英特尔出售Altera

英特尔已达成一项协议，将以 44.6 亿美元的价格把旗下Altera部门的多数股权转让给银湖资本（Silver Lake），这使得该业务的估值达到 87.5 亿美元。这笔交易是英特尔精简运营、改善财务状况举措的一部分，同时也让Altera成为全球最大的纯现场可编程门阵列（FPGA）供应商。

根据协议条款，银湖资本（Silver Lake）将收购Altera 51% 的股权，而英特尔保留 49% 的股权，以确保其能继续从该部门未来的业绩中受益。这笔交易使Altera能够作为一家专注于可编程逻辑（FPGA）技术的独立公司运营。具体而言，Altera旨在大力发展汽车、航空航天和通信等成熟领域，同时也瞄准人工智能、云平台、边缘系统和下一代无线网络等领域的增长机会。

另一方面，英特尔将降低运营复杂性，并专注于其主要业务领域：中央处理器（CPU）、图形处理器（GPU）、支持平台和芯片生产。

英特尔首席执行官陈立武（Lip-Bu Tan）表示：“今天的公告体现了我们在集中业务重点、降低费用结构以及强化资产负债表方面的决心。Altera在重新定位其产品组合以参与 FPGA 市场中增长最快、利润最高的细分领域方面，持续取得进展。”

从 2025 年 5 月 5 日起，拉吉布・侯赛因（Raghib Hussain）将出任Altera的负责人。他将接替桑德拉・里维拉（Sandra Rivera），后者在英特尔工作了 25 年后即将卸任。侯赛因此前曾担任美满电子科技（Marvell）的产品与技术总裁，并共同创立了芯片公司Cavium。他早期的职位包括在思科（Cisco）和Cadence的工程岗位，还曾创立一家名为 VPNet 的安全公司。

陈立武表示：“我们感谢桑德拉在英特尔工作的 25 年里所展现出的卓越领导力和留下的深远影响，并祝愿她在开启新篇章时继续取得成功。拉吉布是一位非常出色的高管，基于他丰富的行业经验和已被证明的成功业绩，我们选择他来引领公司向前发展。我们期待在交易完成后与银湖资本合作，因为他们的行业专业知识将有助于加速Altera的发展，并为英特尔释放更多的经济价值。”

2015 年，英特尔以 167 亿美元的价格收购了Altera，这在当时是英特尔规模最大的一笔交易，公司将此次收购视为拓宽收入来源、巩固其在数据中心市场地位的一项战略举措。如今，英特尔以约 44.6 亿美元的价格出售了Altera的控股权，目前Altera的估值为 87.5 亿美元，与 10 年前英特尔收购Altera时支付的金额相比大幅下降约50%。

该交易预计将在 2025 年下半年完成，但需获得监管部门的批准及满足其他条件。一旦交易完成，英特尔将把Altera的财务业绩从其合并报表中剔除。在上一财年，Altera的营收为 15.4 亿美元，按照标准会计准则计算出现了 6.15 亿美元的亏损，但在非通用会计准则（non-GAAP）的基础上实现了 3500 万美元的盈利。

来源：EETOP

近年来，中国对高端光掩模的需求快速增长，但技术研发、生产能力及产业

链整合方面仍面临诸多挑战。全球半导体光掩模版市场在2018年至2022年间

从40.4亿美元增长至49亿美元，年复合增长率达4.9%。预计到2025年，该

市场规模将进一步扩大至约55亿美元。亚化咨询研究认为我国2025年第三方

掩模版市场规模占比为70%左右:预计2030年中国掩模版市场规模有望达到

120亿元。

全球光掩模版市场主要由Photronics、日本凸版(Toppan)和大日本印刷(DNP)

三大企业主导，市场占有率超过80%。而在中国市场，路维光电、清溢光电、

冠石科技、龙图光罩等本土企业正在不断提升其市场竞争力，并在国产化替

代方面取得初步突破。

2023年我国半导体制造用光刻胶市场规模为39.6亿元，而国内企业半导体制

造用光刻胶销售收入仅为10.1亿元。预计2024年光刻胶销售收入达到13.1亿元。

在ArF光刻胶领域，国内厂商正在加快研发进程，并取得了核心突破。国内一

些光刻胶龙头企业如上海新阳、南大光电、容大感光、广信材料、晶瑞电材

等，在光刻胶的研发和生产方面取得了显著进展。据亚化咨询最新行业调研，

国内领先的光刻胶新锐企业还包括珠海基石(2022年成立)、国科天骥(2019年

成立)等。

“第2届光掩模与光刻胶产业论坛”将于5月28日召开。本次论坛由亚化咨询主办。此次会议将汇聚光掩模及光刻胶行业的领军企业、机构的技术和市场专家，探讨中国光掩模版产业的技术进展、市场机遇与挑战，以及产业前景展望.

会议主题

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2.高端光掩模版的国产化：挑战、技术突破项目投资

3.成熟制程光掩模版的优化：降本增效与工艺创新

4.极紫外光（EUV）掩模版技术

5.光掩模版精密检测与质量控制技术

6.光掩模版的技术与产业升级：从平板显示到集成电路

7.光掩模版生产关键设备：供应链瓶颈与国产替代方案

8.掩膜版的材料创新：新型基板材料、涂覆材料等

9.电子束（E-Beam）光刻技术对光掩模发展的影响

10.电子束光刻胶与其他光掩模版材料

11.光掩模版智能化制造与自动化检测

12.ArF光刻胶的研发现状及中国市场潜力

13.光刻胶在EUV与KrF技术中的应用与发展趋势

14.光刻胶关键材料国产化进程与国际合作

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