集成电路发展的四个阶段和苹果dieshot赏析,全球十大半导体营收对比

启芯硬件 2024-10-24 18:38
芯片的工艺制程发展涉及到制程节点的不断缩小、技术创新的推动以及新材料的引入。
大概梳理
1-芯片制程发展的四个历程    
在1985年到2021年这36年间,晶体管数量激增了2000000+多倍!!(200万倍)这个数据相当惊人,而芯片制程发展主要经历四个阶段分别是
第一阶段:1985年-2000年:
在这一时期,芯片制程主要使用的是MOS(金属-氧化物-半导体)工艺,节点主要为1微米到180纳米。
制程主要集中在CMOS(互补金属氧化半导体)技术上,随着电路规模的增加,制程节点逐渐缩小。
随着技术的发展,芯片的性能和功能逐渐提升,从而推动了计算机和通信技术的发展。
第二阶段:2000年-2010年:
到了这一阶段,芯片制程进一步缩小至90纳米以下,从进入90纳米、并不断微缩至65纳米、45纳米和32纳米等制程节点。
同时引入了低功耗和高性能的材料,如高介电常数的材料和金属栅极技术(一般简称HKMG, 即high K, mental gate,如果了解foundry,或熟悉45nm/32nm/28nm等工艺的朋友,看到这个术语应该很亲切),以提高晶体管的性能。
这一时期显著的特点是多核处理器逐渐成为主流,提高了芯片整体的计算能力。
第三阶段,2010年-2020年:
制程节点进一步缩小至22纳米、14纳米、10纳米,甚至更小。    
FinFET(鳍式场效应晶体管)以及GAA技术的引入,提高了晶体管的开关速度和功耗控制。
FinFET已经有大量的文献介绍,我这里就不细说,贴一张图,FINFET最显著的特点就是将平面的MOS进行立体化,最大的好处就是能更精细的控制MOS这个开关
FINFET和GAA的区别对比如下,GAA是基于FINFET的进一步立体化,主要是7nm以下,晶体管开关的控制更难,由于沟道的缩小,漏电问题也更加明显,所以,进一步的立体化,能实现更精细的控制,当然,复杂的结构也意味着制造工艺的更加复杂。
   
FinFET及GAA为什么能实现更精细的控制,下面这张图能更好的说明这个问题
三维堆叠技术的发展,使得芯片集成度更高,性能更强大。
在这个时期,苹果开始逐步引入自家设计的芯片,如A系列芯片,用于iPhone和iPad等设备。
MOS的整个发展历史如下图所示,此图能更直观的展示控制的逐步细化,也能清晰的看到实现的复杂度逐步加大。    
         

 

第四阶段,2020年至今:
制程节点进一步缩小至7纳米、5纳米,以及更小的节点。
异构集成(heterogeneous integration)的发展,即在同一芯片上集成不同种类的处理单元,如CPU、GPU、AI加速器等。
2-苹果自研芯片始末
苹果公司引入M1芯片,这是一系列基于ARM架构的自家设计芯片,用于Mac电脑。这标志着苹果从Intel全面转向了自家设计的芯片架构。很多读者也许不知道,苹果手机最开始并不想用ARM架构,而是希望英特尔能帮忙定制低功耗的移动端处理器,但英特尔当时的CEO认为移动端处理器没有前景,而拒绝了。。。。    
被迫无奈,乔布斯才考虑用ARM架构,并一直保持至今,在这个过程中,ARM也得到了发展壮大,后来,英特尔系统能夺回部分移动处理器市场,虽投入巨大,但仍然颗粒无收。
但PC端的处理器,一直没有好的选择,只能忍耐英特尔挤牙膏,直到ARM的发展壮大以及芯片制造工艺的足够先进,苹果终于全面转向ARM架构,完全放弃了英特尔的X86架构。
究其原因,无外乎是以下几点:
控制技术方向和创新:
自研芯片使苹果能够更好地掌握技术发展方向,从而实现更高水平的创新。通过在芯片设计和制造上投入资源,苹果可以开发出满足其产品需求的定制化解决方案,提供更好的性能、效率和用户体验。
提升产品性能和能效:
自研芯片使苹果能够更好地控制产品的性能和能效,从而提升产品竞争力。定制化的芯片设计可以针对苹果设备的特定需求进行优化,实现更高的性能和更低的功耗,提升用户体验。    
降低成本和依赖:
自研芯片可以降低苹果的生产成本,并减少对外部供应商的依赖。通过垂直整合芯片设计和制造过程,苹果可以更好地控制成本,并在技术和供应链方面具备更大的灵活性和独立性。
提升安全性和隐私保护:
自研芯片使苹果能够更好地控制产品的安全性和隐私保护。通过在芯片级别实现安全功能和加密技术,苹果可以提供更高水平的数据安全和隐私保护,增强产品的竞争优势。
优化软硬件集成:
自研芯片可以更好地实现软硬件集成,提升产品的性能和稳定性。苹果可以将芯片设计与其操作系统和应用软件紧密结合,实现更好的性能优化和系统稳定性,提升用户体验。
         

 

3-全球十大半导体公司营收2023年对比2022年
详细的工艺节点可以参考我此前微信公众号中发表APPLE M1 ULTRA中关于台积电的描述,里面有详细的工艺节点演进图。    
         

 

         

 

   

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