章 2025-01-06

FreeRTOSV11.0升级了多项重要功能，兼容V10版本
这里http://www.zhefar.com/download/training/zhefar/Training%20-%20JTAG(CHS).pdf 有份培训资料挺好，是杭州哲发科技有限公司的。他们是专业JTAG方案供应商，其JTAG综合应用系统是众多杰出工程师在二十多年电子通信产品开发过程中，根据工作需要在实践中建立并完善起来的一套调试/调测/维修系统。产品经过大量验证，已经服务于众多知名公司和上市公司。 JTAG综合应用系统三大功能：板卡测试维修、PLD加载/编程和 Flash烧写/编程/加载。 www.zhefar.com 我们和好几个兄弟单位都用过，非常好！

xxdg 评论文章 2025-01-05

强大的JTAG边界扫描2-BSDL文件

资料

文库

帖子

博文

在线研讨会

EE直播间

精密半导体参数测试解决方案直播时间：01月08日 10:00

E聘热招职位