据外媒报道，ASML(阿斯麦）很可能向中国断供光刻设备，中芯国际或因此受到重创。
荷兰半导体设备供货商 ASML 供应极紫外光(EUV) 光刻机给中国客户的计划将暂时中止，据多位 ASML 供货商关系人士指出，ASML 原先计划在 2019 年底之前供应 EUV 光刻机给中芯国际，不过该计划目前已暂时喊停。
一位关系人士表示，ASML 是为了避免因供应最先端设备给中国、因而刺激到美方，因此决定暂时中止交货。EUV 光刻机目前是由 ASML 独占进行研发、制造，无法寻求到替代品。
在主流微电子制造过程中，光刻是最复杂、昂贵和关键的工艺，占总成本的1/3;目前的28nm工艺则需要20道以上光刻步骤，耗费时间约占整个硅片工艺的40-60%。光刻工艺决定着整个IC工艺的特征、尺寸，代表着工艺技术发展水平。由于高技术要求，光刻机制造难度极大，全世界只有少数几家公司能够制造，主要有阿斯麦、Nikon和 Canon等。国内光刻机厂商有上海微电子、中电科集团四十五研究所、合肥芯硕半导体等，由于技术难度巨大,短期内还是处于相对劣势的地位。
阿斯麦的主要业务是光刻机，在光刻机领域处于绝对领先的地位，因为制作光刻机的成本过高再加上复杂的制造工艺的限制，即使是ASML每年也只能产出几十套设备。在45纳米以下制程的高端光刻机市场中，阿斯麦占据80%以上的市场份额，而在EUV光刻机领域，目前处于绝对垄断地位，市占率为100%，处于独家供货的状态。
阿斯麦的主要客户为全球一线的晶圆厂，除了英特尔、三星和台积电这三大巨头之外，国内的中芯国际也是阿斯麦的客户。按照媒体报道，中芯国际的这台EUV微影设备最迟2018年5月才下下单给ASML。因为光刻机造价高昂、年产量非常有限，所以ASML采取按订单排产，这个周期一般是18个月左右。
据了解，EUV 是生产 7nm 以下制程所必要的技术，不过中芯国际自 2019 年起才开始进行 14nm 产品的测试量产，因此即便无法拿到上述的 EUV 光刻设备，预估也不会立即对其业绩带来影响。
中芯国际为中国最大的晶圆代工厂，不过其全球市占率仅约 5%，和掌控约 5 成市占率的台积电之间的差距巨大。 台积电、三星已于 2019 年导入量产最先端产品的 EUV 设备，且苹果预计 2020 年下半年开卖的新型 iPhone 预估就会搭载采用该技术的 CPU。
中国市场占 ASML 营收比重约 2 成、仅次于南韩(35%)，因此 ASML 并不是完全取消上述供货计划，今后将谨慎确认美中紧张情势是否有好转等情况、再来决定后续的应对之策。
而此前有消息称美国台积电限制为华为制造芯片，可以确定的是长期看，美国肯定要制约大陆半导体产业崛起，所以大陆芯片设计公司寻求大陆代工是必然趋势。而作为大陆半导体代工龙头，中芯国际产能充足、产线多样，适合众多芯片代工需求，但是此次如果真的被断供了EUV设备，在先进制程方面恐会有落后。
目前，中芯国际并未对延迟发货进行回应，只说该项目仍处于“文书工作阶段”。ASML表示，它没有对特定的客户订单发表评论。
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