高频信号线隔直器的耦合电容器
解决偏置电路上去耦问题的去耦电容器
TOSA硅中介层的IPD(硅集成无源器件)
村田硅电容在超宽带传输光通信设备中的应用
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最大110GHz的超宽带性能
没有共振,低群延迟
出色的抗阻匹配,高频下极低的插入损耗
底部电极结构,超低串扰,紧凑的走线与贴装
对于温度、电压、老化,静电容量值的稳定性很高
高可靠性
WLSC、WBSC、UWSC系列最适合用于作为TOSA、ROSA器件内光芯片电源线上的去耦电容,有助于缩减空间受限的应用装置的体积。例如在0101 (0.25mm×0.25mm)尺寸上实现高达1nF的电容密度——村田的硅电容技术可以成功做到这一点。
100μm的极薄型
低漏电流
高稳定性(温度、电压)
老化后静电容量也极少下降。
支持标准的引线键合封装(球和楔)
接近于激光器和电吸收调制器的热膨胀系数(CTE)(4.2 ppm/K)
与氮化铝(AIN)基板同等的导热率(150W/m.K)
介电常数=11.7
损耗角正切(Loss Tangent)=0.005 @1GHz, 0.015 @10GHz
提高可靠性
可应对宽带
小型化
减少元件数
薄型化
削减总成本
关于村田
株式会社村田制作所是一家进行基于陶瓷的无源电子元件与解决方案、通信模块和电源模块之设计、制造与销售的全球领先企业。村田致力于开发先进的电子材料以及领先的多功能和高密度模块。公司的员工和制造基地遍布世界各地。