注：本书为原书第二版
◆图书简介◆
本书聚焦CMOS模拟集成电路版图设计领域，从版图的基本概念、设计方法和EDA工具入手，循序渐进介绍了CMOS模拟集成电路版图规划、布局、设计到流片的全流程；详尽地介绍了目前主流使用的模拟集成电路版图设计和验证工具——Cadence IC 6.1.7与Siemens EDA Calibre Design Solutions (Calibre)；同时展示了运算放大器、带隙基准源、低压差线性稳压器、模－数转换器等典型模拟集成电路版图的设计实例，并结合实例对LVS验证中的典型案例进行了归纳和总结；最后对集成电路设计使用的工艺设计工具包内容，以及参数化单元建立方法进行了讨论。
本书通过结合基础、工具和设计实践，由浅入深，使读者深刻了解CMOS模拟集成电路版图设计和验证的规则、流程和基本方法，对于进行CMOS模拟集成电路学习的高年级本科生、研究生,以及从事集成电路版图设计与验证的工程师，都能提供有益的帮助。
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◆ 目录：◆
第2版前言
第1版前言
第1章先进集成电路器件1
1.1概述1
1.2平面全耗尽绝缘衬底上硅
(FD-SOI ）MOSFET4
1.2.1采用薄氧化埋层的原因5
1.2.2超薄体中的二维效应8
1.3FinFET11
1.3.1三栅以及双栅FinFET12
1.3.2实际中的结构选择19
1.4碳基晶体管20
1.4.1碳纳米管20
1.4.2碳纳米管场效应晶体管22
1.5版图相关效应26
1.5.1阱邻近效应27
1.5.2浅槽隔离应力效应29
1.6基于gm/ID的设计方法35
1.6.1模拟集成电路的层次
化设计35
1.6.2gm/ID设计方法所处的
地位36
1.6.3gm/ID设计方法的优势37
1.6.4基于Vov的设计方法38
1.6.5gm/ID设计方法详述42
1.6.6基于gm/ID的设计实例46
第2章CMOS模拟集成电路
版图基础48
2.1CMOS模拟集成电路设计
流程48
2.2CMOS模拟集成电路版图
定义51
2.3CMOS模拟集成电路版图
设计流程52
2.3.1版图规划53
2.3.2版图设计实现54
2.3.3版图验证55
2.3.4版图完成56
2.4版图设计通用规则57
2.5版图布局59
2.5.1对称约束下的晶体管级
布局60
2.5.2版图约束下的层次化布局61
2.6版图布线65
2.7CMOS模拟集成电路版图
匹配设计69
2.7.1CMOS工艺失配机理69
2.7.2元器件版图匹配设计
规则71
第3章Cadence Virtuoso 6.1.7
版图设计工具74
3.1Cadence Virtuoso 6.1.7界面
介绍74
3.1.1Cadence Virtuoso 6.1.7
CIW界面介绍75
3.1.2Cadence Virtuoso 6.1.7
Library Manager界面介绍81
3.1.3Cadence Virtuoso 6.1.7
Library Path Editor操作
介绍101
3.1.4Cadence Virtuoso 6.1.7
Layout Editor界面介绍111
3.2Virtuoso 基本操作141
3.2.1创建圆形141
3.2.2创建矩形142
3.2.3创建路径143
3.2.4创建标识名144
3.2.5调用器件和阵列145
3.2.6创建接触孔和通孔147
3.2.7创建环形图形148
3.2.8移动命令149
3.2.9复制命令150
3.2.10拉伸命令151
3.2.11删除命令152
3.2.12合并命令153
3.2.13改变层次关系命令154
3.2.14切割命令155
3.2.15旋转命令156
3.2.16属性命令157
3.2.17分离命令159
3.2.18改变形状命令160
3.2.19版图层扩缩命令160
第4章Siemens EDA Calibre
版图验证工具162
4.1Siemens EDA Calibre版图
验证工具简介162
4.2Siemens EDA Calibre版图
验证工具调用163
4.2.1采用内嵌在Cadence Virtuoso
