光刻技术 - 电子工程专辑

光刻技术

9200MT/s的DDR5面世：采用EUV光刻技术

▲ 点击上方蓝字关注我们，不错过任何一篇干货文章！2月26日，美光科技公司宣布已经率先向生态系统合作伙伴和特定客户交付基于1γ（1-gamma）、第六代（10nm级）DRAM节点的DDR5内存样品，该内存专为下一代CPU设计。1γ DRAM节点首先应用于16Gb DDR5 DRAM，后续将逐步融入美光的全系列内存产品，以满足行业对高性能、节能AI内存解决方案日益增长的需求。16Gb DDR5产品具

电子工程世界 2025-02-27 129浏览
美国投资8.25亿美元打造EUV光刻技术！

拜登政府宣布将在纽约州奥尔巴尼市投资8.25亿美元，建造国家半导体技术中心（NSTC）的旗舰设施。美国商务部表示，纽约州奥尔巴尼的场地将专注于极紫外（EUV）光刻技术，NSTC是美国首屈一指的研发中心，旨在促进半导体技术创新，培养熟练的劳动力以支持这些新发展，并与私营部门和学术界合作。NSTC的第一座设施名为“CHIPS for America Extreme Ultraviolet (EUV)

飙叔科技洞察 2024-11-01 568浏览
芯碁微装主导的直写光刻技术国家标准正式实施

（广告分割线）芯碁微装主导起草的直写光刻设备GB/T 43725-2024《直写成像式曝光设备》国家标准已通过国家标委会的审核，将于2024年10月1日正式实施。当前，直写光刻设备在PCB及泛半导体领域广泛应用和发展，成为一种新兴的微纳加工设备，但在微纳加工产业装备产业中缺乏直写光刻设备的国家标准。直写光刻技术具备显著优势，诸如数字化掩模设计，无需传统掩模版，降低生产成本；简化工艺流程，大幅缩减生

PCB资讯 2024-09-30 788浏览
来自无锡！国产半导体技术关键突破，其价值不亚于光刻技术！

最近，国产半导体迎来一波技术突破小高潮，如工信部近日官宣国产DUV光刻机正式破壳而出。与此同时，国家电力投资集团也官宣，其下属公司核力创芯成功完成了首批氢离子注入性能优化芯片产品的客户交付。这标志着国产半导体制造的关键领域——氢离子注入技术上，实现了核心技术和工艺的完全自主掌握，填补了国内半导体产业链的重要空白。为何说是重大突破？其主要价值意义又是什么呢？一、什么是氢离子注入技术氢离子注入技术主要

飙叔科技洞察 2024-09-18 1048浏览
【今日快讯】工信部官宣！我国正式突破7nm光刻技术！

今日光电有人说，20世纪是电的世纪，21世纪是光的世纪；知光解电，再小的个体都可以被赋能。追光逐电，光赢未来...欢迎来到今日光电！----追光逐电光赢未来----工信部官网发布新版《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录》，正式官宣我国光刻技术小于等于8nm，也就是7nm获得了全面量产。近日，工业和信息化部正式发布了《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》（以下

今日光电 2024-09-18 3580浏览
日本科学家研发极简版EUV光刻技术！大幅降低成本及功耗！

重磅新课上线！连载过程中5折优惠《ESD与Latch-up: 高抗性与解决方案》日本冲绳科学技术大学（OIST）的津森诚教授提出了一种全新的、大大简化的极紫外（EUV）光刻工具，比ASML开发和制造的EUV光刻机更便宜。如果该设备实现量产，将有望重塑芯片制造设备行业，甚至可能对整个半导体行业产生影响。新系统在其光学投影设置中仅使用两个反射镜，这与传统的六反射镜配置有很大不同。这种光学系统的挑战在于

EETOP 2024-08-08 647浏览
下一代EUV光刻技术解密

三大晶圆代工厂计划最早在 2025 年为 18 埃代工应用High NA EUV 光刻技术，但用标准 EUV（NA = 0.33）取代单次曝光高High NA（0.55）而非双重图案化，取决于它是否能以合理的每片晶圆成本提供更好的结果。到目前为止，2024 年是高数值孔径 EUV 光刻技术的辉煌一年。英特尔代工厂已接收了一台高数值孔径 EUV 扫描仪。英特尔、imec、ASML、IBM 以及即将

半导体工艺与设备 2024-08-06 931浏览
【光电集成】助力光刻技术！“理想”超表面，精准定位光点|前沿进展

今日光电有人说，20世纪是电的世纪，21世纪是光的世纪；知光解电，再小的个体都可以被赋能。追光逐电，光赢未来...欢迎来到今日光电！----追光逐电光赢未来----来源：爱光学3申明：感谢原创作者的辛勤付出。本号转载的文章均会在文中注明，若遇到版权问题请联系我们处理。 ----与智者为伍为创新赋能----【说明】欢迎企业和个人洽谈合作，投稿发文。欢迎联系我们诚招运营合伙人，对新媒体

今日光电 2024-03-21 640浏览
微纳加工|激光直写光刻技术

激光微纳加工技术利用激光脉冲与材料的非线性作用，可以

DT半导体材料 2023-12-21 4883浏览
今晚7点见！华为是如何重返5G的？从光刻技术看半导体先进制程演进

自从集成电路发明以后，人类的电子信息技术开始腾飞，60年多年来，在摩尔定律的指导下，半导体集成电路的高速发展彻底改变了电子产品。以计算机为例，1946年诞生的世界第一台数字计算机重30吨，占地约140平方米。而现在一颗指甲大小的芯片其处理能力已经堪比大型计算机。实际上，集成电路的发展与其制造工艺─——光刻技术的进步密不可分。光刻技术是利用光化学反应原理和化学、物理刻蚀方法将掩模板上的图案传递到晶圆

