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PECVD
北方华创:全新12英寸PECVD设备正式交付!前三季度营收同比增加39.51%!
11月1日,北方华创发文称,近日其自主研发的高均匀性、大产能12英寸等离子体增强化学气相沉积(PECVD)设备——Cygnus系列,已成功交付客户。这一里程碑标志着北方华创在半导体设备制造领域的又一重大突破,进一步巩固了其在薄膜沉积技术的领先地位。Cygnus系列PECVD设备主要用于制备氧化硅、氮化硅、氮氧化硅、碳氧化硅、碳氮化硅等多种高品质介质薄膜,满足逻辑、存储和先进封装对钝化层、隔离层、抗
飙叔科技洞察
2024-11-03
706浏览
薄膜沉积设备解析——PECVD/LPCVD/ALD设备的原理和应用
薄膜沉积是在半导体的主要衬底材料上镀一层膜。这层膜可以有各种各样的材料,比如绝缘化合物二氧化硅,半导体多晶硅、金属铜等。用来镀膜的这个设备就叫薄膜沉积设备。从半导体芯片制作工艺流程来说,位于前道工艺中。薄膜制备工艺按照其成膜方法可分为两大类:物理气相沉积(PVD)和化学气相沉积(CVD),其中CVD工艺设备占比更高。物理气相沉积(PVD)指将材料源表面气化并通过低压气体/等离子体在基体表面沉积,包
半导体工艺与设备
2024-07-10
2045浏览
PECVD制备SiO2光波导薄膜
光波导可以用在很多领域,VR眼睛、光纤分路器等等,而采用PECVD是一种常用且容易控制参数的工艺手段。PECVD是利用辉光放电产生的非平衡等离子体激活反应气体,使之电离,从而获得离子、原子和大量的活性基团,并发生化学反应,在衬底上沉积薄膜。在制备二氧化硅平面光波导分路器时,光波导质量直接影响着器件性能的好坏,其工艺难点主要有:①精确控制膜层的折射率和厚度,目的是最大程度的和设计理论值保持一致,提高
芯片工艺技术
2024-07-03
904浏览
薄膜沉积设备解析——PECVD/LPCVD/ALD设备的原理和应用
薄膜沉积是在半导体的主要衬底材料上镀一层膜。这层膜可以有各种各样的材料,比如绝缘化合物二氧化硅,半导体多晶硅、金属铜等。用来镀膜的这个设备就叫薄膜沉积设备。从半导体芯片制作工艺流程来说,位于前道工艺中。薄膜制备工艺按照其成膜方法可分为两大类:物理气相沉积(PVD)和化学气相沉积(CVD),其中CVD工艺设备占比更高。物理气相沉积(PVD)指将材料源表面气化并通过低压气体/等离子体在基体表面沉积,包
半导体工艺与设备
2023-12-09
5545浏览
薄膜沉积设备解析——PECVD/LPCVD/ALD设备的原理和应用
薄膜沉积是在半导体的主要衬底材料上镀一层膜。这层膜可以有各种各样的材料,比如绝缘化合物二氧化硅,半导体多晶硅、金属铜等。用来镀膜的这个设备就叫薄膜沉积设备。从半导体芯片制作工艺流程来说,位于前道工艺中。薄膜制备工艺按照其成膜方法可分为两大类:物理气相沉积(PVD)和化学气相沉积(CVD),其中CVD工艺设备占比更高。物理气相沉积(PVD)指将材料源表面气化并通过低压气体/等离子体在基体表面沉积,包
半导体工艺与设备
2023-08-29
2012浏览
学习拓荆科技:国内PECVD龙头
股东情况:第一大股东为国家集成电路基金,中微公司持有公司总股本的11.20%,是公司第三大股东。管理团队:董事长、总经理等在内的技术团队拥有泛林、美国诺发、 Mattson、 Intel等的CVD、ALD、量测、刻蚀等丰富的行业经验。客户结构:中芯国际、华虹集团、长江存储、长鑫存储、厦门联芯、燕东微电子等国内外主流晶圆厂客户, 已广泛应用于国内晶圆厂14nm及以上制程集成电路制造产线,并已展开10
半导体工艺与设备
2023-05-18
1574浏览
【求是缘技术沙龙】PECVD设备生产良率对厂房设计的要求挑战和对策
文章来源于求是缘半导体联盟会员单位:生特瑞生特瑞(上海)工程顾问股份有限公司成立于2004年,由一批具有丰富国际工程管理经验、在海外工作逾十年的行业专家管理经营。生特瑞将先进的国际项目管理经验引入中国,为全球汽车、化工、商业、通用工业、公用建筑、新能源、高新技术、生物医药、主题乐园及污水处理等行业的领军企业提供全面而优质的工程服务。“Abstract摘 要PECVD 在芯片成膜与扩散工艺过程中,极
求是缘半导体联盟
2023-03-18
1506浏览
支持存储与逻辑芯片制造!盛美上海进军PECVD设备市场
12月14日消息,盛美半导体设备(上海)股份有限公司(以下简称“盛美上海”)作为一家为半导体前道和先进晶圆级封装应用提供晶圆工艺解决方案的领先设备供应商,近日宣布推出拥有自主知识产权的Ultra PmaxTM等离子体增强化学气相沉积(PECVD)设备,拓展了一个重要的全新产品分类。盛美上海预计将在几周内向中国的一家集成电路客户交付其首台PECVD设备。盛美上海首席执行官王坚表示:“Ultra Pm
半导体前沿
2022-12-14
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