光刻工艺 - 电子工程专辑

光刻工艺

半导体工艺全流程之光刻工艺

图源网络侵删光刻是半导体芯片生产流程中最复杂、最关键的工艺步骤，耗时长、成本高。半导体芯片生产的难点和关键点在于将电路图从掩模上转移至硅片上，这一过程通过光刻来实现，光刻的工艺水平直接决定芯片的制程水平和性能水平......每个半导体产品的制造都需要数百个工艺，我们将整个制造过程分为八个步骤：晶圆加工-氧化-光刻-刻蚀-薄膜沉积-外延生长-扩散-离子注入。为帮助大家了解和认识半导体及相关工艺，

半导体工艺与设备 2024-07-03 1128浏览
光刻工艺之涂胶问题

“ 光刻作为半导体中的关键工艺，其中包括3大步骤的工艺：涂胶、曝光、显影。三个步骤有一个异常，整个光刻工艺都需要返工处理，因此现场异常的处理显得尤为关键”01—光刻前处理晶圆在光刻前需要做一些特殊处理，比如一些镀膜后的wafer，一些工厂是要求特定时间内完成光刻，减少在工艺外表面的污染。另外我们知道晶圆表面有一定的表面状态，会影响成膜的效果，可以参照文章：wafer表面的亲水性和疏水性会影响什

芯片工艺技术 2024-06-18 975浏览
收藏！半导体工艺全流程之光刻工艺

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滤波器 2024-03-07 1190浏览
收藏！半导体工艺全流程之光刻工艺

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BOE知识酷 2024-03-05 1275浏览
半导体制造之光刻工艺及原理

1半导体制造之光刻及原理光刻工艺就是把芯片制作所需要的线路与功能做出来。利用光刻机发出的光通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的薄片曝光，光刻胶见光后会发生性质变化，从而使光罩上得图形复印到薄片上，从而使薄片具有电子线路图的作用。这就是光刻的作用，类似照相机照相。照相机拍摄的照片是印在底片上，而光刻刻的不是照片，而是电路图和其他电子元件。光刻胶又叫光致抗蚀剂，它是由光敏化合物、基体树脂和有机溶剂等混合而

滤波器 2023-12-04 1491浏览
光刻工艺重要材料短缺！半导体公司加价求货

该材料对于光刻工艺的重要性不弱于光刻机、光刻胶。短缺主要与几个因素有关：先进制程工艺、DUV工艺、AI热潮。据韩国The Elec日前消息，光掩膜厂商Toppan、Photronics以及Dai Nippon Printing的工厂开工率均维持在100%水平。短缺之下，一些中国芯片公司甚至支付了额外费用，以期缩短交货时间。在半导体制造流程中，需使用光蚀刻技术，在芯片上形成图形。而为了将图形复制在晶

科创板日报 2023-11-27 564浏览
【光电集成】半导体制造工艺（一）光刻工艺

今日光电有人说，20世纪是电的世纪，21世纪是光的世纪；知光解电，再小的个体都可以被赋能。欢迎来到今日光电！----与智者为伍为创新赋能----来源： Lightigo申明：感谢原创作者的辛勤付出。本号转载的文章均会在文中注明，若遇到版权问题请联系我们处理。 ----与智者为伍为创新赋能----【说明】欢迎企业和个人洽谈合作，投稿发文。欢迎联系我们诚招运营合伙人，对新媒体感兴趣

今日光电 2023-08-23 1119浏览
半导体工艺全流程之光刻工艺

图源网络侵删光刻是半导体芯片生产流程中最复杂、最关键的工艺步骤，耗时长、成本高。半导体芯片生产的难点和关键点在于将电路图从掩模上转移至硅片上，这一过程通过光刻来实现，光刻的工艺水平直接决定芯片的制程水平和性能水平......每个半导体产品的制造都需要数百个工艺，我们将整个制造过程分为八个步骤：晶圆加工-氧化-光刻-刻蚀-薄膜沉积-外延生长-扩散-离子注入。为帮助大家了解和认识半导体及相关工艺，

