据麦姆斯咨询报道，在科技飞速发展的今天，MEMS技术正成为推动各行业变革的关键力量。作为压电MEMS领域的领军者，南京宙讯微电子科技有限公司（简称：宙讯微电子）凭借其全球领先的氮化铝（AlN）和掺钪氮化铝（AlScN）工艺技术，打造了业界顶尖的压电MEMS工艺平台，为高端微纳器件研发与量产提供了强有力的支持。
技术领先性：AlN与AlScN工艺的行业标杆
氮化铝（AlN）工艺：成熟可靠，性能卓越
氮化铝（AlN）薄膜因其优异的压电性能和热稳定性，在MEMS领域占据核心地位。宙讯微电子在AlN工艺上深耕多年，通过自主研发和持续优化，实现了薄膜质量的行业领先水平。我们的AlN薄膜具有以下优势：
- 高均匀性：薄膜厚度均匀性控制在0.2%以内，确保器件性能一致性。
- 优异的压电性能：压电常数（d33）达到5.5 pm/V，AlN薄膜机电耦合系数（kt²）显著提高到6.8%以上，满足高频、高精度器件的需求。
- 广泛的应用场景：适用于声学传感器、射频滤波器、超声波换能器等多种高端MEMS器件。
掺钪氮化铝（AlScN）工艺：突破性能极限，引领行业新潮流
掺钪氮化铝（AlScN）是宙讯微电子的核心技术之一，通过在AlN中精确掺入钪元素，显著提升了薄膜的压电性能。与传统的AlN相比，AlScN薄膜展现出以下突破性优势：
- 更高的压电常数：d33值提升至20-30 pm/V以上，20%掺钪浓度的AlScN薄膜机电耦合系数（kt²）显著提高到17%以上。
- 更低的驱动电压：在相同驱动力下，功耗降低30%以上，为MEMS器件的小型化和高效化提供了可能。
- 更广泛的应用潜力：适用于高性能超声波成像、高精度惯性传感器、低功耗射频滤波器等前沿领域。
宙讯微电子的AlN和AlScN工艺不仅在国内处于领先地位，更在全球范围内树立了技术标杆，为高端MEMS器件的研发与量产提供了坚实的技术保障。
高端工艺平台：全链条研发与量产能力
宙讯微电子压电MEMS工艺平台基于6英寸晶圆，配备了国际一流的设备和完善的工艺链条，涵盖从研发到量产的全流程服务。平台的核心优势包括：
先进的设备与工艺
- 薄膜沉积：采用高精度PVD溅射系统，确保AlN和AlScN薄膜的高质量沉积。
- 光刻与刻蚀：配备步进式光刻系统和等离子体刻蚀系统，支持亚微米级图形化工艺。
- 化学机械平坦化（CMP）：实现薄膜表面的超高平整度，提升器件性能。
- 晶圆测试与封装：集成晶圆植球、热压超声倒装、测试编带等工艺，确保产品的高可靠性和一致性。
全链条工艺整合
平台将光刻、薄膜沉积、刻蚀、CMP、测试、封装等关键工艺模块无缝衔接，形成了完整的压电MEMS工艺链条。这种高度集成的模式不仅提升了工艺效率，还为复杂器件的开发提供了灵活的技术支持。
卓越的行业影响力与客户服务
自2021年7月正式运营以来，宙讯微电子已累计为全球多家客户提供工艺开发与量产服务，开发产品50余款，出货量超过2亿颗。我们的平台已通过ISO9001质量体系认证，确保交付的产品达到国际一流标准。同时，我们建立了完善的客户知识产权保护体系，确保合作伙伴的商业机密得到充分保障。
产学研合作与全球客户群体
作为全球少数专注于压电MEMS研发与量产的公共平台，宙讯微电子与国内外多所高校、科研院所和高科技企业建立了长期合作关系。我们致力于推动产学研深度融合，为客户提供从概念到量产的全流程技术支持。
研发代工合作：共创压电MEMS未来
宙讯微电子诚挚邀请全球合作伙伴，共同探索压电MEMS技术的无限可能。无论您是开发新型传感器、声学器件，还是其他高端微纳器件，我们都能为您提供：
- 定制化的工艺解决方案：基于AlN和AlScN工艺，满足多样化器件需求。
- 专业的技术支持：由经验丰富的技术团队提供全程指导。
- 高效的量产服务：依托先进的6英寸晶圆
如果您在工艺方面有任何需求，欢迎随时致电戴经理
电话号码为18901593289（与微信同号），沟通更加便捷。
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