产业丨存储成焦点,SK海力士量产EUV DRAM

原创 AI芯天下 2021-07-22 20:30

·聚焦:人工智能、芯片等行业

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前言

市场占有率排名第三的美光6月时就宣布量产第四代10纳米级(1a)制程DRAM,并供货AMD和Acer,是世界第一家量产第四代10纳米级制程DRAM的公司。


作者 | 方文
图片来源 |  网 络 

 
SK海力士量产第4代DRAM


据韩国中央日报日语版 7月13日报道,SK海力士开始利用EUV光刻机生产第4代DRAM。

 

继内存排名第三的镁光之后,SK-海力士成了第二家量产第4代DRAM的厂家。

 

LPDDR4 (Low Power Double Data Rate 4)是专为移动终端开发的低功耗DRAM规格。

 

此次SK海力士量产的1a纳米级工艺是继1x(第一代)、1y(第二代)、1z(第三代)之后的第四代工艺节点。

 

预计从下半年开始向智能手机厂商供应适用1a纳米级技术的移动端DRAM。

 

SK海力士通过此次量产确保了EUV工艺技术的稳定性,并表示未来的1a纳米级 DRAM都将采用EUV工艺进行生产。

 

相较前一代1z纳米级工艺的同样规格产品,1a纳米级DRAM在每一张晶圆中可产出的产品数量约提高了25%。

 

此次新产品稳定支持 LPDDR4 移动端DRAM规格的最高速度(4266Mbps),并相较前一代产品其功耗也降低了约20%。

 

在本次LPDDR4产品之后,SK海力士还计划从明年初开始将1a纳米级工艺导入于去年十月推出的全球首款DDR5 DRAM。

 

10纳米级DRAM是今年1月,由镁光首次出货的,这给市场带来了不小的震动。不过,镁光将使用现有的氟化氩工艺而不是EUV来生产该产品。

 

新产品的速率将稳定在4266 Mbps,是标准LPDDR4移动端DRAM规范中最快的传输速率,同时功耗将降低20%,SK海力士将从明年初开始将1a nm级工艺技术应用于旗下的DDR5产品。

 

这次比较特别的是,SK海力士通过部分采用了EUV技术,完成了对其稳定性的验证,首次使用EUV光刻设备进行量产。

 

此次量产的1a纳米级DRAM在生产效率和成本竞争力层面都有改善,从而可以期待更高的盈利。

 

通过将EUV技术全面导入量产程序,SK海力士有望进一步巩固引领尖端技术的高新企业地位。



利用EUV光刻技术生产芯片将被扩大


如今半导体产业对于芯片制作精密度的要求越来越高,半导体技术继续向超微级发展,但却卡在18nm-15nm区间无法突破。

 

因此,越来越多的半导体公司开始尝试使用EUV光刻机进行半导体制作,以求实现技术突破。

 

EUV光刻机技术是指在极紫外光下,通过反射投影光学系统,将反射掩模上的图形投影成像在硅片表面的光刻胶上。

 

与先前的1znm节点相比,1anm技术将在相同尺寸的晶圆芯片上增加25%的芯片数量,稳定运行速率达到4266Mbps,是目前标准LPDDR4移动DRAM中运行速度最快的存在;

 

并且在增加传输速率的同时减少了20%的功耗,这将减少二氧化碳的排放,有利于践行绿色发展观。

 

随着技术的迁移,越来越多的半导体企业采用EUV光刻设备生产芯片,一家半导体企业在技术上的领先取决于如何充分利EUV光刻设备。



采用EUV技术生产DRAM的好处


多年来,半导体光刻设备取得了许多进步,EUV能够帮助绘制更精细的电路,因此可以让芯片在相同的表面积内存储更多的数据。

 

采用EUV技术生产DRAM的好处:可以用更小、更精细的形式绘制电路;大幅节省了掩模成本和光刻处理步骤;在相同的表面积中能够存储更多的数据;芯片能耗更令人满意。

 

同时,使电路更精细意味着更多的逻辑门能够安装在单个芯片中。通过这样的方式,就可以让芯片变得更强大,更节能。

 

在部署EUV后,芯片的表面积得到了更有效的利用,为此,业内的人争先恐后地为自己的生产线完善这项技术。



三大DRAM大厂开启EUV制程竞赛


当下,韩国企业在存储芯片市场的分量越来越重,这也推动了该国相关产业的发展。

 

据国际研究机构,2021年1-3月,全球智能手机存储芯片市场规模达到114亿美元(约合人民币738亿元),同比大增21%;

 

市场调查机构《Strategy Analytics》最新研究报告资料指出,2021年第一季,全球智能手机DRAM市场总销金额售额达114亿美元,较2020年同期增长21%。

 

DRAM存储器市场的先进工艺集中度极高,当前仅被极少数厂商掌握,而作为DRAM领域内的三大巨头厂商:三星、SK海力士和美光,更是掌握了大部分的先进技术和DRAM市场大半的市场份额。

 

在未来,三星和美光都将启用EUV光刻设备生产DRAM产品,但美光会更晚一些,按计划要等到2024年。



三星电子在今年1月末发表业绩时明确表示今年内将使用EUV工艺来量产第4代DRAM产品。

 

面对美光,SK海力士也投资2月落成的M16新芯片厂,预计达8000亿韩元设置生产设备,包括EUV曝光机,年底前达每月量产1.8万片12英寸芯片。

 

美光也不甘示弱,日前财报会议透露正与ASML展开采购谈判,预计2024年使用EUV曝光设备生产内存。

 

SK海力士计划在2025年底前花费4.75万亿韩元来确保EUV设备。



结尾


随着生产力和成本竞争力的提高,最新的1anm DRAM不仅有助于确保高利润率,而且还巩固了SK 海力士作为领先技术公司的地位,尽早采用EUV光刻技术进行大规模生产。

 

部分资料参考:柏柏说科技:《SK海力士计划量产1anmDRAM,国际DRAM竞争加剧,国产DRAM迎来挑战》,十轮网:《追赶美光进度,SK海力士宣布量产第四代10纳米级DRAM》,半导体行业观察:《DRAM,进入EUV时代》


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END


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