光刻机-制造半导体器件的关键设备 - 电子工程专辑

光刻机

光刻机是一种利用光学和化学反应将掩膜板上的图案转移到半导体晶圆上的设备,是制造半导体芯片的核心设备之一.

佳能最新光刻机价格：比ASMLEUV低一个数量级

佳能（Canon）公司计划将其最新的芯片制造设备纳米压印光刻机价格定在比ASML最先进的EUV光刻机低一个数量级，以谋求进军正在成为中美技术竞争核心的尖端设备市场。佳能公司的新型纳米压印技术将为较小的半导体制造商提供一种生产先进芯片的途径，目前这一领域几乎完全由ASML垄断，佳能CEO御手洗富士夫表示，"价格将比ASML的EUV（极紫外光）光刻机低一个数量级"。也就是说参考现能卖几亿美元的ASML

EETOP 2023-11-07 861浏览
人类科技之巅,光刻机巨头【阿斯麦股票】在第三季度财报后值得买入吗?

总结：（1）阿斯麦（ASML）公布了强劲的第三季度财务业绩，销售额为67亿欧元，每股收益为4.81欧元，同比增长了12%。（2）阿斯麦重申了其对2023财年销售增长30%的预测，但预计2024财年增长将持平，并称这是2025财年强劲增长之前的过渡年。（3）正如预期的那样，由于晶圆厂的开发延迟，光刻机的销售继续下降，但在2024年进口限制生效之前，阿斯麦在中国的整体销售额比重已经增加到了

猛兽财经 2023-10-20 958浏览
ASML劲敌跳过EUV光刻机造5nm：或可绕过美国限制！

CINNO Research产业资讯，日本佳能官网宣布，公司自2023年10月13日起开始发售一款型号为“FPA-1200NZ2C”的半导体纳米压印设备，该设备“担当”半导体制程中最重要的工序一一图形转移。该设备采用的是一种名为NIL（Nanoimprint Lithography，纳米压印光刻技术）的技术形成半导体线路图案，且该技术不同于传统“投影曝光”。佳能此次发售的新设备，不仅扩充了公司产品

CINNOResearch 2023-10-14 1134浏览
光刻机，66页深度PPT

光刻机是芯片制造中最复杂、最昂贵的设备。芯片制造可以包括多个工艺，如初步氧化、涂光刻胶、曝光、显影、刻蚀、离子注入。这个过程需要用到的设备种类紧多，包括氧化炉、涂胶显影机、光刻机、薄膜沉积设备、刻蚀机、离子注入机、抛光设备、清洗设备和检测设备等。在整个半导体芯片制造过程中，光刻是最复杂工艺，光刻工艺的费用约占芯片制造成本的1/3左右，耗费时间占比约为40-50%，光刻工艺所需的光刻机是最贵的半导体

元器件代理商贞光 2023-09-21 1685浏览
售价超10亿ASML新款EUV光刻机年底出货：2nm离不了

台积电今年要大规模量产3nm工艺了，三星也是，两家还要在2025年左右量产2nm工艺，对EUV光刻工艺的需求更高，而ASML今年底也会出货新款EUV光刻机NXE:3800E，2nm工艺就靠它了。ASML是唯一能量产EUV光刻机的公司，而且迭代了多次，主要是提升能效及产能，目前最新的型号是NXE:3600D，NXE:3800E计划是年底出货，进一步降低EUV光刻的成本。NXE:3800E光刻机的曝光

硬件世界 2023-07-05 744浏览
缩小步进投影光刻机在碲镉汞红外探测器芯片工艺中的应用

光刻是制备碲镉汞红外探测器芯片过程中非常关键的工艺。目前绝大部分碲镉汞芯片制备都是使用接触式光刻技术，但是在曝光面型起伏较大的芯片时工艺均匀性较差，并且掩膜在与芯片接触时容易损伤芯片。由于碲镉汞材料质地软而脆，这种缺陷往往会给碲镉汞芯片带来永久损伤。而投影式光刻技术是非接触式曝光，因此可以完全避免缺陷问题。据麦姆斯咨询报道，近期，中国电子科技集团公司第十一研究所的科研团队在《红外》期刊上发表了以“

