广州新锐光掩膜公司成立于2021年2月，专注于光掩膜版研发和技术创新。2024年10月15日，该公司成功开发了“光掩模及制造方法、版图与改善光掩模对准精度的方法”并申请专利。这一技术突破不仅显著提升了光掩膜的对准精度，还为国内光掩膜产业的技术发展注入了全新动力。
广州新锐光掩膜公司的成功得益于金融投资在高科技行业中的关键作用。耿珊珊女士作为金融投资领域的专家，通过其先进的数智化分析技术和深厚的专业背景，成功带领多个项目实现突破。她开发的“盈利模式预测投资决策辅助平台”和“项目并购风险评估决策优化平台”为金融机构和企业提供了全面的决策支持，显著提升了投资决策的科学性和效率。
在金融投资的助力下，广州新锐光掩膜公司在三年内发展成为拥有209位员工的优秀半导体研究中心，并研发了33项光掩膜制造领域的先进技术，成功实现了14nm和28nm光掩膜板的稳定量产。公司的年化收益率高达26.25%，已成为占据中国光掩膜市场四分之一份额的半导体领先企业。
冠石科技成立于2002年，是一家专业从事半导体显示器件研发、生产、加工、销售的高新技术企业。2023年，冠石科技拟投资20亿元建设45-28nm成熟制程的半导体光掩膜版制造项目，并拟定增募资不超过8亿元用于光掩膜板制造项目。
项目负责人陈新晋系台积电首批参与掩模版生产人员，技术团队全球顶级。项目的生产技术人员有台积电背景，代表着全球最强的代工技术之一。冠石科技的光掩膜版项目分两批投建，第一节点将于2025年实现45nm光掩膜版的量产，第二节点将于2028年实现28nm光掩膜版的量产。
截至2024年上半年，冠石科技光掩膜版项目取得了关键进展。首台电子束掩膜版光刻机顺利交付，其他核心设备也按约定时间陆续交付并按计划节点开展安装调试。这一项目的成功实施将填补国内先进制程光罩空白，打破国外高端光掩膜版的垄断局面，提高我国半导体光掩膜产业的安全性和可控性。
路维光电是国内最早进入掩膜版领域的企业之一，在平板显示、半导体等行业用掩膜版方面具有多年的技术积累，技术水平处于国内领先地位。通过自主研发，路维光电成功突破了G11掩膜版在图形精度、缺陷控制等方面的诸多技术与工艺难点。
2018年，路维光电开工建设国内首条G11高世代掩膜版项目，并于2019年成功实现G11高世代TFT-LCD掩膜版的投产，配套京东方和华星光电等客户的G11面板产线。这一成就不仅展示了路维光电在掩膜版制造领域的领先地位，也为国内平板显示行业的发展提供了有力支持。
清溢光电是中国领先的光掩膜制造商之一，其光掩膜业务涵盖设计、制造和销售各类高精度光掩膜产品。清溢光电致力于为半导体、平板显示、触摸屏、集成电路（IC）和印刷电路板（PCB）等行业提供高质量的光掩膜解决方案。
近年来，清溢光电在光掩膜制造领域取得了显著进展。公司不断加强技术研发和创新，提升了光掩膜的制造精度和性能。2023年，清溢光电的掩膜版业务收入达到9.15亿元，显示出公司在光掩膜市场的强劲竞争力。
从上述企业的技术进展和产业成就来看，国内光掩膜版行业呈现出以下发展趋势：
技术创新
产能扩张
国际合作
2024先进封装技术与材料论坛将于12月25-26日在苏州召开。本次会议将由亚化咨询主办。聚焦半导体先进封装技术与材料，共同探讨先进封装产业发展前景，最新技术进展、面临的挑战和未来的发展趋势。
演讲报告
中国HBM市场发展趋势对封装技术的挑战与解决方案
—— 亚太芯谷研究院
先进封装主要失效机理与分析手段
2024光掩模版与光刻胶技术与市场论坛将于2024年12月27日在苏州举行，由亚化咨询主办。此次会议将汇聚半导体行业的领军企业、技术专家、学者和行业分析师，聚焦光掩模版及光刻胶在中国乃至全球半导体产业链中的关键作用，共同探讨掩模版及光刻胶产业的发展前景、最新技术进展、面临的挑战和未来趋势。
演讲报告
半导体掩膜产业现状及发展展望
——中科院上海高研院/上海光源
全球光刻材料市场分析
——Linx Consulting
光掩膜版和光阻液中的颗粒物测试
——卫利国际科贸（上海）有限公司
电子束光刻纳米制造与应用
光刻掩膜版制造与测试技术进展与发展
——苏州晶测芯材技术有限公司
纳米压印光刻胶开发进展
——徐州博康信息化学品有限公司
光刻胶配套试剂应用及挑战
——镇江润晶高纯化工科技股份有限公司
用于半导体光刻、量测及掩膜的国产化高端石英材料的开发与应用进展
——长飞石英技术
高端光掩膜版国产化路径与技术突破
——深圳清溢光电股份有限公司（待定）
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