半导体工艺与设备 2023-07-22 761浏览
【光电集成】Study|光刻工艺中的测量标记

今日光电有人说，20世纪是电的世纪，21世纪是光的世纪；知光解电，再小的个体都可以被赋能。欢迎来到今日光电！----与智者为伍为创新赋能----来源：光刻人的世界申明：感谢原创作者的辛勤付出。本号转载的文章均会在文中注明，若遇到版权问题请联系我们处理。 ----与智者为伍为创新赋能----【说明】欢迎企业和个人洽谈合作，投稿发文。欢迎联系我们诚招运营合伙人，对新媒体感兴趣，对光

今日光电 2023-07-14 593浏览
无需光刻工艺，华人学者发布可重构集成光子处理器研究成果

据外媒报道，宾夕法尼亚大学工程与应用科学学院梁峰（音译）教授带领的团队，日前在自然杂志子刊发表了“无光刻可重构集成光子处理器”研究成果。论文显示，集成光子学由于其固有的高速、大带宽和无限并行性，对于缓解不断增长的数据驱动算力需求至关重要，不过传统上，光子芯片同样需要通过光刻与刻蚀形成片上特定形貌，引导激光束通过相干电路形成可以执行计算算法的光子网络。与通过光刻调制来预定义光子功能的现有技术完全相反

半导体前沿 2023-05-16 1189浏览
半导体工艺|在晶圆上绘制电路的光刻工艺

人们经常将 Photo Lithography （光刻）缩写成Photo。得此名称的原因是，这个工艺在晶圆上利用光线来照射带有电路图形的掩模版，从而绘制电路。形成图形的方法类似于在洗印黑白照片时，将在胶片上形成的图像印在相纸上。在阅读本文之前，欢迎识别二维码申请加入半导体封装产业链微信群光刻工艺光刻步骤类似于图案绘制的过程。而半导体的生产制造，可以理解为是重复的堆叠和切割。利用光刻工艺，在想要切割

半导体工艺与设备 2023-05-05 1122浏览
半导体工艺|在晶圆上绘制电路的光刻工艺

人们经常将 Photo Lithography （光刻）缩写成Photo。得此名称的原因是，这个工艺在晶圆上利用光线来照射带有电路图形的掩模版，从而绘制电路。形成图形的方法类似于在洗印黑白照片时，将在胶片上形成的图像印在相纸上。在阅读本文之前，欢迎识别二维码申请加入半导体封装产业链微信群光刻工艺光刻步骤类似于图案绘制的过程。而半导体的生产制造，可以理解为是重复的堆叠和切割。利用光刻工艺，在想要切割

半导体工艺与设备 2023-04-30 1481浏览
在晶圆上绘制电路的光刻工艺

人们经常将Photo Lithography （光刻）缩写成Photo。得此名称的原因是，这个工艺在晶圆上利用光线来照射带有电路图形的掩模版，从而绘制电路。形成图形的方法类似于在洗印黑白照片时，将在胶片上形成的图像印在相纸上。光刻工艺光刻步骤类似于图案绘制的过程。而半导体的生产制造，可以理解为是重复的堆叠和切割。利用光刻工艺，在想要切割的位置绘制图案。△光刻工艺基本步骤光刻工艺的第一步就是涂覆光刻

半导体工艺与设备 2023-01-30 1360浏览
半导体制造工艺之光刻工艺（一）

光刻工艺：与小时候玩的“日光照相”原理相似，光刻包括曝光装置、感光材料的光刻胶、有版图的掩膜版，还包括涂胶显影工艺。图1、光刻工艺的流程光刻的工艺流程主要如图1所示，首先，在准备刻蚀的薄膜上面涂上光刻胶，该工序使用涂胶装置(涂胶机)。为了去除光刻胶中含有的溶剂，在70 ~ 90°C的温度下进行前烘(Pre -Bake)。在曝光装置上“绘制”掩膜图形。接下来进行显影，只留下必要的光刻胶。之后，为了完

半导体工艺与设备 2022-12-09 2300浏览
光刻工艺过程详细讲解！

中国半导体论坛振兴国产半导体产业！ ***************END***************中国半导体论坛百万微信群加群步骤：第一步：扫描下方二维码，关注中国半导体论坛微信公众号。第二步：在公众号里面回复“加群”，按照提示操作即可。爆料｜投稿｜合作｜社群文章内容整理自网络，如有侵权请联系沟通投稿或商务合作请联系iccountry有偿新闻爆料请添加微信iccountry

