但当2025年3月华为公布了三进制逻辑门专利（CN119652311A）时，这个曾被视为“前苏联实验室失败品”的技术，竟在中国科学家的手中涅槃重生。
2025年3月18日，国家知识产权局信息显示，华为技术有限公司公布了一项名为“三进制逻辑门电路、计算电路、芯片以及电子设备”的专利，公开号为CN 119652311 A，申请日期为2023年9月18日。
该专利提供一种三进制逻辑门电路、计算电路、芯片以及电子设备，可以实现输入逻辑值的加1、减1。
基于该三进制逻辑门电路，利用三值逻辑的27种单变量函数，将该三进制逻辑门电路应用于三进制逻辑电路中，可以实现简化三进制逻辑电路的结构的目的，可以减少三进制逻辑电路中的晶体管数量，降低三进制逻辑电路的功耗，以及提高三进制逻辑电路的计算效率.
附录1：专利部分图示：
此外，关于三进制除了前苏联和华为，其实也有很多国家也在研发。比如在 2019 年 7 月，韩国科研团队便已在大尺寸晶圆上成功实现了一种更节能的三元金属氧化物半导体。韩国蔚山科学技术大学电子和计算机工程系教授 Kyung Rok Kim 及其团队，成功开发出一种基于三进制逻辑系统运行的半导体，区别于现行的二进制逻辑系统。这一研究成果的论文发表在《自然・电子学》上。
该科研团队称，三进制系统由 0、1、2 组成，利用这一系统，半导体需处理的信息数量减少，信息处理速度得到提升，能耗也随之降低。同时，该技术有助于进一步缩小芯片尺寸。三星当时表示已在芯片代工业务部门对这一技术展开验证。
来源：官方媒体/网络新闻
会议背景
近年来，中国对高端光掩模的需求快速增长，但技术研发、生产能力及产业
链整合方面仍面临诸多挑战。全球半导体光掩模版市场在2018年至2022年间
从40.4亿美元增长至49亿美元，年复合增长率达4.9%。预计到2025年，该
市场规模将进一步扩大至约55亿美元。亚化咨询研究认为我国2025年第三方
掩模版市场规模占比为70%左右:预计2030年中国掩模版市场规模有望达到
120亿元。
全球光掩模版市场主要由Photronics、日本凸版(Toppan)和大日本印刷(DNP)
三大企业主导，市场占有率超过80%。而在中国市场，路维光电、清溢光电、
冠石科技、龙图光罩等本土企业正在不断提升其市场竞争力，并在国产化替
代方面取得初步突破。
2023年我国半导体制造用光刻胶市场规模为39.6亿元，而国内企业半导体制
造用光刻胶销售收入仅为10.1亿元。预计2024年光刻胶销售收入达到13.1亿元。
在ArF光刻胶领域，国内厂商正在加快研发进程，并取得了核心突破。国内一
些光刻胶龙头企业如上海新阳、南大光电、容大感光、广信材料、晶瑞电材
等，在光刻胶的研发和生产方面取得了显著进展。据亚化咨询最新行业调研，
国内领先的光刻胶新锐企业还包括珠海基石(2022年成立)、国科天骥(2019年
成立)等。
“第2届光掩模与光刻胶产业论坛”将于5月28日召开。本次论坛由亚化咨询主办。此次会议将汇聚光掩模及光刻胶行业的领军企业、机构的技术和市场专家，探讨中国光掩模版产业的技术进展、市场机遇与挑战，以及产业前景展望.
会议主题
1.半导体产业与中国光掩模版市场机遇
2.高端光掩模版的国产化：挑战、技术突破项目投资
3.成熟制程光掩模版的优化：降本增效与工艺创新
4.极紫外光（EUV）掩模版技术
5.光掩模版精密检测与质量控制技术
6.光掩模版的技术与产业升级：从平板显示到集成电路
7.光掩模版生产关键设备：供应链瓶颈与国产替代方案
8.掩膜版的材料创新：新型基板材料、涂覆材料等
9.电子束（E-Beam）光刻技术对光掩模发展的影响
10.电子束光刻胶与其他光掩模版材料
11.光掩模版智能化制造与自动化检测
12.ArF光刻胶的研发现状及中国市场潜力
13.光刻胶在EUV与KrF技术中的应用与发展趋势
14.光刻胶关键材料国产化进程与国际合作
赞助方案
项目 | 项目内容 |
主题演讲 | 25分钟主题演讲 |
参会名额 | |
微信推送 | “半导体前沿”微信公众号， 企业介绍以及相关软文 |
会刊广告 | 研讨会会刊， 彩色全页广告（尺寸A4） |
资料入袋赞助 | 企业的宣传册放入会议包袋 |
现场展台 | 现场展示台，展示样品、资料， 含两个参会名额 |
现场易拉宝 | 现场1个易拉宝展示 |
礼品赞助 | 印有赞助商logo的礼品赠送参会听众 |
茶歇赞助 | 冠名和赞助会议期间的茶歇 |
晚宴赞助 | 冠名和赞助会议的招待晚宴 |
Logo展示 | 背景墙 logo，会刊封面logo |
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关于亚化咨询
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