据麦姆斯咨询报道，2024年10月18日至20日，苏州光舵微纳科技股份有限公司创始人兼董事长史晓华将参加《第66期“见微知著”培训课程：MEMS制造工艺》并进行授课，具体信息如下：
授课主题：纳米压印光刻（NIL）技术及应用
授课老师简介：
史晓华，博士，苏州光舵微纳科技股份有限公司创始人、董事长。他获得西安交通大学电气工程及金融学双学士学位，英国巴斯大学光电子专业博士学位，英国格拉斯哥大学博士后。他曾任英国Zeeko公司项目研发总监；2011年回国创办苏州光舵微纳科技股份有限公司，致力于纳米压印技术研发及产业化推广应用，研发制作出了多款科研型及量产型纳米压印设备，研发制作出的全自动量产型纳米压印设备在LED图形化衬底领域实现了对尼康光刻机的产业化替代，进一步研发制作出了应用于AR光学器件、DOE光学器件、生物传感器研发及生产的多款纳米压印设备，填补了此类设备国内的技术及市场空白，推广了此类技术的产业化应用。他入选国家级创业人才计划，江苏省“高层次创新创业人才”、苏州市“姑苏人才计划”、江苏省“六大人才高峰”人才、常熟市“创新创业领军人才”、苏州工业园区“金鸡湖人才”等多个人才称号，承担并完成国家级科研项目1项，省级科研项目2项。
授课背景及内容：
自1995年华裔科学家周郁（Stephen Y. Chou）提出纳米压印光刻（NIL）概念以来，引起了业界的广泛重视和研究热潮。纳米压印光刻技术首先通过接触式压印完成图形转移，类似于曝光和显影工艺，然后通过等离子刻蚀工艺，完成结构转移。该技术借鉴中国四大发明之一：印刷术，结合现代微电子工艺和材料技术，克服了光学曝光中由于衍射现象引起的分辨率极限等问题，显示了高分辨率、低成本、可大规模生产等优势，目前已被用于生产MEMS器件、生物传感芯片、衍射光学元件（DOE）、微透镜阵列、衍射光波导等。本课程详解纳米压印光刻技术，包括原理、设备和材料，以及在微纳光学、生物传感、半导体器件三大领域中的应用。
课程提纲：
1. 纳米压印光刻技术概述；
2. 纳米压印光刻工艺详解；
3. 纳米压印光刻设备和材料；
4. 纳米压印光刻在微纳光学领域的应用；
5. 纳米压印光刻在生物传感领域的应用；
6. 纳米压印光刻在半导体器件制作中的应用。
培训详情：
https://www.memstraining.com/training-66.html