中国半导体论坛 2022-09-21 967浏览
光刻工艺过程详细讲解！

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中国半导体论坛 2022-08-10 965浏览
光刻工艺过程详细讲解！

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中国半导体论坛 2022-08-03 739浏览
光刻工艺过程详细讲解！

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中国半导体论坛 2022-08-01 828浏览
光刻工艺过程详细讲解！

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中国半导体论坛 2022-07-28 850浏览
光刻工艺深度研究报告

光刻工艺是半导体等精密电子器件制造的核心流程，主要工艺流程包括前处理、涂胶、软烘烤、对准曝光、PEB、显影、硬烘烤和检验。光刻工艺通过上述流程将具有细微几何图形结构的光刻胶留在衬底上，再通过刻蚀等工艺将该结构转移到衬底上。光刻胶作为影响光刻效果核心要素之一，是电子产业的关键材料。光刻胶由溶剂、光引发剂和成膜树脂三种主要成分组成，是一种具有光化学敏感性的混合液体。其利用光化学反应，经曝光、显影等光刻

半导体工艺与设备 2022-06-21 2330浏览
光刻工艺深度研究报告

光刻胶：半导体产业自主化的关键一环光刻工艺是半导体等精密电子器件制造的核心流程，主要工艺流程包括前处理、涂胶、软烘烤、对准曝光、PEB、显影、硬烘烤和检验。光刻工艺通过上述流程将具有细微几何图形结构的光刻胶留在衬底上，再通过刻蚀等工艺将该结构转移到衬底上。光刻胶作为影响光刻效果核心要素之一，是电子产业的关键材料。光刻胶由溶剂、光引发剂和成膜树脂三种主要成分组成，是一种具有光化学敏感性的混合液体。其

半导体工艺与设备 2022-01-08 2815浏览
光刻工艺深度研究报告

知识酷 👆显示技术 | 显示资讯 | 知识管理第1163篇推文光刻胶：半导体产业自主化的关键一环光刻工艺是半导体等精密电子器件制造的核心流程，主要工艺流程包括前处理、涂胶、软烘烤、对准曝光、PEB、显影、硬烘烤和检验。光刻工艺通过上述流程将具有细微几何图形结构的光刻胶留在衬底上，再通过刻蚀等工艺将该结构转移到衬底上。光刻胶作为影响光刻效果核心要素之一，是电子产业的关键材料。光刻胶由溶剂、光引发剂和

BOE知识酷 2021-12-03 2171浏览
光刻工艺深度研究报告

来源 | 信达证券、驭势资本研究所智库 | 云脑智库(CloudBrain-TT)云圈 | 进“云脑智库微信群”,请加微信:15881101905,备注您的研究方向文章大纲光刻胶：亟待国产化的半导体核心材料从半导体到 PCB，国产光刻胶持续突破晶圆厂扩产+信越断供，国产替代进入窗口期加速布局把握机遇，推进光刻胶国产化光刻工

云脑智库 2021-12-01 1906浏览
半导体光刻胶解析和光刻工艺详解！

来源：华泰证券光刻是半导体制造微图形工艺的核心，光刻胶是关键材料光刻胶是光刻工艺中最关键材料，国产替代需求紧迫。光刻工艺是指在光照作用下，借助光刻胶将掩膜版上的图形转移到基片上的技术，在半导体制造领域，随着集成电路线宽缩小、集成度大为提升，光刻工艺技术难度大幅提升，成为延续摩尔定律的关键技术之一。同时，器件和走线的复杂度和密集度大幅度提升，高端制程关键层次需要两次甚至多次曝光来实现。其

滤波器 2021-10-30 8146浏览
AMD Zen3小惊喜曝光：上EUV光刻工艺了

AMD的锐龙5000系列处理器下月初就要上市了，全新的Zen3架构IPC性能大涨，不过工艺上面依然是7nm级别的，官方称之为更成熟的7nm工艺。最早的传闻中，AMD的Zen3工艺说是要上7nm EUV工艺的，这是台积电三种7nm工艺版本之一，与其他两种工艺相比，它会使用EUV光刻机，光刻处理效率更高。在Zen3是否会上EUV工艺的问题上，AMD官方的态度一直很模糊，只强调是改良版的7nm工

硬件世界 2020-10-26 1093浏览

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