英特尔创始人之一戈登·科曼(GordonKemen)在1965年发现的一个发展趋势，即单个处理芯片上可以容纳的晶体管数量每18-24个月就会翻倍，CPU的特性也会翻倍。
本来呢，大家也可以不当真，听他吹牛逼就完事儿了。但是好死不死，大家都当真了。
工业皇冠上的明珠——ASML光刻机
ASML光刻机
于是在芯片生产的核心环节出现了像ASML光刻机这样集成人类目前为止最高科技的怪物。
翻开ASML的供应链列表，我们会发现它的所有供应商都是业内最顶尖的。
ASML的供应链列表：
光刻机的工艺精度很大程度上取决于其光源的波长，ASML用的13.5nm波长极紫外EUV光源，来自于美国的Cymer公司。
ASML的镜片供应商是德国的老牌镜片供应商卡尔蔡司，他们提供一种极其极其光滑的，只反射13.5nm波长光的反光镜。
有多光滑呢？如果把直径30cm的镜片放大到地球那么大，最多只有一个头发丝这样高度的凸起。这应该是人类制造的最光滑的物体。
ASML的磁悬浮双工件台系统是自研的，可以做到两个工作台同步运动，误差不超过2nm。
可以看出ASML光刻机是人类内卷极致的产物，是真正工业皇冠上的明珠。
新型光量子芯片问世，光刻机不必再需？
新华社2月28日消息，由中国科研人员主导的国际团队在美国《科学进展》期刊上发表了一篇论文，论文中提到团队已经研发出了一种新型可编程光量子芯片，可实现多种图论问题的量子算法求解，有望应用在数据搜索、模式识别等领域。
这种新型光量子芯片虽然也是采用微纳加工工艺，但主要是在单个芯片上集成大量光量子器件，由于生产原理上的不同，所以可以绕开光刻机的限制。
一旦量子芯片成功商用，诸如7nm、5nm等制程工艺的研究将失去原有的意义，芯片制造领域也将迈进一个新的里程，而过去让无数芯片制造企业趋之若鹜的高端光刻机也将跌落神坛，我们在芯片制造上也将告别过去被卡脖子的境况。
集成电路芯片，已经达到极限
可是理论上来说，采用激光刻录的芯片，最小的径长取决于原子的直径，就是采用一个原子来做晶体管的时候，它的径长，决定了芯片的极限精度。
这个精度是多少？
台积电公布大约是0.1nm！氢原子大小的极限芯片，就是光刻机的物理极限。
先不说光刻机的波长问题，学过器件的人就知道，稳定、性能可控的界面态需要十个~数十个原子排排坐，从这个角度来说，传统的硅平面器件已经到顶了。
戈登分子发现的“规律性”可能无法持续，除非有技术创新。
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光量子芯片可能使“摩尔定律”得以持续
第一，光的网络带宽远大于电子设备；
第二，与电相比，光不易受影响；
第三，光本身可以做一些计算。
而在中国，硅光量子的大规模科研是在2010年左右开始的。过去以学术研究为主的科研比较普遍，导致中国在硅光量子的实际过程中不如英国。而中国在硅光量子技术研发上的大规模人才和资产投入，却推动了发展趋势不晚于英国十年。
中国在硅量子产业的积累就像十年磨一剑。据专家预测，在2022年至2025年大规模生产的情况下，凭借优秀的人才、加工芯片的驱动力、加工技术、资产和销售市场，中国的硅量子技术应该有很好的机会跟上英国。
但是，说句实在话，就我国目前的缺芯现状，光量子芯片对于我们来讲是比火星还远的存在，是“远水解不了近渴”。等光量子芯片解决一个又一个技术难题，然后再量产商用时，也不知道会等到哪个猴年马月。
所以，听到我国这方面的科研成果，心里有个数就行了。虽然还没有实际地走入寻常百姓家，惠及每家每户，但是我国近年来一直瞄准世界科技前沿，将其作为重要强国战略之一，未雨绸缪，正是为了未来进入新时代的时候，不再走在别人后面，像今天一样处处受人掣肘。
结 语
中国芯壮大要经历的种种磨炼，可能还要再以十年为单位来计算，背后消耗的财力、人力、时间，可能会是一个又一个新时代的“范弗利特弹药”。但每一个中华儿女都有决心，也有定力，在这场持久战中，把我们的行业“短板”扎扎实实补齐，一步一个脚印地做下去。
罗马不是一天建成的，中国“芯”之路，没有捷径可走。
— END —
