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解散EUV团队？SK海力士和三星在光刻上分道扬镳

▲ 点击上方蓝字关注我们，不错过任何一篇干货文章！韩国两大半导体巨头三星电子和SK海力士在极紫外（EUV）光刻技术上采取了不同的策略，引起了业界的高度关注。这一发展正值两家公司都致力于增强其在高度动态和竞争激烈的半导体市场中的竞争力之际。作为年终组织重组的一部分，三星电子在全球制造和基础设施总部下成立了一个新的工作组（TF）团队，名为“EUV Synergy TF”。此举被视为提高超精细半导体制造

电子工程世界 2024-12-31 48浏览
突发！EUV极紫光技术团队解散！

三星电子最近动作频频，为了推进极紫外（EUV）技术，特别组建了一个新的工作组（TF）团队。这被业界看作是三星为了提高超精细半导体制造，比如3纳米（纳米，就是十亿分之一米）代工过程中的成品率，而采取的一项重要措施。与此同时，SK海力士却在今年的公司重组中解散了它们的EUV TF团队，使得业界开始关注这两家公司在下一代技术方面的组织运作上的差异。据业内人士在12月26日透露，三星电子通过年终重组，在全

集成电路IC 2024-12-27 85浏览
美国投资8.25亿美元打造EUV光刻技术！

拜登政府宣布将在纽约州奥尔巴尼市投资8.25亿美元，建造国家半导体技术中心（NSTC）的旗舰设施。美国商务部表示，纽约州奥尔巴尼的场地将专注于极紫外（EUV）光刻技术，NSTC是美国首屈一指的研发中心，旨在促进半导体技术创新，培养熟练的劳动力以支持这些新发展，并与私营部门和学术界合作。NSTC的第一座设施名为“CHIPS for America Extreme Ultraviolet (EUV)

飙叔科技洞察 2024-11-01 309浏览
EUV薄膜，迎来新突破！

碳纳米管（CNT）作为极紫外（EUV）光刻中使用的薄膜材料而备受关注。尽管CNT具有许多优点，但将其应用于EUV薄膜时，其生产方法是一个问题。芬兰的 Canatu 正在致力于开发碳纳米管的新制造方法。在当今的半导体制造业中，最先进的芯片是在 7nm 及以下代工艺中制造的，几乎没有误差余地。尽管这个微观世界面临着挑战和持续的压力，工程师和科学家仍在继续追求突破摩尔定律极限的尖端工艺、技术和材料。通过

滤波器 2024-09-14 760浏览
突破！可改进EUV光刻

三星正在测试由东京电子提供的GCB设备，旨在改进其EUV光刻工艺。作者 | 张真据韩媒TheElec爆料，三星正在测试由东京电子（TEL）提供的气体团簇光束（GCB）设备，以期改进其极紫外（EUV）光刻工艺。东京电子方面证实，公司正在与客户正一同评估该设备性能，以决定是否将其用于晶圆代工厂。公开资料显示，东京电子是半导体制造设备的主要供应商，主营半导体的蚀刻、沉积和清洁环节，其客户包括先进逻辑及存

科创板日报 2024-09-03 593浏览
日本提出EUV光刻新方案！

国芯网[原:中国半导体论坛] 振兴国产半导体产业！不拘中国、放眼世界！关注世界半导体论坛↓↓↓8月12日消息，据日本冲绳科学技术大学院大学（OIST）官网最新报告，该校设计了一种极紫外（EUV）光刻技术，超越了半导体制造业的标准界限。基于此设计的光刻设备可采用更小的EUV光源，其功耗还不到传统EUV光刻机的十分之一，从而降低成本并大幅提高机器的可靠性和使用寿命。在传统光学系统中，例如照相机、

