磁控溅射 - 电子工程专辑

磁控溅射

智芯达MicroLED巨量转移侧边磁控溅射成膜机成功下线

3月11日，智芯达首台（套）巨量转移侧边磁控溅射成膜机成功下线。据了解，巨量转移侧边磁控溅射成膜机采用了3D磁控溅射技术和低温低损技术，通过优化阴极靶材应用、磁场控制和等离子体区域限制等关键技术，显著提升了成膜稳定性和成膜附着力，同时降低了高温损伤，为Micro LED无缝无限拼接性能提升提供了支持。图片来源：智芯达智芯达是一家集研发、制造和销售半导体领域核心设备的企业，专注于新型显示技术，拥

WitDisplay 2025-03-11 84浏览
探究磁控溅射镀膜工艺决定品质的关键参数

磁控溅射镀膜工艺中，众多参数都至关重要。而今天，我们将聚焦其中几个核心参数，它们如同魔法般影响着最终的镀膜质量。掌握这些参数，意味着您将轻松驾驭磁控溅射技术，为您的产品带来卓越的表面处理效果。让我们深入了解这些关键参数，探索如何通过科学控制，提升镀膜品质，让您的工艺达到新的高度！溅射阈值溅射阈值是将靶材原子溅射出来所需的入射离子的最小能量值。入射离子的种类对其影响较小，而靶材却息息相关。能离子量超

DT半导体材料 2024-03-08 2590浏览
适用声波谐振器的磁控溅射制备AIN薄膜优化技术

氮化铝（AlN）具有优良的物理化学特性以及与标准CMOS晶硅技术的兼容性，且在多方面性能上优于氧化锌（ZnO）和锆钛酸铅（PZT），因此成为最受关注的压电材料之一。AlN压电薄膜表现出合适的机电耦合系数、高纵波声速、大杨氏模量和高热导率等特点，随着制备工艺和材料微结构调控技术的快速发展，使其成为5G时代声波谐振器中的关键电子材料。AlN压电薄膜的成膜质量直接决定器件的工作频率、Q值和可靠性。制备A

MEMS 2023-07-28 814浏览
纳米的世界：布勒莱宝光学HELIOS磁控溅射镀膜设备迎接半导体光学的挑战

半导体光学的挑战当下，半导体光学技术在我们的日常生活中已经随处可见，诸如智能手机的3D人脸识别、工业机器人、自动驾驶的激光雷达（LiDAR）等。无论在传统的通讯领域，还是新兴的人机交互、智能感知领域，都拥有无限发展的应用潜力。对于半导体光学的制造环节来说，相比于传统封装，要在晶圆级别高度集成光学功能，这对磁控溅射真空镀膜技术提出更高的挑战。有人曾这样形容磁控溅射技术——就像往平静的湖水里投入了石子

MEMS 2023-04-18 2789浏览

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感谢分享，让我学到了很多理论知识

笨小孩cj 评论文章 2025-04-03

天天挂在嘴边的级联噪声系数公式，是怎么推导来的？
AES11

用户17433... 评论文章 2025-03-31

欧阳明高最新百人会报告PPT（附下载）：《电动乘用车发展的新阶段、新挑战与新路径》

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