冠石科技高端光掩模版项目通线量产！

半导体前沿 2025-03-20 17:17 124浏览 0评论 0点赞

百万设备≠唯一解！精密测量成本砍半秘籍 迈来芯新一代经济型热成像技术

3月19日上午，冠石科技(605588)全资子公司——宁波冠石半导体有限公司（下称：宁波冠石半导体）在宁波市前湾新区举行开业典礼以及新品发布和通线仪式。

光掩模版是微电子制造中光刻工艺所使用的图形转移工具或母版，其功能类似于相机的“底片”。作为半导体产业链上游重要的原材料之一，光掩模版是承载图形设计和工艺技术等知识产权信息的载体。目前，我国高精度半导体光掩模版产品主要依赖进口，国产化率极低。

宁波冠石半导体是一家专业从事半导体光掩模版制造的企业。从2023年5月16日签约，到如今项目通线投产，不到两年，宁波冠石半导体已完成固定资产投资超10亿元，亩均有效投资强度超1500万元，刷新数字经济产业的前湾速度。

目前，宁波冠石半导体已实现55nm（纳米）光掩模版产品交付及40nm产线通线，企业产品将广泛应用于人工智能、高性能计算、新能源汽车、消费电子等集成电路制造领域。

来源：官方媒体/网络新闻

会议背景

近年来，中国对高端光掩模的需求快速增长，但技术研发、生产能力及产业

链整合方面仍面临诸多挑战。全球半导体光掩模版市场在2018年至2022年间

从40.4亿美元增长至49亿美元，年复合增长率达4.9%。预计到2025年，该

市场规模将进一步扩大至约55亿美元。亚化咨询研究认为我国2025年第三方

掩模版市场规模占比为70%左右:预计2030年中国掩模版市场规模有望达到

120亿元。

全球光掩模版市场主要由Photronics、日本凸版(Toppan)和大日本印刷(DNP)

三大企业主导，市场占有率超过80%。而在中国市场，路维光电、清溢光电、

冠石科技、龙图光罩等本土企业正在不断提升其市场竞争力，并在国产化替

代方面取得初步突破。

2023年我国半导体制造用光刻胶市场规模为39.6亿元，而国内企业半导体制

造用光刻胶销售收入仅为10.1亿元。预计2024年光刻胶销售收入达到13.1亿元。

在ArF光刻胶领域，国内厂商正在加快研发进程，并取得了核心突破。国内一

些光刻胶龙头企业如上海新阳、南大光电、容大感光、广信材料、晶瑞电材

等，在光刻胶的研发和生产方面取得了显著进展。据亚化咨询最新行业调研，

国内领先的光刻胶新锐企业还包括珠海基石(2022年成立)、国科天骥(2019年

成立)等。

“第2届光掩模与光刻胶产业论坛”将于5月28日召开。本次论坛由亚化咨询主办。此次会议将汇聚光掩模及光刻胶行业的领军企业、机构的技术和市场专家，探讨中国光掩模版产业的技术进展、市场机遇与挑战，以及产业前景展望.

会议主题

1.半导体产业与中国光掩模版市场机遇

2.高端光掩模版的国产化：挑战、技术突破项目投资

3.成熟制程光掩模版的优化：降本增效与工艺创新

4.极紫外光（EUV）掩模版技术

5.光掩模版精密检测与质量控制技术

6.光掩模版的技术与产业升级：从平板显示到集成电路

7.光掩模版生产关键设备：供应链瓶颈与国产替代方案

8.掩膜版的材料创新：新型基板材料、涂覆材料等

9.电子束（E-Beam）光刻技术对光掩模发展的影响

10.电子束光刻胶与其他光掩模版材料

11.光掩模版智能化制造与自动化检测

12.ArF光刻胶的研发现状及中国市场潜力

13.光刻胶在EUV与KrF技术中的应用与发展趋势

14.光刻胶关键材料国产化进程与国际合作

赞助方案