近日,清纯半导体推出第3代碳化硅(SiC)MOSFET技术平台,该平台首款主驱芯片(型号:S3M008120BK)的常温导通电阻低至8mΩ。该平台通过专利技术和工艺完善,实现了领先国际同类产品的比导通电阻系数Rsp=2.1 mΩ.cm²,如图1所示,进一步实现高电流处理能力和更小损耗,帮助新能源汽车电机驱动器进一步释放SiC高功率密度及高能量转化效率潜力,提高续航里程。
图1 清纯半导体1、2、3代产品比电阻Rsp变化
该产品额定电压为1.2kV,额定电流超过220A,室温阈值电压典型值为2.7~2.8V。图2分别给出了该芯片在常温及高温的输出特性曲线,体现了优良的导通电阻温度特性。在等效的芯片面积下,与上一代技术相比导通损耗降低约20%,能够以更高的效率、更小的封装和更高的可靠性实现应用设计。值得指出的是,和传统芯片迭代技术方式不同,该芯片在降低导通电阻的同时保持了与前两代相近的优良短路耐受特性。
图2 S3M008120BK芯片输出特性
在动态性能方面,该芯片在相同芯片尺寸下寄生电容进一步降低,提高了开关速度。更重要的是,产品通过设计及制造技术的优化,显著改善了MOSFET体二极管的反向恢复特性,峰值电流Irrm实现了近30%的降低,同时软度tb/ta得到了大幅优化,电压过冲Vrrm也得到了显著改善(图3)。这对高速开关应用的损耗降低,以及多芯片并联应用的动态均流,都尤为重要。
图3 S3M008120BK芯片与2代同类产品反向恢复波形对比
第3代产品除了优异的性能改进,还继承了前两代产品在可靠性方面的优势,包括通过了传统栅极可靠性试验对HTGB的考核、栅氧马拉松试验对寿命评估及高压H3TRB、复合应力C-HTRB等加严可靠性试验的测试。DRB、DGS等动态可靠性评估结果表明:第三代产品在动态可靠性试验前后电参数保持稳定,更适合主驱等多芯片并联应用场景,以确保系统在长期使用后依然具有较优的均流特性。
清纯半导体本次推出的第三代MOSFET技术平台核心参数及各类可靠性已经实现了与国际主流厂商最领先产品的对标。技术的创新和产品的领先将助力公司持续为客户创造更多价值,推动行业的持续发展。
——宽禁带半导体材料—下一代高效能器件的极限突破
4月24日 湖北 武汉
论坛背景
半导体材料革新正推动电力电子与通信技术跨越式发展。金刚石、氮化镓与氧化镓作为宽禁带半导体的核心材料,凭借优异的性能加速产业变革——禁带宽度更大,具备高击穿电场、高电子迁移率、高热导率等特性,为半导体器件性能提升、降低功耗、抗辐射等方面提供了新的可能,在电力电子、光电子、微波电子等领域大有可为。
本论坛聚焦材料协同创新与跨领域应用,深入探讨技术瓶颈,全面剖析技术趋势,寻找氮化镓及第四代半导体发展的方案。推动金刚石、GaN与氧化镓从实验室竞争走向场景化互补,加速“双碳”目标与AI算力革命的落地。
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论坛信息
联合主办:CSE组委会、DT新材料
大会主题:激活未来
论坛时间:2025年4月24日
论坛地点:武汉光谷科技会展中心
会议议题
金刚石、氮化镓、氧化镓晶体生长与加工
金刚石、氮化镓、氧化镓薄膜及其外延技术
金刚石、氮化镓、氧化镓功率器件、封装及测试
金刚石、氮化镓、氧化镓相关装备
金刚石、氮化镓、氧化镓产业与政策
2024九峰山论坛暨化合物半导体产业博览会现场
DT新材料重磅亮相第三届九峰山论坛暨化合物半导体产业博览会(CSE),与CSE组委会联合打造宽禁带半导体材料分论坛,深度探讨宽禁带半导体前沿技术与产业化路径。期待与您携手迎接化合物半导体行业的全新机遇与挑战,让我们相约2025年4月23-25日·武汉光谷科技会展中心,共同见证盛会的精彩绽放!
展会期间,我们的媒体展位号是B221,诚邀业界同仁莅临交流,共话产业未来!
与此同时,DT新材料诚挚向您发出邀请——Carbontech2025第九届国际碳材料大会暨产业展览会
时间:2025年12月9-11日 | 地点:上海新国际博览中心