FPGA开发圈 2023-12-12 1230浏览
【直播预约】华为是如何重返5G的？从光刻技术看半导体先进制程演进

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FPGA开发圈 2023-12-08 521浏览
【直播预约】华为是如何重返5G的？从光刻技术看半导体先进制程演进

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FPGA开发圈 2023-12-07 614浏览
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FPGA开发圈 2023-12-06 541浏览
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FPGA开发圈 2023-12-05 615浏览
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FPGA开发圈 2023-12-04 718浏览
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FPGA开发圈 2023-12-02 739浏览
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FPGA开发圈 2023-12-01 744浏览
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FPGA开发圈 2023-11-30 661浏览
光刻技术，有哪些突围路径？

今日“芯”分享没那么容易。来源 I 电子工程世界作者 I 付斌图片来源 I Unsplash假期期间，俄媒CNews报道称，圣彼得堡已开发出两个用于生产微电子纳米结构的装置，可能解决俄罗斯在微电子领域方向的主权问题，包括两个设备，一个是在基板上进行无掩模的光刻装置，另一个是硅的等离子体化学刻蚀设备。具体来说，无光罩纳米光刻设备成本在500万卢布（约合36.6万人民币）以内，相当于中国一辆质量良

芯潮IC 2023-10-19 773浏览
光刻技术概述及其分类

光刻是一种图像复制技术，是集成电路工艺中至关重要的一项工艺。简单地说，光刻类似照相复制方法，即将掩膜版上的图形精确地复制到涂在硅片表面的光刻胶或其他掩蔽膜上面，然后在光刻胶或其他掩蔽膜的保护下对硅片进行离子注入、刻蚀、金属蒸镀等。光刻技术与芯片的价格和性能密切相关。光刻的最小线宽直接决定器件的最小特征尺寸，器件的特征尺寸越小，在一个硅片上就可以集成越多的器件。随着光刻的技术不断发展，线宽不断缩小，

半导体工艺与设备 2023-08-07 2002浏览
报名IMDS｜直写光刻技术如何满足Mini/MicroLED行业精度需求？

伴随着疫情阴霾散去，全球经济复苏，显示各类技术的商业化进程在快速推进。为了满足Mini/Micro LED行业的技术研讨、产业交流、创新应用的需求，我们将在DIC 2023同期以「突破边界·创变无限」为主题，举办第三届「国际Mini/Micro-LED供应链创新发展峰会（IMDS 2023）」。本届峰会由中国光学光电子行业协会液晶分会、日经BP主办，中国知名电子信息产业咨询公司CINNO Rese

CINNOResearch 2023-07-31 882浏览
【光电集成】3DIC对光刻技术的新技术要求

今日光电有人说，20世纪是电的世纪，21世纪是光的世纪；知光解电，再小的个体都可以被赋能。欢迎来到今日光电！----与智者为伍为创新赋能----来源：光刻人的世界申明：感谢原创作者的辛勤付出。本号转载的文章均会在文中注明，若遇到版权问题请联系我们处理。 ----与智者为伍为创新赋能----【说明】欢迎企业和个人洽谈合作，投稿发文。欢迎联系我们诚招运营合伙人，对新媒体感兴趣，对光

今日光电 2023-07-07 832浏览
ASML/台积电2nm确定用！NV带来光刻技术大飞跃：提速40倍

3月21日晚，NVIDIA春季GTC技术大会召开。值得关注的是，NVIDIA宣布推出cuLitho软件加速库，可以将计算光刻的用时提速40倍。所谓计算光刻就是为芯片生产制作光掩模的技术，掩膜是一种平面透明或半透明的光学元件，上面有芯片加工所需的图案，按照是否需要曝光将图案转移到光刻胶层上。光刻加工过程开始后，通过控制光刻机的曝光和开关操作，可以将光束根据掩膜上的图案进行分割和定位，使得光束只照射到

硬件世界 2023-03-23 1852浏览
重磅！华为公布EUV光刻技术

点击蓝字关注我们在半导体行业，极紫外光刻技术 ( Extreme Ultraviolet，EUV ) 对于芯片研发以及先进制程有着重要意义，可以说，没有EUV光刻技术，半导体产业将停滞不前。根据国家知识产权局官网的消息，华为技术有限公司于11月15日公布了一项与光刻技术相关的专利，专利申请号为202110524685X。（截自国家知识产权局官网）据悉，该专利提供了一种反射镜、光刻装置及其控制方法，

皇华电子元器件IC供应商 2022-11-30 3845浏览
三星对EUV光刻技术的解读

来源：内容由半导体行业观察（ID：icbank）编译自三星半导体，谢谢。三星电子的代工业务几个月前在国际互连技术会议 (IITC) 上发表了一篇关于 EUV 最小间距单一图案化主题的论文。一下这篇文章是为了帮助更多的人了解这篇论文，以及 EUV 技术的特点。光刻是半导体工艺中最关键的步骤之一。EUV是当今半导体行业最热门的关键词，也是光刻技术。为了更好地理解 EUV 是什么，让我们仔细看看光刻技术

路科验证 2022-10-18 1143浏览

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感谢分享，让我学到了很多理论知识

笨小孩cj 评论文章 2025-04-03

天天挂在嘴边的级联噪声系数公式，是怎么推导来的？
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用户17433... 评论文章 2025-03-31

欧阳明高最新百人会报告PPT（附下载）：《电动乘用车发展的新阶段、新挑战与新路径》

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