3月31日消息，近日台积电供应链透露，台积电在1.4nm制程推进获得重大突破。
台积电近期已通知供应商备妥1.4nm所需设备，预定今年先进新竹宝山第二厂装设试产线（Mini-line），同时也计划将原订采用2nm制程的宝山晶圆20厂的三厂和四厂，作为1.4nm的生产据点。
此外，台积电今天举行高雄厂2nm上梁暨三厂动土典礼，展现先进制程根留台湾决心。台积电2nm生产据点采南北两地同步进行，新竹宝山厂进度似乎比高雄快，却选在高雄厂举行扩建2nm仪式，除了感谢高雄市鼎力相助，也透露台积电先进制程未来生产重心将逐步南移。
根据台积电提出最新的规划蓝图，已将原规划宝山厂（Fab 20）四座2nm厂的计划，更动为P3及P4厂改切入1.4nm；高雄（Fab 22）2nm则由原规划的P1、P2厂，修正为P1~P3厂，意谓高雄将有至少三座2nm厂，至于P4、P5厂甫于本月初通过环评，已启动建筑规划、执照申请及现地开工等作业，预计二○二七年竣工及申领使照，未来将生产同属2nm家族的Ｎ２Ｐ、Ｎ２X及Ａ16（1.6nm）。
此外，台积电保留高雄兴建第六厂（P6）弹性，目前未做规划，据了解，似乎也未来是否导入更先进制程使用预作准备。
来源：官方媒体/网络新闻
会议背景
近年来，中国对高端光掩模的需求快速增长，但技术研发、生产能力及产业
链整合方面仍面临诸多挑战。全球半导体光掩模版市场在2018年至2022年间
从40.4亿美元增长至49亿美元，年复合增长率达4.9%。预计到2025年，该
市场规模将进一步扩大至约55亿美元。亚化咨询研究认为我国2025年第三方
掩模版市场规模占比为70%左右:预计2030年中国掩模版市场规模有望达到
120亿元。
全球光掩模版市场主要由Photronics、日本凸版(Toppan)和大日本印刷(DNP)
三大企业主导，市场占有率超过80%。而在中国市场，路维光电、清溢光电、
冠石科技、龙图光罩等本土企业正在不断提升其市场竞争力，并在国产化替
代方面取得初步突破。
2023年我国半导体制造用光刻胶市场规模为39.6亿元，而国内企业半导体制
造用光刻胶销售收入仅为10.1亿元。预计2024年光刻胶销售收入达到13.1亿元。
在ArF光刻胶领域，国内厂商正在加快研发进程，并取得了核心突破。国内一
些光刻胶龙头企业如上海新阳、南大光电、容大感光、广信材料、晶瑞电材
等，在光刻胶的研发和生产方面取得了显著进展。据亚化咨询最新行业调研，
国内领先的光刻胶新锐企业还包括珠海基石(2022年成立)、国科天骥(2019年
成立)等。
“第2届光掩模与光刻胶产业论坛”将于5月28日召开。本次论坛由亚化咨询主办。此次会议将汇聚光掩模及光刻胶行业的领军企业、机构的技术和市场专家，探讨中国光掩模版产业的技术进展、市场机遇与挑战，以及产业前景展望.
会议主题
1.半导体产业与中国光掩模版市场机遇
2.高端光掩模版的国产化：挑战、技术突破项目投资
3.成熟制程光掩模版的优化：降本增效与工艺创新
4.极紫外光（EUV）掩模版技术
5.光掩模版精密检测与质量控制技术
6.光掩模版的技术与产业升级：从平板显示到集成电路
7.光掩模版生产关键设备：供应链瓶颈与国产替代方案
8.掩膜版的材料创新：新型基板材料、涂覆材料等
9.电子束（E-Beam）光刻技术对光掩模发展的影响
10.电子束光刻胶与其他光掩模版材料
11.光掩模版智能化制造与自动化检测
12.ArF光刻胶的研发现状及中国市场潜力
13.光刻胶在EUV与KrF技术中的应用与发展趋势
14.光刻胶关键材料国产化进程与国际合作
赞助方案
项目 | 项目内容 |
主题演讲 | 25分钟主题演讲 |
参会名额 | |
微信推送 | “半导体前沿”微信公众号， 企业介绍以及相关软文 |
会刊广告 | 研讨会会刊， 彩色全页广告（尺寸A4） |
资料入袋赞助 | 企业的宣传册放入会议包袋 |
现场展台 | 现场展示台，展示样品、资料， 含两个参会名额 |
现场易拉宝 | 现场1个易拉宝展示 |
礼品赞助 | 印有赞助商logo的礼品赠送参会听众 |
茶歇赞助 | 冠名和赞助会议期间的茶歇 |
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关于亚化咨询
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