MLED情报站：事关雷鸟、阿维塔、芯聚半导体、富采等

JMInsights集摩咨询 2025-03-24 17:19 162浏览 0评论 0点赞

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近日，雷鸟、阿维塔、芯聚半导体、富采集团等相继公布其在Mini/Micro LED技术方面的相关进展。

雷鸟31.5英寸4K MiniLED显示器开启预售

近日，雷鸟在京东上架一款型号为“32U8”的31.5英寸显示器，这款显示器主打“4K 165Hz Mini LED、1400分区、内置扬声器”，定价为3799元，将于4月16日首销。

这款显示器配备一块3840×2160分辨率165Hz Mini LED面板，拥有1400分区，显示器GtG响应速度1ms，峰值亮度1600尼特，静态对比度4000:1，支持10-Bit色彩（8-Bit + FRC），覆盖96% DCI-P3色域、99% sRGB色域。

阿维塔科技申请 LED 芯片及 LED 显示面板专利

国家知识产权局信息显示，阿维塔科技（重庆）有限公司申请一项名为“LED 芯片及 LED 显示面板”的专利，公开号 CN 119653941 A，申请日期为 2024 年 12 月。

专利摘要显示，本申请实施例涉及显示器件设计制造技术领域，公开了一种 LED 芯片及 LED 显示面板。本申请实施例提供的 LED 芯片，包括：LED 结构层，包括依次层叠设置的第一半导体层、发光层及第二半导体层；电极结构层，包括第一导电层、第二导电层、第一电极及第二电极，第一导电层和第二导电层依次间隔设置在 LED 结构层之上，且第一导电层的一端和第二导电层的一端均与第一半导体层连接、第一导电层的另一端和第二导电层的另一端均与第二半导体层连接，第一电极连接于第一导电层，第二电极连接于第二导电层。LED 芯片的两个电极不区分极性，LED 芯片可以灵活贴片打件，可以节约 LED 显示面板的制作工序，提高 LED 显示面板的制作效率，节省物料成本。

杭州芯聚半导体申请Micro-LED ISO垂直角刻蚀专利

国家知识产权局信息显示，杭州芯聚半导体有限公司申请一项名为“一种Micro-LED ISO垂直角刻蚀方法”的专利，公开号 CN 119653935 A，申请日期为2024年12月。

专利摘要显示，本发明涉及Micro‑LED显示技术领域，公开了一种Micro‑LED ISO 垂直角刻蚀方法，包括以下步骤：S1、外延层生长控制：提供蓝宝石衬底作为基板，在基板上生长外延层结构，同时通过PECV设备在基板上生长一定厚度的氧化硅作为保护层，S2、光刻图形化：选用正性光刻胶，通过匀胶机涂覆在保护层表面，之后再进行光刻与显影制作出ISO侧壁需要刻蚀的图形，S3、金属镀膜与图形化，S4、干法刻蚀外延，S5、去除保护层。通过湿法刻蚀或者干法刻蚀去除外延保护层得到角度趋近垂直的ISO侧壁外延，减少了Micro‑LED的发光面积损失，提高光的出射效率，以及为芯片的Pitch缩小提供条件，同时降低后续的激光剥离过程造成的芯片破裂，提高了芯片制造的成品率和稳定性。