Layout Editor工具启动163
4.2.2采用Calibre图形界面
启动165
4.2.3采用Calibre查看
器启动166
4.3Siemens EDA Calibre DRC
验证168
4.3.1Calibre DRC验证简介168
4.3.2Calibre Interactive nmDRC
界面介绍171
4.3.3Calibre nmDRC验证
流程举例178
4.4Siemens EDA Calibre nmLVS
验证187
4.4.1Calibre nmLVS验证
简介187
4.4.2Calibre nmLVS界面
介绍188
4.4.3Calibre LVS验证流程
举例200
4.5Siemens EDA Calibre寄生
参数提取(PEX)211
4.5.1Calibre PEX验证简介211
4.5.2Calibre PEX界面介绍212
4.5.3Calibre PEX流程举例224
第5章Calibre验证文件231
5.1Virtuoso Techfile232
5.1.1Virtuoso Techfile内容232
5.1.2修改示例233
5.2Virtuoso Layer Map235
5.2.1Virtuoso Layer Map内容236
5.2.2示例：Virtuoso Layer
Map修改方法236
5.3Virtuoso Symbol CDF236
5.3.1Virtuoso Symbol CDF
内容237
5.3.2示例：Virtuoso参数
修改方法238
5.4SVRF语言240
5.4.1SVRF基本符号使用240
5.4.2SVRF基本 math
function241
5.4.3SVRF 基本格式241
5.4.4Layer Operations运算
输出242
5.5DRC rule243
5.5.1DRC rule内容244
5.5.2DRC rule主要operation244
5.5.3DRC rule 验证方法246
5.5.4修改示例246
5.6LVS（PEX）rule249
5.6.1LVS rule内容249
5.6.2LVS rule器件定义250
5.6.3LVS rule验证方法250
5.6.4示例：pdio18e2r LVS
rule添加方法250
第6章CMOS模拟集成电路版
图设计与验证流程253
6.1设计环境准备253
6.2单级跨导放大器电路的建立
和前仿真259
6.3跨导放大器版图设计270
6.4跨导放大器版图验证与
参数提取281
6.5跨导放大器电路后仿真298
6.6输入输出单元环设计304
6.7主体电路版图与输入输出
单元环的连接312
6.8导出GDSII文件317
第7章运算放大器的版图
设计320
7.1运算放大器基础320
7.2运算放大器的基本特性和分类321
7.2.1运算放大器的基本特性321
7.2.2运算放大器的性能参数322
7.2.3运算放大器的分类326
7.3单级折叠共源共栅运算
放大器的版图设计331
7.4两级全差分密勒补偿运算
放大器的版图设计336
7.5电容—电压转换电路版图
设计340
第8章带隙基准源与低压差线性
稳压器的版图设计348
8.1带隙基准源的版图设计348
8.1.1带隙基准源基本原理348
8.1.2带隙基准源版图设计
实例354
8.2低压差线性稳压器的版图
设计358
8.2.1低压差线性稳压器的
基本原理359
8.2.2低压差线性稳压器版图
设计实例361
第9章模－数转换器版图
设计366
9.1性能参数366
9.1.1静态参数367
9.1.2动态特性369
9.1.3功耗指标372
9.1.4抖动372
9.2模－数转换器的结构及版图
设计373
9.2.1快闪型模－数转换器
（Flash ADC）373
9.2.2快闪型模－数转换器版图
设计376
9.2.3流水线模－数转换器基础
(Pipelined ADC)382
9.2.4流水线模－数转换器版图
设计391
9.2.5逐次逼近模－数转换器
（Successive Approximation
ADC ）392
9.2.6逐次逼近模－数转换器
