【今日快讯】工信部官宣！我国正式突破7nm光刻技术！

工信部官网发布新版《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录》，正式官宣我国光刻技术小于等于8nm，也就是7nm获得了全面量产。

近日，工业和信息化部正式发布了《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》（以下简称《指导目录》），这一举措旨在推动我国重大技术装备的创新发展和推广应用，同时加强产业、财政、金融、科技等国家支持政策的协同效应。

《指导目录》的发布对我国高端制造业的发展具有重要意义。其中，特别引人注目的是电子专用装备目录下的"集成电路生产装备"类别。该类别明确列出了氟化氩光刻机，并对其技术参数做出了具体要求：光源为193纳米，分辨率不大于65纳米，套刻精度不大于8纳米。这一指标的提出，彰显了我国在半导体制造领域追求技术突破的决心。

回顾今年4月，市场监管总局等五部门联合印发的《中国首台(套)重大技术装备检测评定管理办法(试行)》中就明确指出，重大技术装备是国之重器，与国家综合实力和安全息息相关。该文件对中国首台(套)重大技术装备做出了明确定义：指在国内实现重大技术突破、拥有自主知识产权，但尚未在市场上取得明显业绩的装备产品，包括整机设备、核心系统和关键零部件等。

此次《指导目录》的发布，正是对上述管理办法的具体落实。通过明确列出各领域的重点装备及其技术指标，为企业、科研机构提供了清晰的技术发展方向，也为相关支持政策的制定和实施提供了重要参考。

值得注意的是，《指导目录》中提到的氟化氩光刻机，代表了当前全球半导体制造领域的尖端技术。光刻机被誉为"芯片之母"，是集成电路制造中最为关键的设备之一。能够生产出如此高精度的光刻机，意味着我国在半导体制造装备领域已经取得了重大突破，为未来实现高端芯片的自主可控奠定了坚实基础。

这一目录的发布，不仅仅是一份简单的技术指标清单，更体现了我国在高端制造业领域的战略布局。通过鼓励和支持首台(套)重大技术装备的研发和应用，我国旨在加速关键核心技术的突破，推动产业链向高端化、智能化方向发展，最终实现制造强国的宏伟目标。

同时，《指导目录》的发布也为相关企业指明了发展方向。那些致力于高端装备研发的企业，可以根据目录中的具体指标，有的放矢地开展技术攻关，并有望获得更多的政策支持和市场机会。这无疑将激发企业的创新活力，推动整个行业的技术进步。

此外，《指导目录》的实施还将促进产学研深度融合。高校和科研院所可以根据目录中的技术需求，开展针对性的基础研究和应用研究，为企业的技术创新提供强有力的支撑。这种产学研协同创新的模式，将加速科技成果的转化，提升我国整体的科技创新能力。