中国半导体论坛 2024-08-12 542浏览
日本科学家研发极简版EUV光刻技术！大幅降低成本及功耗！

重磅新课上线！连载过程中5折优惠《ESD与Latch-up: 高抗性与解决方案》日本冲绳科学技术大学（OIST）的津森诚教授提出了一种全新的、大大简化的极紫外（EUV）光刻工具，比ASML开发和制造的EUV光刻机更便宜。如果该设备实现量产，将有望重塑芯片制造设备行业，甚至可能对整个半导体行业产生影响。新系统在其光学投影设置中仅使用两个反射镜，这与传统的六反射镜配置有很大不同。这种光学系统的挑战在于

EETOP 2024-08-08 546浏览
EUV光刻新技术问世，能大幅提高能源效率并降低半导体制造成本！

8月2日，冲绳科学技术大学院大学（OIST）的教授新竹俊（Tsumoru Shintake）提出了一种极紫外（EUV）光刻技术。基于这种设计的EUV光刻技术可以使用更小的EUV光源工作，从而降低成本，显著提高机器的可靠性和使用寿命。而在消耗电量上不到传统EUV光刻机的十分之一，有助于半导体行业变得更加环境可持续。据了解，该技术能取得突破，是因为它解决了该领域之前被认为无法克服的两个问题。第一个是仅

飙叔科技洞察 2024-08-06 740浏览
下一代EUV光刻技术解密

三大晶圆代工厂计划最早在 2025 年为 18 埃代工应用High NA EUV 光刻技术，但用标准 EUV（NA = 0.33）取代单次曝光高High NA（0.55）而非双重图案化，取决于它是否能以合理的每片晶圆成本提供更好的结果。到目前为止，2024 年是高数值孔径 EUV 光刻技术的辉煌一年。英特尔代工厂已接收了一台高数值孔径 EUV 扫描仪。英特尔、imec、ASML、IBM 以及即将

半导体工艺与设备 2024-08-06 756浏览
极紫外(EUV)光刻新技术问世！大幅提升半导体制造效益

来源：日本冲绳科学技术大学院大学近日，日本冲绳科学技术大学院大学（OIST）官网最新消息，Tsumoru Shintake 教授团队提出了一种超越半导体制造标准的极紫外 (EUV) 光刻技术。该研究团队称，该技术超越了半导体制造业的标准界限。基于此设计的光刻设备可使用更小的EUV光源，其功耗还不到传统EUV光刻机的十分之一，从而降低成本并大幅提高机器的可靠性和使用寿命。这将有助于半导体行业实现更加

DT半导体材料 2024-08-05 968浏览
将EUV扩展至14A的关键技术有哪些？

（本文编译自Semiconductor Engineering）三大晶圆代工厂计划最早在2025年为18A一代实施高NA EUV光刻技术，但用标准EUV（NA=0.33）的双重曝光技术取代单次曝光高NA（0.55），取决于其是否能以合理的每片晶圆成本提供更好的结果。到目前为止，对于高数值孔径EUV光刻技术而言，2024年是标志性的一年。英特尔代工厂已接收了一台高数值孔径EUV光刻机。英特尔、ime

TechSugar 2024-07-31 565浏览
EUV成ASML的“救命稻草”？

戳👇🏻关注社长带你港股掘金由于光刻支出的战略性质，ASML应该成为长期投资者关注的焦点。作者 | Tech Stock Pros编译 | 华尔街大事件ASML(NASDAQ:ASML)本周早些时候公布了2024年第二季度业绩，导致股价大幅回调逾12%，该股与标准普尔500指数和半市值公司Applied Materials和Lam Research的单月走势图所示。本季度，AS

美股研究社 2024-07-22 748浏览
相比3nm，三星2nm工艺EUV层数将增加30%！三星芯片工厂罢工持续，重启与工会谈判！

三星的2nm工艺节点将比3nm增加30%的极紫外（EUV）层数。消息人士称，三星的3nm节点有20个EUV层，但2nm的EUV层数已增加到26层。他们补充说，三星的1.4nm工艺预计将于2017年开始生产，预计将有超过30个EUV层数。三星于2018年首次在其7nm逻辑工艺节点上应用EUV。从那时起，随着每次迁移到5nm和3nm，三星都会增加芯片生产过程中的EUV层数或EUV工艺步骤数。晶圆代工厂

