启动量产的新一代半导体,需要将封装基板的布线用孔降至直径10微米以下。尤其是2020年以后,高性能的半导体将搭载于纯电动汽车(EV)等,需求估计将会扩大!
据newswitch网站发布,东京大学和味之素精密技术、三菱电机、spitronics正在联合开发一种在封装基板上钻极细孔的加工技术。封装基板是一种电子连接半导体芯片和印刷线路板的中间基板。利用该新加工技术,仅使用激光加工就可以在玻璃基板的绝缘层上形成直径为3μm的孔。它可以实现板之间的高密度布线,对于开发生成人工智能 ( AI )等所需的高性能计算机非常有用。
味之素增层膜上的微孔和激光加工方法的俯视电子显微镜照片(右)(东京大学等提供)
迈向微细化和高性能化的新一代半导体
据了解,此前东京大学的教授小林洋平等人就曾携手味之素Fine-Techno (川崎市)、三菱电机、涉足激光振荡器的Spectronix(大阪府吹田市)等,开发出了在半导体封装基板上形成直径6微米以下微细孔洞的激光加工技术。
利用此次开发的技术,可在Fine-Techno的绝缘薄膜上形成布线用的微细孔洞。该绝缘膜用于连接印刷基板和CPU(中央处理器)等的封装基板。具体来说,能以极短的时间间隔连续照射波长为266纳米(纳米为10亿分之1米)的“深紫外激光”。充分利用了以人工智能(AI)计算最佳激光照射方法的东京大学的技术,在使孔的尺寸比此前明显缩小方面看到了眉目。
在最新的研究中,该联合团队再次创新,使用深紫外(DUV)激光加工机,这是下一代半导体基板加工技术,实现了在层间绝缘膜上创建微孔。可以在板上高速创建自由钻孔图案。该项目将促进“小芯片”技术的更高功能,其中为每个组件制造单独的芯片,并将其集成并安装在封装基板上。目前,芯片安装板上的层间布线采用直径为40微米的孔。随着芯片的小型化,未来封装基板的孔直径将要求在5微米或更小,但目前的激光加工技术由于光学系统的特性,很难将光集中到较小的直径。该消息是已在美国举办的全球最大的半导体封装领域国际会议(ECTC)上发布。