台积电魏哲家:N2制程技术预计今年下半年量产

半导体前沿 2025-04-21 17:25

台积电董事长、总裁魏哲家表示,今年总体经济不确定性持续存在,预期晶圆制造产业维持温和复苏,台积电可稳健成长,能以差异化技术应对5G、人工智能和高效能运算(HPC)产业大趋势成长。

展望台积电先进制程进展,魏哲家透露,N2制程技术预计今年下半年量产,A16解决方案锁定HPC产品,规划2026年下半年量产,预估今年先进制程技术(7纳米及以下先进制程)销售金额占比,上看80%。展望3纳米以下先进制程技术进展,魏哲家指出相关需求持续强劲,3纳米占台积电2024年整体晶圆销售金额比重18%,他透露,N2制程技术预计今年下半年量产,A16解决方案锁定HPC产品,规划2026年下半年量产。

魏哲家预估,今年先进制程技术(7纳米及以下先进制程)销售金额占整体晶圆销售金额比重,可达70%~80%,今年晶圆销售量预期1400万片~1500万片12吋晶圆约当量。台积电指出,2024年晶圆出货量达1290万片12吋晶圆约当量,2023年为1200万片12吋晶圆约当量。2024年先进制程技术(7纳米及以下先进制程)销售金额占整体晶圆销售金额69%,高于2023年的58%。

据悉,台积电在2024年提供288种不同的制程技术,为522个客户生产1万1878种不同产品。2024年台积电占晶圆制造2.0产业产值约34%,2023年相关比重约28%。

来源:集微网

会议背景


近年来,中国对高端光掩模的需求快速增长,但技术研发、生产能力及产业

链整合方面仍面临诸多挑战。全球半导体光掩模版市场在2018年至2022年间

从40.4亿美元增长至49亿美元,年复合增长率达4.9%。预计到2025年,该

市场规模将进一步扩大至约55亿美元。亚化咨询研究认为我国2025年第三方

掩模版市场规模占比为70%左右:预计2030年中国掩模版市场规模有望达到

120亿元。


全球光掩模版市场主要由Photronics、日本凸版(Toppan)和大日本印刷(DNP)

三大企业主导,市场占有率超过80%。而在中国市场,路维光电、清溢光电、

冠石科技、龙图光罩等本土企业正在不断提升其市场竞争力,并在国产化替

代方面取得初步突破。


2023年我国半导体制造用光刻胶市场规模为39.6亿元,而国内企业半导体制

造用光刻胶销售收入仅为10.1亿元。预计2024年光刻胶销售收入达到13.1亿元。


在ArF光刻胶领域,国内厂商正在加快研发进程,并取得了核心突破。国内一

些光刻胶龙头企业如上海新阳、南大光电、容大感光、广信材料、晶瑞电材

等,在光刻胶的研发和生产方面取得了显著进展。据亚化咨询最新行业调研,

国内领先的光刻胶新锐企业还包括珠海基石(2022年成立)、国科天骥(2019年

成立)等。


“第2届光掩模与光刻胶产业论坛”将于5月28日召开。本次论坛由亚化咨询主办。此次会议将汇聚光掩模及光刻胶行业的领军企业、机构的技术和市场专家,探讨中国光掩模版产业的技术进展、市场机遇与挑战,以及产业前景展望.


会议主题

1.半导体产业与中国光掩模版市场机遇

2.高端光掩模版的国产化:挑战、技术突破项目投资

3.成熟制程光掩模版的优化:降本增效与工艺创新

4.极紫外光(EUV)掩模版技术

5.光掩模版精密检测与质量控制技术

6.光掩模版的技术与产业升级:从平板显示到集成电路

7.光掩模版生产关键设备:供应链瓶颈与国产替代方案

8.掩膜版的材料创新:新型基板材料、涂覆材料等

9.电子束(E-Beam)光刻技术对光掩模发展的影响

10.电子束光刻胶与其他光掩模版材料

11.光掩模版智能化制造与自动化检测

12.ArF光刻胶的研发现状及中国市场潜力

13.光刻胶在EUV与KrF技术中的应用与发展趋势

14.光刻胶关键材料国产化进程与国际合作


赞助方案



项目

项目内容

主题演讲

25分钟主题演讲

参会名额

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“半导体前沿”微信公众号,

企业介绍以及相关软文

会刊广告

研讨会会刊,

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资料入袋赞助

企业的宣传册放入会议包袋

现场展台

现场展示台,展示样品、资料,

含两个参会名额

现场易拉宝

现场1个易拉宝展示

礼品赞助

印有赞助商logo的礼品赠送参会听众

茶歇赞助

冠名和赞助会议期间的茶歇

晚宴赞助

冠名和赞助会议的招待晚宴

Logo展示

背景墙 logo,会刊封面logo




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关于亚化咨询

亚化咨询是国内领先的新兴能源、材料领域的产业智库,2008年成立于上海浦东。业务范围:咨询研究、会议培训、产业中介。重点关注:新兴能源、材料产业,如煤化工、高端石化、光伏、氢能与燃料电池、生物能源材料、半导体、储能等。

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