飙叔科技洞察 2024-07-20 726浏览
EUV光刻，新里程碑

在进入High NA EUV光刻时代的前夕，imec计算技术与系统/计算系统扩展高级副总裁Steven Scheer谈到了ASML-imec联合高NA EUV光刻实验室对半导体行业的意义。Steven Scheer表示：“位于荷兰费尔德霍芬的 ASML-imec High NA EUV 联合光刻实验室的开业，标志着High NA EUV 大规模生产应用准备工作取得里程碑式进展。领先的内存和逻辑芯片

滤波器 2024-07-13 516浏览
英特尔详解Intel3工艺：应用更多EUV光刻，同功耗频率提升至多18%

近日，英特尔介绍了 Intel 3 工艺节点的技术细节。Intel 3 是英特尔最后一代 FinFET 晶体管工艺，相较 Intel 4 增加了使用 EUV 的步骤，也将是一个长期提供代工服务的节点家族，包含基础 Intel 3 和三个变体节点。其中 Intel 3-E 原生支持 1.2V 高电压，适合模拟模块的制造；而未来的 Intel 3-PT 进一步提升了整体性能，并支持更精细的 9μm 间

52RD 2024-06-20 681浏览
ASML再创EUV芯片制造密度记录！

ASML在imec的ITF World 2024大会上宣布，其首台High-NA机器现已超过了两个月前创下的纪录，再次创下新的芯片制造密度记录。ASML前总裁兼首席技术官Martin van den Brink现在在该公司担任顾问职务，他还提议该ASML可以开发一种Hyper-NA芯片制造工具，以进一步扩展其High-NA机器，并共享潜在的路线图。他概述了一项计划，通过从根本上将未来ASML光刻机

EETOP 2024-05-29 634浏览
ASML考虑推出通用EUV光刻平台，覆盖不同数值孔径

据荷兰媒体 Bits&Chips 报道，ASML 顾问、前任 CTO 马丁・范登布林克（Martin van den Brink）近日称，这家光刻机制造商考虑推出一个通用 EUV 光刻平台。范登布林克在本月 21~22 日举行的 2024 年度 imec ITF World 技术论坛上表示：我们提出了一个长期（也许十年）的路线图：我们将拥有一个包含 Low NA（0.33NA）、High NA（0

52RD 2024-05-23 794浏览
台积电的EUV成功之路

点击这里👇关注我，记得标星哦～尽管台积电不能声称自己是第一家使用极紫外（EUV）光刻技术的晶圆厂——这个头衔属于三星——但他们确实声称自己是最大的晶圆厂。因此，该公司多年来在EUV方面积累了丰富的经验，使台积电能够改进他们使用EUV光刻机的方式，以提高生产率/正常运行时间，并降低使用超精细工具的成本。作为该公司本周欧洲技术研讨会的一部分，他们更详细地介绍了他们的EUV使用历史，以及他们进一步将EU

EETOP 2024-05-21 627浏览
三星电子会长李在镕访问蔡司总部，深化EUV光刻和先进半导体设备合作

据三星官方新闻稿，三星电子会长李在镕于当地时间 26 日访问蔡司位于德国奥伯科亨的总部，并于蔡司 CEO 卡尔・兰普雷希特等就加强两家公司的合作进行了讨论。▲ 李在镕（中）、兰普雷希特（左）与蔡司半导体制造技术部门 CEO 安德烈亚斯・佩歇尔（右）在蔡司总部外合影留念。图源三星新闻稿，下同蔡司是 ASML EUV 光刻机光学系统的独家供应商，每台 EUV 光刻机中包含了三万多个由蔡司提供的组件，蔡

