● 2024光掩模版与光刻胶技术与市场论坛将于12月27日在苏州召开● 华润微、上海光源、徐州博康、冠石科技、国科天骥、欣奕华、润晶科技、长飞石英、Linx Consulting、晶测芯材等领衔作报告光掩膜版作为微电子制造中光刻工艺所使用的图形母版，在半导体、液晶显示器制造过程中扮演着至关重要的角色。近年来，随着5G、物联网、人工智能和新能源汽车等新兴技术的快速发展，对高性能、高精度光掩膜的需求不断增加，推动了国内光掩膜版企业的技术进展和产业进展。以下是对几家国内光掩膜版企业技术进展及产业进展的分析讨论。迪思微电子
无锡迪思微电子有限公司在高端掩模项目方面取得了显著成果。自2021年以来，无锡迪思顺利实施两轮融资，投资约20亿元建设高端掩模项目。该项目于2022年11月开工，历经18个月，相继完成厂房封顶、设备搬入、工艺调试、产线贯通等重大里程碑任务。2024年7月12日，无锡迪思完成了首套90nm高端掩模产品的生产与交付，标志着其技术能力实现新跨越。未来，无锡迪思将聚焦90nm制程量产，并逐步向40nm、28nm等更先进制程迈进。项目达产后，将新增90nm-28nm高端掩模版产能2000片/月，总产能达5000片/月。无锡迪思作为华润微电子旗下子公司，深耕光掩模领域35年，是国内最早从事光掩模制造的专业企业之一，其技术水平和生产能力均处于国内领先地位。中微掩模
虽然关于中微掩模的具体技术进展和产业数据未详细披露，但可以从行业趋势和企业背景进行推测。中微掩模作为国内较早从事光掩模制造的企业之一，积累了丰富的技术经验和客户资源。随着国内半导体产业的快速发展和市场需求的不断增长，中微掩模在技术提升、产能扩张和市场份额扩大方面均有望取得积极进展。同时，中微掩模也将继续加强与国际先进企业的合作与交流，不断提升自身的技术水平和国际竞争力。济南泉意光罩
济南泉意光罩作为光掩膜版行业的一员，不断提升技术水平以满足市场需求。随着全球半导体产业的快速发展和政府的大力支持，济南泉意光罩市场前景广阔。尽管具体的技术进展和产业数据未详细披露，但从行业趋势来看，济南泉意光罩在技术提升和市场份额扩大方面均有望取得积极进展。龙图光罩
龙图光罩股份有限公司是国内稀缺的独立第三方半导体掩模版厂商。该公司紧跟国内特色工艺半导体发展路线，不断进行技术攻关和产品迭代。其半导体掩模版工艺节点从1μm逐步提升至130nm，产品广泛应用于功率半导体、MEMS传感器、IC封装、模拟IC等特色工艺半导体领域。龙图光罩凭借雄厚的研发技术实力和优异的产品性能，在行业内取得了显著成就。近年来，公司营业收入和净利润持续增长，显示出强劲的发展势头。未来，龙图光罩将继续加大研发力度，推进高端半导体芯片掩模版项目的建设，不断提升制程节点和技术水平，致力于成为国内半导体掩模版领域的龙头企业。路维光电
路维光电是国内最早进入掩膜版领域的企业之一，在平板显示、半导体等行业用掩膜版方面具有多年的技术积累，技术水平处于国内领先地位。通过自主研发，路维光电成功突破了G11掩膜版在图形精度、缺陷控制等方面的诸多技术与工艺难点。
2018年，路维光电开工建设国内首条G11高世代掩膜版项目，并于2019年成功实现G11高世代TFT-LCD掩膜版的投产，配套京东方和华星光电等客户的G11面板产线。这一成就不仅展示了路维光电在掩膜版制造领域的领先地位，也为国内平板显示行业的发展提供了有力支持。
冠石科技
冠石科技成立于2002年，是一家专业从事半导体显示器件研发、生产、加工、销售的高新技术企业。2023年，冠石科技拟投资20亿元建设45-28nm成熟制程的半导体光掩膜版制造项目，并拟定增募资不超过8亿元用于光掩膜板制造项目。
项目负责人陈新晋系台积电首批参与掩模版生产人员，技术团队全球顶级。项目的生产技术人员有台积电背景，代表着全球最强的代工技术之一。冠石科技的光掩膜版项目分两批投建，第一节点将于2025年实现45nm光掩膜版的量产，第二节点将于2028年实现28nm光掩膜版的量产。
截至2024年上半年，冠石科技光掩膜版项目取得了关键进展。首台电子束掩膜版光刻机顺利交付，其他核心设备也按约定时间陆续交付并按计划节点开展安装调试。这一项目的成功实施将填补国内先进制程光罩空白，打破国外高端光掩膜版的垄断局面，提高我国半导体光掩膜产业的安全性和可控性。
清溢光电
清溢光电是中国领先的光掩膜制造商之一，其光掩膜业务涵盖设计、制造和销售各类高精度光掩膜产品。清溢光电致力于为半导体、平板显示、触摸屏、集成电路（IC）和印刷电路板（PCB）等行业提供高质量的光掩膜解决方案。
近年来，清溢光电在光掩膜制造领域取得了显著进展。公司不断加强技术研发和创新，提升了光掩膜的制造精度和性能。2023年，清溢光电的掩膜版业务收入达到9.15亿元，显示出公司在光掩膜市场的强劲竞争力。
综上所述，国内光掩膜版企业在技术进展和产业进展方面取得了显著成就。未来，随着市场需求的增长和政策的支持，这些企业将继续加强技术研发和创新，提升产品性能和质量，推动中国光掩膜行业的持续发展。2024光掩模版与光刻胶技术与市场论坛将于2024年12月27日在苏州举行，由亚化咨询主办。此次会议将汇聚半导体行业的领军企业、技术专家、学者和行业分析师，聚焦光掩模版及光刻胶在中国乃至全球半导体产业链中的关键作用，共同探讨掩模版及光刻胶产业的发展前景、最新技术进展、面临的挑战和未来趋势。
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