三星电子最近动作频频，为了推进极紫外（EUV）技术，特别组建了一个新的工作组（TF）团队。这被业界看作是三星为了提高超精细半导体制造，比如3纳米（纳米，就是十亿分之一米）代工过程中的成品率，而采取的一项重要措施。与此同时，SK海力士却在今年的公司重组中解散了它们的EUV TF团队，使得业界开始关注这两家公司在下一代技术方面的组织运作上的差异。
据业内人士在12月26日透露，三星电子通过年终重组，在全球制造基础设施总经理旗下组建了一个名为“EUV Synergy TF”的新团队。这个新团队是由铸造制造技术中心组织的，但值得注意的是，三星电子半导体（DS）部门负责管理存储器和代工量产线中使用的所有EUV设施。这个新团队的目标很明确，就是要最大限度地提高ASML独家供应的2000亿韩元曝光机、东京电子的EUV轨道设备以及曝光机中使用的各种材料和组件的生产率。
我们都知道，三星电子在其华城和平泽工厂已经拥有30多台EUV曝光机。EUV曝光技术是一种利用EUV光将半导体电路印刷在晶圆上的技术。这种EUV光的波长只有13.5纳米，比现有的氟化氩（ArF）光短了四分之一，因此可以创建比以前更精细的电路。但是，这种光有个特点，就是难以被大多数物体吸收，所以EUV技术的掌握并不容易。
不过，EUV技术越先进，就在与台积电、英特尔、美光等全球半导体公司的技术竞争中越具有优势。三星电子在2019年就在全球首次将EUV技术引入了代工流程。但是，三星在近期争夺包括EUV技术在内的微工艺的竞争中表现并不理想。特别是在10纳米级第六代DRAM和3纳米以下代工厂方面，三星面临着必须在短时间内提高与竞争对手相比较低的良率的问题。因此，三星管理层决定成立一个独立的组织，因为他们认为EUV工艺效率是提高良率的关键因素。
而另一方面，SK海力士在EUV组织的运作上却与三星电子走了不同的路。SK海力士在今年的重组中决定解散EUV TF，并将其转移到未来技术研究院。SK海力士的EUV TF是在2019年组织的，去年还将分散在各业务部门和未来技术研究院的人员全部并入EUV TF，并作为常设机构运作。SK海力士在2021年首次开始将EUV应用于10纳米第四代DRAM。据了解，该TF在EUV应用于当前第6代DRAM开发中发挥了重要作用。目前，SK海力士已在利川M16工厂安装了10多台EUV设备。
未来，SK海力士的未来技术研究院将重点准备引进下一代EUV曝光机Hi-NA设备。据悉，SK海力士的Hi-NA设备预计最早将于明年下半年首次推出。可以看出，SK海力士在EUV技术的研发和应用上也有着自己的规划和布局。