52RD 2024-04-29 714浏览
华为新专利能突破EUV封锁？

近日，有外媒报道称，华为与国企半导体公司深圳市新凯来技术有限公司（SiCarrier）公布了一项新的芯片制造专利，该专利被指为是一项低技术但具有巨大潜力的制造方式，且能减少对先进制程光刻技术的依赖，能在没有ASML公司最先进的极紫外光刻机（EUV）的情况下就能生产先进制程芯片。这一传闻的主要依据是华为和新凯来最近公开的一项专利技术，即自对准四重成像技术（SAQP）半导体装置的制作方法以及半导体装置

TechSugar 2024-03-27 4643浏览
SK海力士将购8台EUV设备！

国芯网[原:中国半导体论坛] 振兴国产半导体产业！不拘中国、放眼世界！关注世界半导体论坛↓↓↓2月28日消息，据韩媒报道，SK海力士将于今年引入8台EUV光刻机，推动 DRAM 内存产品的技术演进。SK 海力士现有 5 台光刻机。到今年末，若加上韩媒报道中称的 8 台，其拥有的 EUV 光刻机总数将达 13 台，较年初翻倍有余，大幅提升 EUV 曝光能力。SK 海力士于第四代 10 纳米级制

中国半导体论坛 2024-02-28 738浏览
可减少昂贵EUV光刻使用，德国称DSA自组装技术十年内商用！

2 月 5 日消息，德国默克公司高级副总裁 Anand Nambier 近日在新闻发布会上称，未来十年 DSA 自组装技术将实现商用化，可减少昂贵的 EUV 图案化次数，成为现有光刻技术的重要补充。DSA 全称为 Directed self-assembly，其利用嵌段共聚物的表面特征实现周期性图案的自动构造，在此基础上加以诱导，最终形成方向可控的所需图案。一般认为，DSA 不适合作为一项独立的图

飙叔科技洞察 2024-02-06 636浏览
比EUV节省90%的功耗！佳能将交付第一批纳米压印光刻工具

点击这里👇关注我，记得标星哦～去年，佳能推出了首款纳米压印光刻（NIL）设备，该设备可以与ASML的极紫外（EUV）和先进的深紫外（DUV）光刻系统竞争。据英国《金融时报》报道，本周佳能司表示，首批客户将于今年或明年收到第一台 NIL 机器，不过这将用于试运行。这些新机器的工作原理是在晶圆上压印印记，而不是使用典型的光刻技术进行光学刻录，据称与行业巨头 ASML 的竞争 EUV 机器相比，其能耗

EETOP 2024-02-01 749浏览
Imec与三井在EUV光刻关键组件上达成合作！

点击蓝字关注我们比利时纳米电子创新中心imec和日本化学公司三井化学宣布建立战略合作伙伴关系，将下一代EUV半导体光刻系统的关键组件商业化。此次合作的重点是EUV膜——一种薄而透明的膜，可以保护EUV光掩膜在生产过程中免受潜在污染。imec和三井的合作旨在将基于碳纳米管的新薄膜设计在2025-2026年内投入商业生产，这样可以和提高EUV光刻光源功率的计划同步。薄膜保护由于需要在半导体集成电路上以

SSDFans 2024-01-08 548浏览
DNP开发出用于3纳米EUV光刻的光掩膜工艺

近日，为了响应电路线宽日益精细化的半导体市场需求，Dai Nippon Printing Co., Ltd. (DNP) (TOKYO: 7912)成功开发出一种光掩膜制造工艺，能够适应3纳米（10-9米）光刻工艺，以支持半导体制造的尖端工艺——极紫外(EUV)光刻。能够支持3纳米EUV光刻的光掩膜（照片：美国商业资讯）DNP不断满足半导体制造商对性能和质量的要求。2016年，我们成为全球首家推出

CINNOResearch 2023-12-14 757浏览

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xxdg 评论文章 2025-01-05

强大的JTAG边界扫描2-BSDL文件
好神经的网站，一直登陆阅读完全文，也不跳转，明明登陆了，神经

小瑞不熬夜评论文章 2024-12-27

自动驾驶多车协同与人机协同现状详细总览

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