版图设计398
9.2.7Sigma-delta模－数转
换器401
9.2.8Sigma-delta调制器
版图设计418
9.3混合信号集成电路版图设计420
第10章标准输入输出单元库
版图设计424
10.1标准输入输出单元库概述424
10.1.1标准输入输出单元库
基本性能参数425
10.1.2标准输入输出单元库
分类426
10.2输入输出单元库基本电路
结构427
10.2.1数字双向模块基本
电路结构427
10.2.2模拟输入输出模块
基本电路结构432
10.2.3电源与地模块基本
电路结构434
10.2.4切断单元与连接单元434
10.3输入输出单元库版图设计435
10.3.1数字输入输出单元
版图设计435
10.3.2模拟输入输出单元的
制作448
10.3.3焊盘（PAD）的制作449
第11章Calibre LVS常见错误
解析452
11.1LVS错误对话框（RVE
对话框）452
11.2误连接460
11.3短路462
11.4断路463
11.5违反工艺原理464
11.6漏标468
11.7元件参数错误469
第12章工艺设计工具包471
12.1PDK概述471
12.2输入输出单元库473
12.3模拟PDK文件包478
12.4逻辑PDK文件包480
12.5工艺设计工具包开发简述481
参考文献483
◆ 前言：◆
进入21世纪以来，CMOS（互补金属氧化物半导体）工艺仍是模拟、逻辑集成电路的主流工艺，并在后摩尔时代，向着纳米级继续发展。作为集成电路最为经典的设计形式，CMOS模拟集成电路在当今快速发展的技术革新中依然占据着不可动摇的地位。而其中的模拟集成电路版图设计与验证，又是电路设计到物理实现的关键环节。
与数字集成电路版图主要依据工具实现不同，模拟集成电路版图主要依靠设计者手动实现，设计者的技术水平和产业经验都是一款芯片成败的关键因素。因此本书依托版图设计工具Cadence IC 6.1.7和物理验证工具Siemens EDA Calibre Design Solutions (Calibre)，从模拟集成电路版图的基本概念、方法入手，通过运算放大器、带隙基准源、低压差线性稳压器、模－数转换器等典型模拟集成电路版图的设计实例，向读者介绍模拟集成电路版图设计的理论基础和实用设计方法，以供从事CMOS模拟集成电路版图设计的读者参考讨论之用。
本书内容主要分为6个部分，共12章内容：
第1章首先介绍目前快速发展的先进集成电路器件的理论知识，包括纳米级FinFET（鳍式场效应晶体管）、FD-SOI（全耗尽-绝缘衬底上硅）和碳基晶体管的特点和物理特性。分析了先进工艺节点中的版图相关效应及解决方案。同时对模拟集成电路中的gm/ID设计方法进行详细分析。
第2章重点讨论CMOS模拟集成电路设计的基本流程、模拟集成电路版图定义，之后分小节讨论CMOS模拟集成电路版图的概念、设计、验证流程、布局和布线准则，以及通用的设计规则。
第3~6章分章节详细介绍了版图设计工具Cadence IC 6.1.7、物理验证工具Siemens EDA Calibre、DRC/LVS规则定义、修改法则，以及完整的CMOS模拟集成电路版图设计、验证流程。
第7~10章介绍运算放大器、带隙基准源、低压差线性稳压器、模－数转换器、标准输入输出单元库等基本模拟电路版图规划、布局，以及设计的基本方法。
第11章对Siemens EDA Calibre中LVS验证的常见问题进行了归纳和总结，希望帮助读者快速掌握版图验证的基本分析技巧。
第12章对集成电路设计所使用的工艺设计工具包进行了介绍和讨论，分析了所包含的规则文件和器件模型。
本书内容详尽丰富，具有较强的理论性和实践性。本书由厦门理工学院光电与通信工程学院陈铖颖老师主持编纂，北京邮电大学陈黎明老师、北京大学蒋见花老师和北京理工大学王兴华老师一同编写完成。其中蒋见花老师完成了第1章的编写，王兴华老师进行了第2章的撰写工作，陈铖颖老师完成了第3~11章的编写，第12章由陈黎明老师编写完成。同时感谢中国电子科技集团公司第四十七研究所高级工程师范军，北京中电华大电子设计有限责任公司工程师王鑫，厦门理工学院微电子学院陈智峰、廖文丽、陈继明、陈煌伟同学在查找资料、文档整理、文稿审校方面付出的辛勤劳动，正是有了大家的共同努力，才使本书得以顺利完成。