MEMS 2023-06-18 1460浏览
一台售价30亿！ASML下一代光刻机！

中国半导体论坛振兴国产半导体产业！不拘中国、放眼世界！关注世界半导体论坛↓↓↓6月17日消息，在半导体工艺进入7nm节点之后，EUV光刻机是少不了的关键设备，目前只有ASML能制造，单台售价10亿人民币，今年底还会迎来下一代EUV光刻机，价格也会大涨。光刻机的分辨率越高，越有利于制造更小的晶体管，而分辨率也跟光刻机物镜的NA数值孔径有直接关系，目前的EUV光刻机是NA=0.33技术的，下代

中国半导体论坛 2023-06-17 1549浏览
万字长文，说透光刻机

光刻机是芯片制造中最复杂、最昂贵的设备。芯片制造可以包括多个工艺，如初步氧化、涂光刻胶、曝光、显影、刻蚀、离子注入。这个过程需要用到的设备种类繁多，包括氧化炉、涂胶显影机、光刻机、薄膜沉积设备、刻蚀机、离子注入机、抛光设备、清洗设备和检测设备等。在整个半导体芯片制造过程中，光刻是最复杂工艺，光刻工艺的费用约占芯片制造成本的1/3左右，耗费时间占比约为40-50%，光刻工艺所需的光刻机是最贵的半导体

手机技术资讯 2023-06-08 1703浏览
万字长文，说透光刻机

来源：内容来自驭势资本，谢谢。光刻机是芯片制造中最复杂、最昂贵的设备。芯片制造可以包括多个工艺，如初步氧化、涂光刻胶、曝光、显影、刻蚀、离子注入。这个过程需要用到的设备种类繁多，包括氧化炉、涂胶显影机、光刻机、薄膜沉积设备、刻蚀机、离子注入机、抛光设备、清洗设备和检测设备等。在整个半导体芯片制造过程中，光刻是最复杂工艺，光刻工艺的费用约占芯片制造成本的1/3左右，耗费时间占比约为40-50%，光刻

芯通社 2023-06-06 1674浏览
光刻机或将成为历史！麻省理工研究出2D晶体管，轻松突破1nm工艺！

写在前面众所周知，光刻机作为芯片生产过程中的最主要的设备之一，其重要性不言而喻。来源：21ic电子网（ID:weixin21ic）先进的制程工艺完全依赖于先进的光刻机设备，比如现阶段台积电最先进的第二代 3nm 工艺，离不开 EUV 光刻机。然而，前不久麻省理工学院（MIT）华裔研究生朱家迪突破了常温条件下由二维（2D）材料制造成功的原子晶体管，每个晶体管只有 3 个原子的厚度，堆叠起来制成的芯片

智能制造IM 2023-06-05 1021浏览
日本大力发展半导体，补贴美光，引进EUV光刻机

据知情人士透露，美光科技公司准备从日本政府获得约 2000 亿日元（15 亿美元）的财政激励，以帮助其在该国生产下一代存储芯片，这是东京努力的最新举措以促进国内半导体生产。因协议未公开而要求匿名的知情人士表示，这家美国公司将使用这笔资金在其位于广岛的工厂安装ASML Holding NV的先进 EUV 芯片制造设备，以制造 DRAM 芯片。这笔资金可能会在日本首相岸田文雄周四会见包括美光首席执行官

半导体工艺与设备 2023-06-05 970浏览
万字长文：说透光刻机

知识酷 👆显示技术 | 显示资讯 | 知识管理第1416篇推文文章大纲光刻是芯片制造最核心环节，大陆自给率亟待提升·光刻机是芯片制造的核心设备，市场规模全球第二·一超两强垄断市场，大陆卡脖子现象凸显光刻机：多个先进系统的组合，核心零部件被海外厂商垄断·从接触式到EUV，制程持续演进·多个先进系统组合，技术壁垒极高光刻是芯片制造最核心环节，大陆自给率亟待提升光刻机是芯片制造最核心环节光刻机是芯片制造

