利用“二维材料+人工智能”打造异质结高性能中红外探测器

MEMS 2025-03-04 00:01

中红外光(波长范围3 μm – 20 μm)因其独特的分子指纹识别能力与强穿透性,在环境监测、军事侦察、生物医学诊断等领域具有广泛的应用前景。传统中红外探测器主要依赖汞镉碲(MCT)、量子阱、量子点等材料,这些材料虽然性能优异,但其制备工艺复杂、成本高昂,且通常需要在低温甚至超低温环境下运行,极大地限制了其大规模应用与推广。近年来,二维材料(如石墨烯、黑磷、二硫化钼等)因其原子级厚度、高载流子迁移率、可调带隙等特性,成为中红外光电器件的研究热点。特别是黑磷(BP),作为一种直接带隙半导体材料,具有从可见光到中红外的宽光谱响应能力,且其载流子迁移率高、暗电流低,被认为是中红外探测器的理想候选材料之一。然而,单一的黑磷材料在实际应用中仍面临稳定性差、响应速度有限等问题。为此,研究人员通过构建范德华异质结(如黑磷/二硫化钼、黑磷/石墨烯等),利用异质结界面处的能带调控与载流子分离效应,显著提升了器件的光电性能。

在成像技术方面,单像素成像因其高灵敏度、低成本等优势,成为中红外成像的重要研究方向。单像素成像系统通常由空间光调制器与光电探测器组成,通过采集目标物体的光强信息并利用算法重建图像。然而,传统单像素成像技术受限于采样速度与重建算法的效率,难以实现高质量实时成像。近年来,人工智能(AI)技术的快速发展为图像重建提供了新的解决方案。AI算法通过深度学习模型,能够直接从低信噪比的单像素数据中重建高分辨率图像,显著提升了成像效率与质量,为单像素成像技术的实用化提供了新的可能。

尽管二维材料与AI技术在中红外探测与成像领域展现出巨大潜力,但如何将二者高效结合,仍是当前研究的难点。一方面,二维材料基光电探测器的性能仍需进一步提升,以满足实际应用中对高灵敏度、高响应速度的需求;另一方面,AI算法在图像重建中的优化效果受限于数据质量与计算资源,如何在不增加系统复杂度的前提下实现高效成像,是亟待解决的关键问题。

据麦姆斯咨询报道,近日,由深圳大学、澳门科技大学和复旦大学组成的科研团队提出了一种基于黑磷BP)/二硫化钼MoS₂)/六方氮化硼hBN范德华异质结的高性能中红外光电探测器,通过优化黑磷异质结的界面质量并结合人工智能算法,成功实现了高性能中红外光电探测器与高质量成像系统的协同设计,为中红外成像技术的实用化提供了新思路。这项研究以“Artificial intelligence driven Mid-IR photoimaging device based on van der Waals heterojunctions of black phosphorus”为题发表在Nanophotonics期刊上。

研究团队通过优化BP/MoS₂/hBN异质结的厚度与界面质量,成功制备出宽光谱响应(405 nm – 3390 nm)的光电探测器。图1(a)展示了BP/MoS₂异质结器件的结构图,hBN覆盖于整个BP/MoS₂异质结器件之上。为了进一步了解该器件的工作机制,研究团队绘制了其能带图(如图1(b)和1(c));另外还采用拉曼光谱、光电流映射和原子力显微镜(AFM)对该器件进行表征,相关结果如图1(e)至图1(g)所示。

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图1 BP/MoS₂/hBN异质结器件在不同偏置电压下的结构示意图、能带图、中红外响应曲线和光电流映射图像

接着,研究团队探讨了BP/MoS₂/hBN异质结器件的I-V特性曲线、时间响应特性,并计算了该范德华异质结光电探测器在不同波长下的响应度 (R)和特异性探测率(D*),相关结果如图2和图3所示。该器件在3390 nm波长下响应度(R)达0.25 A/W,比探测率(D*)高达3.7*10⁹ Jones,响应速度低至7 ms,性能优于许多已报道的二维材料基中红外探测器。此外,该器件在室温下表现出优异的稳定性,在空气中可稳定工作超过三个月。

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图2 BP/MoS₂/hBN异质结器件在中红外波段(3390 nm)的光电性能表征

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图3 BP/MoS₂/hBN异质结器件在近红外(1550 nm)和可见光(405 nm)波段的光电性能表征

最后,研究人员使用单像素成像系统验证了该BP/MoS₂/hBN异质结器件的成像能力。针对单像素成像中数据冗余与噪声干扰的难题,研究团队开发了一套AI驱动的自适应成像系统(如图4),融合对比度受限自适应直方图均衡化(CLAHE)、扩散模型(Diffusion Model)与生成对抗网络(GAN)三大技术。具体而言,CLAHE预处理是通过局部直方图均衡化增强图像细节,将原始数据的对比度从0.227提升至0.890;扩散模型降噪是利用去噪扩散概率模型(DDPM)消除低采样率(25%)下的随机噪声与模糊伪影;GAN超分辨率重建是基于条件生成对抗网络(GAN)将图像分辨率从730 × 394提升至2068 × 1104,边缘清晰度提高3倍。为验证技术的实用性,研究团队构建了完整的中红外单像素成像平台,采用机械步进电机控制掩模图案,结合BP/MoS₂/hBN异质结器件AI算法,实现了室温下的高对比度成像。实际测试中,该成像系统在复杂背景噪声下仍能准确识别目标轮廓。

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图4 中红外单像素成像系统的成像过程和成像结果

综上所述,研究团队通过“二维材料 + AI”协同方案,为中红外成像技术的实用化提供了新思路。未来,通过垂直异质结设计或光学微腔集成,可进一步提升器件响应速度与灵敏度。此外,AI算法可拓展至采样过程优化,减少数据采集时间与成本。此项技术有望推动中红外成像在无人驾驶夜视系统、医疗内窥镜、工业无损检测等领域的应用,并为量子通信、高分辨光谱分析等前沿方向提供关键支持。

论文链接:

https://doi.org/10.1515/nanoph-2024-0613

延伸阅读:

《石墨烯市场和二维材料评估-2023版》

《量子点光电传感器专利态势分析-2024版》
《新兴图像传感器技术及市场-2024版》
《苹果在量子点光电传感器领域的发明专利与产业布局分析》
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