本书受到厦门市重大科技计划项目（3502Z20221022）和厦门理工学院教材建设基金项目资助。
由于本书涉及器件、电路、版图设计等多个方面，受时间和编者水平限制，书中难免存在不足和局限，恳请读者批评指正。
编者2023年7月
◆ 序言：◆
在现代集成电路中，模拟电路大约占据了75%的比例。据统计，在第一次硅验证过程中，模拟电路的设计通常会耗费40%的设计努力，同时在设计错误中的占比也会超过50%。随着工艺进入纳米级阶段、系统级芯片（System-on-Chip，SoC）功能复杂度的不断提高，模拟设计方法和自动化将成为未来SoC设计的主要瓶颈。而模拟集成电路版图作为模拟设计物理实现的重要环节，在很大程度上决定了一款芯片的成败。
依据CMOS模拟集成电路版图设计与验证的基本流程，依托Cadence IC 6.1.7版图设计工具和Mentor Calibre物理验证工具，编者结合实例介绍了运算放大器等基本模拟电路的版图设计、验证方法，以供学习CMOS模拟集成电路版图设计的读者参考。
本书内容主要分为4个部分，共8章内容：
第1章首先介绍了先进纳米级CMOS器件的理论知识，包括FD-SOI MOSFET和FinFET两种主要结构的特点和物理特性。之后对深亚微米和纳米级工艺中的gm/ID设计方法进行了详细分析。
第2章重点讨论CMOS模拟集成电路设计的基本流程、模拟版图定义，之后分小节讨论CMOS模拟集成电路版图的概念、设计、验证流程、布局和布线准则，以及通用的设计规则，使读者对版图知识有一个概括性的了解。
第3~5章分章节详细介绍了Cadence IC 6.1.7版图设计工具、Mentor Calibre版图验证工具，以及完整的CMOS模拟集成电路版图设计、验证流程。
第3章首先对Cadence IC 6.1.7版图设计仿真环境进行了总体说明，包括Cadence IC 6.1.7软件的主要窗口和菜单项。之后详细介绍了Cadence Virtuoso的各种基本操作和方法。
第4章首先介绍了Mentor Calibre版图验证工具的窗口和菜单项，之后以一款密勒补偿的运算放大器为例，解析进行模拟版图物理验证，以及寄生参数提取的基本方法，使读者初步了解Mentor Calibre的DRC、LVS，以及PEX工具菜单的基本功能。
第5章详细讨论了CMOS模拟集成电路设计的全流程。本章以一个单级跨导放大器电路为实例，介绍电路建立，电路前仿真，版图设计、验证、反提，以及电路后仿真，输入输出单元环拼接直到GDSII文件导出的全过程，使读者对CMOS模拟集成电路从设计到流片的全过程有一个直观的认识。
第6~8章在初步掌握Cadence IC 6.1.7与Mentor Calibre进行版图设计和验证的基础上，通过实例介绍利用Cadence IC 6.1.7版图设计工具、Mentor Calibre物理验证工具进行运算放大器、带隙基准源、低压差线性稳压器等基本模拟电路版图设计的方法。其中第8章对Mentor Calibre中LVS验证的常见问题进行了分析讨论。
本书内容详尽丰富，具有较强的理论性和实践性。本书由厦门理工学院微电子学院陈铖颖老师主持编写，中国电子科技集团公司第四十七研究所高级工程师范军和辽宁大学物理学院尹飞飞老师一同参与完成。其中陈铖颖老师完成了第1、2、5、8章的编写，范军老师完成了第3、4章的编写，尹飞飞老师完成了第6、7章的编写。同时感谢厦门理工学院微电子学院左石凯、蔡艺军、黄新栋、林峰、梁璐老师，以及研究生陈思婷、冯平、杨可、宋长坤同学在资料查找、文档整理和审校方面付出的辛勤劳动。正是有了大家的共同努力，才使本书得以顺利完成。
本书受到厦门理工学院教材建设基金资助项目,福建省教育科学“十三五”规划课题（FJJKCG20-011)，福建省新工科与改革实践项目，厦门市青年创新基金项目（3502Z20206074）的支持。
由于本书内容涉及器件、电路、版图设计等多个方面，以及受时间和编者水平限制，书中难免存在不足和局限，恳请读者批评指正。
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