BOE知识酷 2023-06-05 2998浏览
光刻机将成为历史！麻省理工华裔研究出2D晶体管，轻松突破1nm工艺！

众所周知，光刻机作为芯片生产过程中的最主要的设备之一，其重要性不言而喻。先进的制程工艺完全依赖于先进的光刻机设备，比如现阶段台积电最先进的第二代 3nm 工艺，离不开 EUV 光刻机。然而，前不久麻省理工学院（MIT）华裔研究生朱家迪突破了常温条件下由二维（2D）材料制造成功的原子晶体管，每个晶体管只有 3 个原子的厚度，堆叠起来制成的芯片工艺将轻松突破 1nm。▲ 朱佳迪拿着一块 8 英寸的二硫

皇华电子元器件IC供应商 2023-06-05 1319浏览
万字长文，说透光刻机

光刻机是芯片制造中最复杂、最昂贵的设备。芯片制造可以包括多个工艺，如初步氧化、涂光刻胶、曝光、显影、刻蚀、离子注入。这个过程需要用到的设备种类繁多，包括氧化炉、涂胶显影机、光刻机、薄膜沉积设备、刻蚀机、离子注入机、抛光设备、清洗设备和检测设备等。在整个半导体芯片制造过程中，光刻是最复杂工艺，光刻工艺的费用约占芯片制造成本的1/3左右，耗费时间占比约为40-50%，光刻工艺所需的光刻机是最贵的半导体

传感器技术 2023-06-05 3066浏览
万字长文，说透光刻机

光刻机是芯片制造中最复杂、最昂贵的设备。芯片制造可以包括多个工艺，如初步氧化、涂光刻胶、曝光、显影、刻蚀、离子注入。这个过程需要用到的设备种类繁多，包括氧化炉、涂胶显影机、光刻机、薄膜沉积设备、刻蚀机、离子注入机、抛光设备、清洗设备和检测设备等。在整个半导体芯片制造过程中，光刻是最复杂工艺，光刻工艺的费用约占芯片制造成本的1/3左右，耗费时间占比约为40-50%，光刻工艺所需的光刻机是最贵的半导体

滤波器 2023-06-05 1761浏览
华裔科学家颠覆光刻机时代！麻省理工突破1纳米工艺，引领2D晶体管革命的未来

点击上方“小麦大叔”，选择“置顶/星标公众号”福利干货，第一时间送达来源：世界先进技术制造论坛众所周知，光刻机作为芯片生产过程中的最主要的设备之一，其重要性不言而喻。先进的制程工艺完全依赖于先进的光刻机设备，比如现阶段台积电最先进的第二代 3nm 工艺，离不开 EUV 光刻机。然而，前不久麻省理工学院（MIT）华裔研究生朱家迪突破了常温条件下由二维（2D）材料制造成功的原子晶体管，每个晶体管只有

小麦大叔 2023-06-01 2279浏览
光刻机将成为历史！麻省理工华裔研究出2D晶体管，轻松突破1nm工艺！

众所周知，光刻机作为芯片生产过程中的最主要的设备之一，其重要性不言而喻。先进的制程工艺完全依赖于先进的光刻机设备，比如现阶段台积电最先进的第二代 3nm 工艺，离不开 EUV 光刻机。然而，前不久麻省理工学院（MIT）华裔研究生朱家迪突破了常温条件下由二维（2D）材料制造成功的原子晶体管，每个晶体管只有 3 个原子的厚度，堆叠起来制成的芯片工艺将轻松突破 1nm。▲ 朱佳迪拿着一块 8 英寸的二硫

传感器技术 2023-06-01 1255浏览
光刻机或将成为历史！麻省理工华裔：2D晶体管，轻松突破1nm！

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滤波器 2023-05-30 2127浏览
光刻机详解

作为光刻工艺中最重要设备之一，光刻机一次次革命性的突破，使大模集成电路制造技术飞速向前发展。了解提高光刻机性能的关键技术以及了解下一代光刻技术的发展情况是十分重要的。光刻机光刻机（Mask Aligner) 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。光刻（Photolithography）意思是用光来制作一个图形（工艺）；在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临

