宇树科技回应“机器人半马摔倒”

半导体前沿 2025-04-21 17:25


网传视频显示宇树科技G1机器人在首届人形机器人半程马拉松比赛中摔倒。宇树科技向媒体表示,宇树最近都完全没有参与任何比赛。

2025北京亦庄半程马拉松暨人形机器人半程马拉松于19日开跑。共有20支队伍参与了此次人形机器人半马,使用的人形机器人产品包括了天工、宇树G1、乐聚夸父、松延动力N2、行者二号、加速进化T1等。此次比赛全长21.0975公里,比赛地形环境包含平地、坡道,最大坡度达到9°,比赛线路整体平顺,共包括6个左转道、8个右转道,无折返,转弯角度≥90°,为人形机器人赛队提供了线路GPS坐标数据。

此次参赛的人形机器人“状况百出”,有的在起点未能成功起身,有的慢悠悠地走出起点“闲庭信步”,有的刚出起点没多久就偏离方向或是摔倒,有的机器人在半路开始与观众互动表演……本次比赛中,还有两支队伍采用了宇树科技的G1机器人,表现也都不尽如人意。

宇树科技对此表示,宇树最近都完全没有参与任何比赛,主要忙着准备人形机器人的格斗直播。“我们的G1人形机器人,从去年发货开始,已经出售给全球非常多的客户,使用了很久。所以这次马拉松比赛,也有好几个独立的团队使用我们的机器人。比如我们的客户用他们自己的算法参与了比赛,所以在现场能看到不少我们的机器人。有好几个独立团队在使用,不同人操作或开发情况下,机器人的表现差别很大,请大家不要误解”。


来源:集微网

会议背景


近年来,中国对高端光掩模的需求快速增长,但技术研发、生产能力及产业

链整合方面仍面临诸多挑战。全球半导体光掩模版市场在2018年至2022年间

从40.4亿美元增长至49亿美元,年复合增长率达4.9%。预计到2025年,该

市场规模将进一步扩大至约55亿美元。亚化咨询研究认为我国2025年第三方

掩模版市场规模占比为70%左右:预计2030年中国掩模版市场规模有望达到

120亿元。


全球光掩模版市场主要由Photronics、日本凸版(Toppan)和大日本印刷(DNP)

三大企业主导,市场占有率超过80%。而在中国市场,路维光电、清溢光电、

冠石科技、龙图光罩等本土企业正在不断提升其市场竞争力,并在国产化替

代方面取得初步突破。


2023年我国半导体制造用光刻胶市场规模为39.6亿元,而国内企业半导体制

造用光刻胶销售收入仅为10.1亿元。预计2024年光刻胶销售收入达到13.1亿元。


在ArF光刻胶领域,国内厂商正在加快研发进程,并取得了核心突破。国内一

些光刻胶龙头企业如上海新阳、南大光电、容大感光、广信材料、晶瑞电材

等,在光刻胶的研发和生产方面取得了显著进展。据亚化咨询最新行业调研,

国内领先的光刻胶新锐企业还包括珠海基石(2022年成立)、国科天骥(2019年

成立)等。


“第2届光掩模与光刻胶产业论坛”将于5月28日召开。本次论坛由亚化咨询主办。此次会议将汇聚光掩模及光刻胶行业的领军企业、机构的技术和市场专家,探讨中国光掩模版产业的技术进展、市场机遇与挑战,以及产业前景展望.


会议主题

1.半导体产业与中国光掩模版市场机遇

2.高端光掩模版的国产化:挑战、技术突破项目投资

3.成熟制程光掩模版的优化:降本增效与工艺创新

4.极紫外光(EUV)掩模版技术

5.光掩模版精密检测与质量控制技术

6.光掩模版的技术与产业升级:从平板显示到集成电路

7.光掩模版生产关键设备:供应链瓶颈与国产替代方案

8.掩膜版的材料创新:新型基板材料、涂覆材料等

9.电子束(E-Beam)光刻技术对光掩模发展的影响

10.电子束光刻胶与其他光掩模版材料

11.光掩模版智能化制造与自动化检测

12.ArF光刻胶的研发现状及中国市场潜力

13.光刻胶在EUV与KrF技术中的应用与发展趋势

14.光刻胶关键材料国产化进程与国际合作


赞助方案



项目

项目内容

主题演讲

25分钟主题演讲

参会名额

微信推送

“半导体前沿”微信公众号,

企业介绍以及相关软文

会刊广告

研讨会会刊,

彩色全页广告(尺寸A4)

资料入袋赞助

企业的宣传册放入会议包袋

现场展台

现场展示台,展示样品、资料,

含两个参会名额

现场易拉宝

现场1个易拉宝展示

礼品赞助

印有赞助商logo的礼品赠送参会听众

茶歇赞助

冠名和赞助会议期间的茶歇

晚宴赞助

冠名和赞助会议的招待晚宴

Logo展示

背景墙 logo,会刊封面logo




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关于亚化咨询

亚化咨询是国内领先的新兴能源、材料领域的产业智库,2008年成立于上海浦东。业务范围:咨询研究、会议培训、产业中介。重点关注:新兴能源、材料产业,如煤化工、高端石化、光伏、氢能与燃料电池、生物能源材料、半导体、储能等。

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