传感器技术 2023-05-17 2918浏览
俄罗斯自研光刻机！能产7nm芯片！

中国半导体论坛振兴国产半导体产业！不拘中国、放眼世界！关注世界半导体论坛↓↓↓5月2日消息，据俄罗斯媒体报道称，为了推进自研光刻机进度，其已经敲定了相关的合作伙伴。据悉，俄罗斯方面将为两大白俄罗斯微电子领域项目提供约100亿卢布信贷支持，受资助企业包括集成电路成套工艺领域的Integral和精密光刻设备领域的Planar。白俄罗斯方面还透露，已经签署了关于建立两国光掩模开发和生产联合中心的

中国半导体论坛 2023-05-03 1929浏览
为什么最好的光刻机来自荷兰，而不是美国？

在过去的几十年中，美国在半导体行业一直都处于霸主地位，但为什么美国没有一家光刻机顶级企业呢？在一个盛产风车和郁金香的国家，成立初期只有三十几个人的ASML是如何崛起的？这一切，要从半导体发展的三个历史阶段说起。第一个阶段是二十世纪六七十年代，也就是光刻机发展的早期阶段。那时集成电路也刚刚发明不久，光刻工艺还在微米级别，工艺步骤也比现在简单很多美国是走在世界前列的。在那个对工艺要求并不高的年代，很多

FPGA技术江湖 2023-04-29 1702浏览
ASML：2023年光刻机市场需求将超出产能

受消费电子市场低迷影响，半导体产业迈入下行周期，上游半导体设备也因客户去库存、调整订单受到影响。不过，光刻机龙头企业ASML发布的最新财报显示，尽管光刻机业务遭遇一定挑战，但未来产业前景仍旧向好。EUV/DUV收入超预期增长，半导体需求结构性分化4月19日，ASML发布2023年第一季度财报，该季ASML实现了净销售额67亿欧元，毛利率为50.6%，净利润达20亿欧元。今年第一季度的新增订单金额为

半导体工艺与设备 2023-04-25 953浏览
ASML:2023年Q1共售出100台光刻机，营收超500亿元！

半导体制造设备厂商阿斯麦（ASML）19日发布了2023年第一季度财报。2023年第一季度，ASML实现了净销售额67亿欧元，毛利率为50.6%，净利润达20亿欧元。今年第一季度的新增订单金额为38亿欧元，其中16亿欧元为EUV光刻机订单。ASML总裁兼首席执行官Peter Wennink表示：“第一季度的净销售额为67亿欧元，毛利率为50.6%，两者均高于预期。这主要得益于本季度更为迅速的装机服

皇华电子元器件IC供应商 2023-04-20 1160浏览
关于DUV光刻机的一些讨论

最近，因为美日荷的出口管制，有关光刻机的很多讨论又在中文媒体圈发酵。在这里，我们从semianalysis等媒体的报道，向大家展示一下备受关注的DUV光刻机的一些真相。而这一切都要从一个叫做瑞利判据的公式（如下图所示）说起。据相关资料，我们的芯片制造是为了实现更小的特征尺寸（CD），如公式所示，因为K1是个常熟，所以研发人员除了提高数值孔径（NA），那就只能减少光刻机光源的波长（λ）。如下图所示为

半导体工艺与设备 2023-04-14 2011浏览
佳能发售新一代i线步进式光刻机：提升巨大

今天，佳能正式官宣，发布了最新的i线步进式光刻机“FPA-5550iX”，该产品能够同时实现0.5μm（微米）高解像力与50 x 50mm大视场曝光，该产品可用于全画幅CMOS、头戴显示器等小型显示设备的曝光工序、高对比度微型OLED显示器制造等领域。p>所谓i线也就是光源来自波长365nm的水银灯，和EUV光刻机使用的13.5nm波长激光等离子体光源区别明显。

半导体工艺与设备 2023-04-10 677浏览

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